1.用于测定的芯片，其包括：
基板，其包括至少一个场区域和至少一个示踪区域；
实验位点，其被设置在所述至少一个场区域的第一图形化阵列中，所述第一图形化阵列由第一节距所限定；和
对准位点，其被设置在所述至少一个示踪区域的第二图形化阵列中，所述第二图形化阵列由沿着单一维度的第二节距所限定；
其中，所述第一节距与第二节距的区别为非整数倍，从而允许基于Moiré求平均数的对准。
2.如权利要求1所述的芯片，其中，所述至少一个场区域具有一个目标空间像素/个实验位点的密度。
3.如权利要求1所述的芯片，其中，所述至少一个场区域具有两个目标空间像素/个实验位点的密度，以及其中，所述实验位点以棋盘图形排列在所述至少一个场区域。
4.如权利要求1所述的芯片，其中，所述至少一个场区域具有四个目标空间像素/个实验位点的密度。
5.如权利要求1所述的芯片，其中，所述对准位点适合于支持生化实验。
6.如权利要求1所述的芯片，其中，根据预选的图形删除选择的一些对准位点。
7.如权利要求1所述的芯片，其中，根据伪随机的图形删除选择的一些对准位点。
8.如权利要求1所述的芯片，其中，所述实验位点和所述对准位点被设置为支持生化实验。
9.如权利要求1所述的芯片，其中，除了所述实验位点和所述对准位点之外的基板的区域被设置为抑制靶核酸的结合。
10.如权利要求1所述的芯片，其中，所述实验位点和所述对准位点被设置为支持DNA纳米球的附着。
11.如权利要求1所述的芯片，其中，所述单一维度为水平维度。
12.如权利要求1所述的芯片，其中，所述单一维度为垂直维度。
13.如权利要求1所述的芯片，其中，通过无位点带将所述至少一个示踪区域与所述至少一个场区域分离。
14.如权利要求1所述的芯片，其中，所述单一维度为垂直维度，以及所述至少一个示踪区域的宽度为如下之一：目标空间像素的尺寸的三倍；和目标空间像素的尺寸的五倍。
15.如权利要求1所述的芯片，其中：
所述基板进一步包括水平示踪区域，其被设置为基本垂直于所述至少一个示踪区域；
以及
所述水平示踪区域包括根据沿着基本垂直于所述单一维度的第二维度的第二图形化阵列设置的示踪位点。
16.方法，其包括：
用成像仪器捕获芯片的图像，在所述芯片上已经设置有靶核酸，所述芯片包括：
基板，其包括至少一个场区域和至少一个示踪区域；
实验位点，其被设置在所述至少一个场区域的第一图形化阵列中，所述第一图形化阵列由第一节距所限定；和
对准位点，其被设置在所述至少一个示踪区域的第二图形化阵列中，所述第二图形化阵列由沿着单一维度的第二节距所限定；
其中，所述第一节距与第二节距的区别为非整数倍；以及
其中，所述靶核酸被附着到所述实验位点上和所述对准位点上；
根据相关逻辑基于在图像中记录的信号通过使用，至少部分地使用，Moiré求平均数来确定所述单一维度的第一校正对准项，所述信号是从附着到所述至少一个示踪区域的对准位点上的靶核酸发出的；以及
使芯片与成像仪器基于校正对准项沿所述单一维度自动地对准。
17.如权利要求16所述的方法，其中：
所述芯片的基板进一步包括：水平示踪区域，其被设置成基本垂直于所述至少一个示踪区域，其中，所述水平示踪区域包括根据沿着基本垂直于所述单一维度的第二维度的第二图形化阵列设置的示踪位点；
所述方法进一步包括：
根据相关逻辑基于在图像中记录的信号通过使用，至少部分地使用，Moiré求平均数来确定所述第二维的第二校正对准项，所述信号是从附着到所述第二示踪区域的示踪位点上的靶核酸发出的；以及
使芯片与成像仪器基于所述第二校正对准项沿所述第二维自动地对准。
18.如权利要求16所述的方法，其中，确定单一维度的校正对准项的相关逻辑进一步包括：
作为校正对准项的一部分，至少部分地基于如下确定示踪节距未对准误差：
在图像中记录的信号，所述信号是从附着到所述至少一个示踪区域中的对准位点上的靶核酸发出的；和
表示在所述至少一个示踪区域中的删除位点的图形的信息。
19.如权利要求16所述的方法，其中，所述靶核酸包括DNA纳米球。
20.如权利要求16所述的方法，其中，选择性地删除所述对准位点的亚集以形成缺失的图形，并且确定校正对准项的校正逻辑进一步包括：至少部分地基于表示缺失的图形的有序数据集计算所述校正对准项。