| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 粘接剂组合物、粘接片、电子设备及其制造方法 | CN201380061490.X | 2013-11-29 | CN104797670B | 2017-12-29 | 西岛健太; 永绳智史; 渊惠美 |
| 本发明是含有源自异戊二烯的重复单元的含量相对于全部重复单元为0.1～99摩尔%的异丁烯‑异戊二烯共聚物作为主要成分的、用于密封电子设备的粘接剂组合物；具有剥离片、和形成在该剥离片上的粘接剂层的粘接片，其中上述粘接剂层是使用上述粘接剂组合物而形成的层；粘接片，其具有阻气膜、和形成在上述阻气膜上的粘接剂层，上述阻气膜是在温度40℃、相对湿度90%的环境下的水蒸气渗透率为0.1g/m2/天以下、且总透光率为80%以上的膜，上述粘接剂层由含有异丁烯‑异戊二烯共聚物作为主要成分的粘接剂组合物形成；以及将上述粘接剂组合物和粘接片用作有机EL元件等的密封材料的电子设备等。根据本发明，可以提供作为防潮性优异、且粘着力优异的粘接剂层的形成材料有用的粘接剂组合物、粘接片、电子设备等。 | ||||||
| 2 | 保护薄膜 | CN201280069498.6 | 2012-12-21 | CN104136507B | 2017-09-01 | 石黑繁树; 千田洋毅; 吉江里美; 关口裕香; 林内梨惠; 远藤明日香 |
| 本发明提供以聚乳酸系薄膜或薄片为基材的保护薄膜，所述聚乳酸系薄膜或薄片具有在保护薄膜的制造时、加工时、卷绕成卷状时等不会断裂、裂开的撕裂强度，而且在超过100℃的高温下也不会熔化、变形。本发明的保护薄膜为在基材的至少一个面上具有再剥离性粘合剂层的保护薄膜，该基材由含有聚乳酸(A)的聚乳酸系薄膜或薄片构成，所述聚乳酸系薄膜或薄片的撕裂强度在至少移动方向(MD方向)上撕裂时为100N/mm以上，加热尺寸变化率在移动方向(MD方向)、宽度方向(TD方向)上均为±3％以内，且加热载荷尺寸变化率在移动方向(MD方向)上为±3％以内。 | ||||||
| 3 | 表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件 | CN201610886204.9 | 2016-10-11 | CN107083196A | 2017-08-22 | 小林弘幸; 春日充; 新见洋人; 铃木千惠; 五十岚智美; 木俣绘美子; 林益史 |
| 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘物污染少、对被粘物的低污染性不会经时变化、具有不经时劣化的优异抗剥离静电性能的表面保护膜及使用其的光学部件。表面保护膜(10)，通过在粘着剂层(2)贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)而成，剥离膜(5)通过在树脂膜(3)一个面上层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)含以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、抗静电助剂，抗静电剂成分为熔点小于30℃的离子性化合物，抗静电助剂为聚醚改性硅酮，抗静电剂成分与抗静电助剂从剥离膜(5)的剥离剂层(4)转印到粘着剂层(2)表面，降低将粘着剂层(2)从被粘物剥离时的剥离静电压。 | ||||||
| 4 | 一种耐潮湿的随意固定黏贴薄膜 | CN201611213838.4 | 2016-12-26 | CN106634664A | 2017-05-10 | 林波 |
| 本发明公开了一种耐潮湿的随意固定黏贴薄膜，包括薄片型基材层，所述基材层的双面分别布设第一黏胶层和第二黏胶层，所述第一黏胶层和第二黏胶层表面分别覆盖有第一离形层和第二离形层；所述第一黏胶层和第二黏胶层的原料按重量百分比计包括：SEBS 45%~55%、环烷油25%~35%和白蜡油15%~25%。本发明的黏贴薄膜可耐潮湿、接受水洗及重复粘贴外物，使用便利且符合环保要求，并可防止所粘贴的书画等艺术作品产生皱纹与曲翘等不良现象，并且有效防止书画长霉与遭受虫蛀，释放香味及产生颜色变化，而增添物品的美观与趣味性。 | ||||||
| 5 | 一种超轻剥离自排气丙烯酸酯压敏涂层材料的制备方法 | CN201610276200.9 | 2016-04-29 | CN105713540A | 2016-06-29 | 许显成 |
| 本发明公开了一种超轻剥离自排气丙烯酸酯压敏涂层材料的制备方法，涉及玻璃、塑料、金属等的表面保护技术领域，前后包括制备聚丙烯酸酯树脂、制备聚丙烯酸酯压敏胶涂布液、制备超轻剥离自排气丙烯酸酯压敏涂层材料三个步骤，得到的超轻剥离自排气丙烯酸酯压敏保护涂层材料超低粘性且排气性能好，可广泛用于各种平滑表面的保护。 | ||||||
| 6 | 一种无基材抗静电AB胶膜及其制备方法 | CN201610037934.1 | 2016-01-20 | CN105524562A | 2016-04-27 | 朱文峰 |
| 本发明公开了一种无基材抗静电AB胶膜及其制备方法，提升钢化玻璃保护膜的保护性能，有效保护智能设备。本发明包含有中离型膜，中离型膜上面引入抗静电高粘层，抗静电高粘层上面引入低粘层，低粘层之上设有重离型膜；低粘层厚度为20～60μm，抗静电高粘层厚度为20～60μm，低粘层为有机硅胶层或聚氨酯树脂层，抗静电高粘层为添加有抗静电剂的丙烯酸树脂层、有机硅胶层、聚氨酯树脂层中的一种。本发明降低了AB胶的厚度，提高了透光效果，同时降低了生产成本；添加抗静电功能，增加了钢化玻璃的使用功能，提升钢化玻璃保护膜的性能。 | ||||||
| 7 | 一种UV聚合型核-壳结构丙烯酸酯压敏胶及制备方法 | CN201610033470.7 | 2016-01-19 | CN105505247A | 2016-04-20 | 赵辉; 蒋涛; 张群朝; 周威; 朱力; 叶恭博 |
| 本发明公开一种UV聚合型核-壳结构丙烯酸酯压敏胶，其包括以下组份：丙烯酸酯共聚物、粘度调节剂、分子量调节剂、界面促进剂、纳米球形粒子、交联剂和光引发剂。本发明利用UV聚合技术，以无机纳米粒子为硬壳，以丙烯酸酯共聚物为软核，形成特殊的硬核软壳结构的丙烯酸酯压敏胶。硬核软壳结构的压敏胶在界面使用以后，由于其界面的应力分散能力极强，可以很好的抵抗热胀冷缩对材料的破坏。同时，本发明采用UV聚合技术，零溶剂，无污染，得到一种UV聚合型核-壳结构丙烯酸酯压敏胶。本发明所制备的丙烯酸酯压敏胶同时具有优异的初粘性，持粘性，剥离强度以及界面润湿性。 | ||||||
| 8 | 压敏性粘合胶带及其制造方法 | CN92102039.2 | 1992-03-25 | CN1065283A | 1992-10-14 | 詹姆士·约瑟夫·斐得金斯基; 罗纳得·拜隆·柏克赫滋 |
| 本发明系关于压敏粘合胶带，特别是具有双轴定向背材之胶带，及用于制备压敏粘合胶带之方法。本发明系提供一种包括由聚合物膜制成之双轴定向背材在其主要之表面有压敏粘合剂层，且在另一主要表面具有低粘合的背侧涂胶层组合物。背材与压敏粘合剂层相互混合，因此在其间形成混合层。本发明亦提供一种制备压敏粘合剂胶带之方法。 | ||||||
| 9 | 无基材双面粘接片 | CN201380058269.9 | 2013-11-05 | CN104781360B | 2017-09-22 | 田中义和; 井崎公裕; 斋藤智久 |
| 本发明提供一种无基材双面粘接片，其作为例如静电容量方式的触摸面板用部件，防静电性、脱模性良好，且脱模膜本身具有低聚物密封性能。该无基材双面粘接片是在粘接剂层的两面分别叠层剥离力不同的脱模膜而成的，关于剥离力，第一脱模膜小于第二脱模膜，至少一个脱模膜是在聚酯膜上叠层含有导电性化合物(A)和粘合剂聚合物(B)的涂布层、在该涂布层上叠层脱模层而得到的脱模膜。 | ||||||
| 10 | 聚乳酸系薄膜或薄片、及粘合带或片 | CN201280069437.X | 2012-12-21 | CN104105745B | 2017-08-25 | 千田洋毅; 石黑繁树; 吉江里美; 关口裕香; 林内梨惠; 远藤明日香 |
| 本发明提供具有在薄膜或薄片的制造时、加工时、卷绕成卷状时等不会断裂、裂开的撕裂强度，而且在超过100℃的高温下也不会熔化、变形的聚乳酸系薄膜或薄片。本发明的聚乳酸系薄膜或薄片的撕裂强度在至少移动方向(MD方向)上撕裂时为100N/mm以上，加热尺寸变化率在移动方向(MD方向)、宽度方向(TD方向)上均为±3％以内，且加热载荷尺寸变化率在移动方向(MD方向)上为±3％以内。 | ||||||
| 11 | 可挤出的聚氨酯剥离涂层 | CN201180057832.1 | 2011-11-28 | CN103237855B | 2017-05-24 | 杨宇; D·T·尤斯特; 王雷; J·O·埃姆斯兰德; J·P·迪齐欧 |
| 本文描述一种剥离材料，所述剥离材料包含：共混物，所述共混物包含：剥离剂，所述剥离剂包含衍生自含有活性羟基的聚乙烯基聚合物和脂族异氰酸酯的氨基甲酸酯聚合物；和载体聚合物，其中大于50重量％的所述载体聚合物为非烯属的，及其制品。 | ||||||
| 12 | 一种抗磁无基材的AB胶及制备方法 | CN201610445879.X | 2016-06-17 | CN105950040A | 2016-09-21 | 朱文峰 |
| 本发明公开了一种抗磁无基材的AB胶及制备方法，具有抗电磁波效果，能有效的保护用户安全。本发明的AB胶自下而上包括：离型膜、高粘胶层、硅胶层、护膜层；离型膜表面设置有高粘胶层，高粘胶层上表面设置有硅胶层，硅胶层上表面覆一层护膜层。本发明的抗磁AB双面胶，双面中间不夹杂基材，有利于降低AB胶厚度和生产成本，能自己安装，具有抗磁效果，能有效的减少电磁辐射。 | ||||||
| 13 | 光学叠层体及面光源装置 | CN201480070593.7 | 2014-12-18 | CN105848879A | 2016-08-10 | 井伊泰规; 原井谦一 |
| 本发明涉及一种光学叠层体，其具备基材和形成在基材上的粘结层，是将粘结层侧贴合在玻璃制的发光面上而被使用的光学叠层体，将构成发光面的玻璃的折射率设为n1、粘结层的折射率设为n2、基材的折射率设为n3时，满足n3≥n2≥n1的关系，粘结层由包含丙烯酸类树脂(A)的丙烯酸类粘结剂组合物形成，丙烯酸类树脂(A)是包含40～93重量％的含芳环单体(a1)和7～60重量％的含羟基单体(a2)的共聚成分[I]的共聚物，且其重均分子量为20万以下。 | ||||||
| 14 | 导电粘合胶带以及由其制得的制品 | CN201480068843.3 | 2014-12-09 | CN105829472A | 2016-08-03 | 崔汀完; J·W·麦卡彻昂 |
| 本发明公开了一种导电单面胶带，所述导电单面胶带包括导电粘合剂层和邻近所述导电粘合剂层定位的非导电聚合物层。所述导电粘合剂层包括具有多个通道的导电多孔基底和在所述通道的至少一部分内定位的粘合剂材料。任选地，粘合剂材料可包含分散在该粘合剂材料内的多个导电粒子。 | ||||||
| 15 | 多层压敏粘合剂膜 | CN201280037672.9 | 2012-07-25 | CN103717690B | 2016-01-13 | S·特拉瑟; J·D·福斯特 |
| 本发明涉及一种在其第一主表面和第二主表面处具有粘合性能的多层压敏粘合剂（PSA）膜，其中所述膜包括至少两个聚合物型压敏粘合剂泡沫材料的叠加层和任选的一个或多个聚合物型泡沫材料的中间层，其中所述PSA膜通过连续自定量方法获得，所述方法包括以下步骤：(a)提供基底，(b)提供两个或更多个涂布刀，所述两个或更多个涂布刀彼此独立地从所述基底偏置，以形成正交于所述基底的表面的间隙，(c)在下游方向上使所述基底相对于所述涂布刀移动，(d)向所述涂布刀的上游侧提供所述聚合物型压敏粘合剂泡沫材料的可固化液体前体和任选的所述聚合物型泡沫材料的可固化液体前体，从而将所述两种或更多种前体通过所述各自的间隙作为叠加层涂布到所述基底上，(e)任选地提供一个或多个保护衬垫并沿着所述涂布刀的上游侧施加所述衬垫，以及(f)固化由此获得的所述多层膜的所述前体，其中所述可固化液体前体的下层由可固化液体前体的相邻上层覆盖，而基本上不暴露所述可固化液体前体的下层。 | ||||||
| 16 | 包含多层聚烯烃聚合物材料的自粘条带和方法 | CN201480008889.6 | 2014-02-11 | CN105143379A | 2015-12-09 | 刘宇锋; 斯蒂芬·A·约翰逊 |
| 本发明描述了一种自粘条带，所述自粘条带包括具有第一主表面和相对的主表面的基底层；设置在所述聚烯烃基底的所述第一主表面上的粘合剂层，所述粘合剂层包含聚烯烃聚合物并任选地还包含增粘树脂；设置在所述聚烯烃基底的相对的主表面上的外层，所述外层包含聚合物，所述聚合物包含至少50重量％的C2-C3烯属烃和至少20重量％的C4-C20α-烯烃。所述自粘条带适于用作握把带或电工胶带。还描述了制备和使用所述条带的方法。 | ||||||
| 17 | 用于受热气动力面上的防腐薄膜 | CN200880102965.4 | 2008-07-28 | CN101778916B | 2015-09-23 | 莱恩·E·马克斯; 布莱恩·C·费萨尔; 道格拉斯·E·韦斯 |
| 本发明提供一种胶带，包括：a)由交联聚合物构成的单层，所述交联聚合物选自交联聚氨酯、交联聚脲和交联的混合聚氨酯/聚脲聚合物，和b)粘合剂层。在另一个实施例中，本发明提供一种防腐构造，首先包括飞行器元件，所述飞行器元件包括：具有外表面的飞行器外壳部分，和与所述飞行器外壳部分连接的能够将所述外表面加热超过65℃的防冰机构；以及其次包括胶带，所述胶带包括至少一层由交联弹性体聚合物构成的层，和粘合剂层，所述交联弹性体聚合物可以是选自交联聚氨酯、交联聚脲和交联的混合聚氨酯/聚脲聚合物的交联聚合物，其中所述胶带通过所述粘合剂层结合到所述飞行器外壳部分的外表面。在另一个实施例中，所述胶带包括至少一层包含交联丙烯酸酯和选自聚氨酯、聚脲和混合聚氨酯/聚脲聚合物的非交联聚合物的半互穿网状聚合物的层。 | ||||||
| 18 | 粘接剂组合物、粘接片、电子设备及其制造方法 | CN201380061490.X | 2013-11-29 | CN104797670A | 2015-07-22 | 西岛健太; 永绳智史; 渊惠美 |
| 本发明是含有源自异戊二烯的重复单元的含量相对于全部重复单元为0.1～99摩尔%的异丁烯-异戊二烯共聚物作为主要成分的、用于密封电子设备的粘接剂组合物；具有剥离片、和形成在该剥离片上的粘接剂层的粘接片，其中上述粘接剂层是使用上述粘接剂组合物而形成的层；粘接片，其具有阻气膜、和形成在上述阻气膜上的粘接剂层，上述阻气膜是在温度40℃、相对湿度90%的环境下的水蒸气渗透率为0.1g/m2/天以下、且总透光率为80%以上的膜，上述粘接剂层由含有异丁烯-异戊二烯共聚物作为主要成分的粘接剂组合物形成；以及将上述粘接剂组合物和粘接片用作有机EL元件等的密封材料的电子设备等。根据本发明，可以提供作为防潮性优异、且粘着力优异的粘接剂层的形成材料有用的粘接剂组合物、粘接片、电子设备等。 | ||||||
| 19 | 剥离剂组合物、剥离片以及粘合体 | CN201180038527.8 | 2011-08-03 | CN103052697B | 2015-01-07 | 山口优美; 高桥亮; 铃木悠大 |
| 本发明涉及一种剥离剂组合物，其包含聚酯树脂（A）、含有下述通式（1）表示的结构单元的丙烯酸类聚合物（B）、交联剂（C）。当聚酯树脂（A）的混合量为A质量份、所述丙烯酸类聚合物（B）的混合量为B质量份时，质量比A/B是50/50～95/5，（在通式（1）中，R1表示氢原子或甲基，R2表示碳原子数为12～16的烷基）。 | ||||||
| 20 | 保护薄膜 | CN201280069498.6 | 2012-12-21 | CN104136507A | 2014-11-05 | 石黑繁树; 千田洋毅; 吉江里美; 关口裕香; 林内梨惠; 远藤明日香 |
| 本发明提供以聚乳酸系薄膜或薄片为基材的保护薄膜，所述聚乳酸系薄膜或薄片具有在保护薄膜的制造时、加工时、卷绕成卷状时等不会断裂、裂开的撕裂强度，而且在超过100℃的高温下也不会熔化、变形。本发明的保护薄膜为在基材的至少一个面上具有再剥离性粘合剂层的保护薄膜，该基材由含有聚乳酸(A)的聚乳酸系薄膜或薄片构成，所述聚乳酸系薄膜或薄片的撕裂强度在至少移动方向(MD方向)上撕裂时为100N/mm以上，加热尺寸变化率在移动方向(MD方向)、宽度方向(TD方向)上均为±3％以内，且加热载荷尺寸变化率在移动方向(MD方向)上为±3％以内。 | ||||||
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