Die Erfindung betrifft ein Verfahren und Vorrichtung zur großflächigen Beschichtung von Substraten bei Atmosphärendruckbedingungen, wobei unter letzterem ein Druckintervall von ± 300 Pa um den jeweiligen Umgebungsatmosphärendruck verstanden werden soll. Mit der erfindungsgemäßen Lösung sollen Beschichtungen bei Atmosphärendruckbedingungen auf großen Flächen, bei gleichzeitiger Vermeidung der unerwünschten Partikelbildung erhalten werden können. Zur Lösung dieser Aufgabe wird in eine Plasmaquelle ein erster Gasstrom geführt, der Plasma aus einem großvolumigen Plasma aus der Plasmaquelle austreibt und das erzeugte Plasma durch mindestens eine Schlitzdüse oder eine Mehrzahl von Düsen auf eine zu beschichtende Oberfläche des Substrates, die innerhalb einer abgedichteten Reaktionskammer angeordnet ist, richtet. Die Schichtausbildung erfolgt unmittelbar auf der Oberfläche des Substrates durch physiko-chemische Reaktion mindestens einer Komponente eines Precursors. Der Precursor ist Bestandteil mindestens eines zweiten Gasstromes, der in die Reaktionskammer und in den Einflussbereich des aus der Plasmaquelle austretenden Plasmas gerichtet wird. Weiter wird durch Einstellung der Volumenströme, der Strömungsgeschwindigkeiten und/oder der Strömungsrichtungen des Plasmas und des zweiten Gasstromes sowie des Abstandes von Düsenöffnungen für das Plasma und eines vorgebbaren Innendrucks in der Reaktionskammer gesichert, dass die physiko-chemische Reaktion zur Ausbildung der Beschichtung unmittelbar an der Oberfläche des Substrates erfolgt.