子分类：
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 聚合物颗粒及其制造方法 | CN201110055372.0 | 2011-03-08 | CN102190780B | 2013-03-27 | 间瀬畅之; 佐古猛; 冈岛泉; 森俊介; 水野慧士; 山内祥敬; 根本太一; 田中千秋; 关口圣之; 石塚润 |
| 本发明涉及聚合物颗粒及其制造方法。所述制造方法包括：(A)在压缩流体中在表面活性剂的存在下使用催化剂使能开环聚合的单体聚合和造粒，或(B)在压缩流体中在有机硅表面活性剂的存在下使能加成聚合的单体聚合和造粒。 | ||||||
| 2 | 硅烷涂布材料以及生产硅烷涂层的方法 | CN200780038197.6 | 2007-09-10 | CN101589117B | 2013-03-06 | S·赛皮尔; N·拉耶; C·瑟恩; G·施里克 |
| 本发明涉及硅烷涂布材料以及生产硅烷涂层的方法。为提供根据前文所述的避免上述缺陷的硅烷涂布材料，根据本发明推荐一种生产硅烷涂层的方法，其中用反应物掺混一种或多种未预缩合或仅略微预缩合的硅烷，随后将由此得到的涂布材料施涂至基底上并固化。表现出令人惊奇的是，经过该较高分子量和仅略微预交联的硅烷和合适反应物的反应，可以制得一种新的涂布材料。根据现有技术的状况，通过溶胶-凝胶法处理硅烷，其中是从经预缩合的物质出发。根据本发明的方法则相反，在不存在适用期限制方面是有利的，此外，还得到更好的涂布材料性能，尤其是高耐划伤性。 | ||||||
| 3 | 可由双聚合获得的低K电介质 | CN200980114788.6 | 2009-04-28 | CN102017015B | 2013-01-16 | A·克里普; A·郎格; H-J·黑内尔 |
| 本发明涉及一种具有3.5或更小的介电常数的介电层，其包含可由至少一种双单体聚合得到的电介质，所述至少一种双单体包含：a)包含金属或半金属的第一单体单元，以及b)通过化学键连接至该第一单体单元的第二单体单元，其中所述聚合包括通过使该化学键断裂并形成包含该第一单体单元的第一聚合物及包含该第二单体单元的第二聚合物而使该双单体聚合，且其中该第一单体单元及该第二单体单元通过相同机理聚合。 | ||||||
| 4 | 硅烷涂布材料以及生产硅烷涂层的方法 | CN201110445200.4 | 2007-09-10 | CN102533103A | 2012-07-04 | S·赛皮尔; N·拉耶; C·瑟恩; G·施里克 |
| 本发明涉及硅烷涂布材料以及生产硅烷涂层的方法。为提供根据前文所述的避免上述缺陷的硅烷涂布材料，根据本发明推荐一种生产硅烷涂层的方法，其中用反应物掺混一种或多种未预缩合或仅略微预缩合的硅烷，随后将由此得到的涂布材料施涂至基底上并固化。表现出令人惊奇的是，经过该较高分子量和仅略微预交联的硅烷和合适反应物的反应，可以制得一种新的涂布材料。根据现有技术的状况，通过溶胶-凝胶法处理硅烷，其中是从经预缩合的物质出发。根据本发明的方法则相反，在不存在适用期限制方面是有利的，此外，还得到更好的涂布材料性能，尤其是高耐划伤性。 | ||||||
| 5 | 胺有机硼烷络合物引发的含有硅氧烷可聚合组分的可聚合组合物 | CN200610141236.2 | 2004-02-20 | CN1931904B | 2011-04-06 | M·F·索南夏因; S·P·韦布; B·L·文特; D·R·哈林顿 |
| 在一个实施方案中，本发明是一种可聚合组合物，其包含：a)一种有机硼烷胺络合物；b)一种或多种具有能够通过自由基聚合进行聚合反应的烯属不饱和基团的单体、低聚物或聚合物；c)一种或多种具有硅氧烷主链以及能够进行聚合反应的活性部分的化合物、低聚物或预聚物；d)一种用于聚合一种或多种具有硅氧烷主链以及能够进行聚合的活性部分的化合物、低聚物或预聚物的催化剂。该组合物可以进一步包含一种可引起有机硼烷胺络合物离解的化合物。在一个优选的实施方案中，双组分组合物进一步包含一种化合物，其既与b)一种或更多种具有能够通过自由基聚合进行聚合反应的烯属不饱和基团的单体、低聚物或聚合物；又与c)一种或更多种具有硅氧烷主链以及能够进行聚合的活性部分的化合物、低聚物或预聚物具有反应活性。该组合物能够通过将其两组分接触的方式聚合。在另一个实施方案中，本发明是一种包含具有配体的烷基硼烷的有机硼烷胺络合物，其中该配体是烷基、环烷基或者是两者和氨基硅氧烷。 | ||||||
| 6 | 具有在其上形成的底涂层的玻璃基底和防雾制品 | CN200480036617.3 | 2004-11-25 | CN1898171B | 2010-08-18 | 平野敏裕; 弘津透; 村田昇; *河雅浩; 板仓伸行 |
| 本发明涉及玻璃基底，其特征在于它具有在其上形成且包括具有亚烷基的可水解硅化合物的水解产物以及可水解的锆化合物或者可水解的钛化合物的水解产物的底涂层，且在底涂层中，以重量比计，锆的用量为硅用量的0.0002倍到0.0025倍，或者以重量比计，钛的用量为硅用量的0.0005倍到0.0045倍。此外，本发明涉及防雾制品，所述防雾制品具有显示出吸水性能和/或亲水性能且在玻璃基底的底涂层上形成的树脂膜。 | ||||||
| 7 | 制备涂层材料的方法 | CN200880016878.7 | 2008-04-08 | CN101679598A | 2010-03-24 | N·拉耶; C·瑟恩; S·赛皮尔 |
| 本发明涉及一种用于制备涂层材料的方法。本发明还涉及所述涂层材料的用途。为了提供用于制备新型涂层材料的方法，利用所述方法可以制造耐磨的涂层，在本发明的范围内提出，具有至少一个官能团的一种或多种有机分子、低聚物或聚合物与有机侧链上具有至少一个官能有机基团的一种或多种硅烷，在有机分子、低聚物或聚合物与硅烷之间形成共价键的情况下反应，从而得到可直接通过催化剂固化的较高分子量的硅烷。令人惊奇地显示，通过有机官能化(例如NCO官能化)的硅烷(和大多数情况下少量的预交联)与适合的反应组分的反应可以产生新的类型的化合物，它可以用作涂层材料，例如以粉末漆或高固含量粘合剂或100％的树脂形式。 | ||||||
| 8 | 使用绝缘膜成膜用原料的成膜方法 | CN200410086722.X | 2004-10-26 | CN100530444C | 2009-08-19 | 高松勇吉; 米山岳夫; 十七里和昭; 副岛宜胜; 桐山晃二; 石井隆史 |
| 本发明提供用旋转喷涂法、喷雾沉积法或CVD法在各种基板的表面形成高质量、高纯度的含有锂的绝缘膜或者含有硅酸锂的绝缘膜的绝缘膜成膜用原料及使用该原料的成膜方法。本发明的绝缘膜成膜用原料由锂的烷氧基化合物和、从醚、酮、酯、醇或烃选出的1种以上的有机溶剂组成，或者由锂的烷氧基化合物或锂的羧酸盐、四甲氧基硅烷或者四乙氧基硅烷及有机溶剂组成，本发明的成膜方法是使用这些原料进行成膜的。 | ||||||
| 9 | 金属的防腐 | CN03826421.8 | 2003-09-23 | CN100473469C | 2009-04-01 | P·阿尔伯特; E·米; E·尤斯特 |
| 本发明涉及一种金属防腐的涂层，包括下列的层序列：(i)金属表面，(ii)基于含硅化合物的溶胶的层，(iii)基于至少一种有机硅烷的层，(iv)如果需要，一种或多种涂层膜。本发明还涉及上述涂层的制备方法及其用途。 | ||||||
| 10 | 用于水输送氟化硅烷的组合物 | CN02822644.5 | 2002-10-25 | CN100349959C | 2007-11-21 | 迈克尔·S·特拉萨斯; 马克·J·佩尔特; 鲁道夫·J·达姆斯 |
| 本发明涉及用于将氟化硅烷水输送到基底上的可稀释的非水浓缩物和水稀释物，用水稀释物组合物处理基底从而使其斥油和斥水的方法，及具有由水稀释物制得的涂层的制品。 | ||||||
| 11 | 用于防反射表面的防污涂层及其制备方法 | CN98813320.2 | 1998-06-11 | CN1308402C | 2007-04-04 | J·M·英维; M·J·佩莱里特 |
| 本发明揭示了用于防反射表面(特别是防反射薄膜叠层的外表面)的防污涂层，上述的防污涂层包括氟化硅氧烷，该涂层较好通过涂布氟化硅烷的涂料组合物制得，上述氟化硅烷的数均分子量至少约为1000，且用通式(I)Rf-[-R1-SiY3-xR2x]y表示，式中，Rf是单价或二价多氟聚醚基，R1是二价亚烷基、亚芳基、或它们的结合；R2是低级烷基，Y是卤素、低级烷氧基、或低级酰氧基；x是0或1；y是1或2。 | ||||||
| 12 | 用于改善耐碱性氟弹性体对金属、陶瓷或玻璃基底之粘合性的组合物 | CN03810471.7 | 2003-05-06 | CN1303135C | 2007-03-07 | R·E·福勒 |
| 促进粘合的底涂料组合物包括a)环氧硅烷、b)多羟基化合物和c)有机化合物的混合物，该组合物能够改善金属、陶瓷或玻璃表面与可用多羟基或过氧化物固化的耐碱性氟弹性体之间的粘合性。 | ||||||
| 13 | 用于制造气体阻挡层的组合物 | CN200480030782.8 | 2004-10-13 | CN1894353A | 2007-01-10 | R·埃德尔曼; J·蒙基维茨; B·博鲁普; R·梅纳特; C·埃尔斯纳; H·库利克; C·布赖特维泽尔 |
| 用于制造气体阻挡层的有机硅烷基组合物，其包含(i)至少一种有机烷氧基硅烷，其有机官能度显示至少一个不饱和烃基，(ii)至少一种氨基烷基烷氧基硅烷，(iii)至少一种多元醇，(iv)任选地，另一种烷氧基硅烷或烷氧基硅氧烷，和(v)任选地，至少一种纳米或微米级半金属氧化物或金属氧化物，半金属氧化物氢氧化物或金属氧化物氢氧化物，或半金属氢氧化物或金属氢氧化物，和/或(vi)至少一种由组分(i)、(ii)、(iii)和任选(iv)以及任选(v)构成的共缩物，和/或(vii)由组分(i)、(ii)、(iii)和任选(iv)以及任选(v)在水解条件下制得的反应产物，(viii)和有机溶剂，前提是存在一种摩尔比(i)∶(ii)∶(iii)，其中(i)＝1和(ii)＝0.5－1.5和(iii)＝0.3－1.1。本发明还涉及制造上述组合物的方法及其用途，并涉及利用该组合物制得的包装材料。 | ||||||
| 14 | 有双硅烷添加剂的烯化亚胺/有机阻隔涂料 | CN01806000.5 | 2001-02-21 | CN1243063C | 2006-02-22 | I·J·朗瓦拉; J·E·维曼; P·J·J·莫林; S·M·纳纳瓦提; L·M·塞贝尔; L·加莱兹 |
| 一种使基质阻隔气体、香味和香气透过的组合物，所述组合物通过烯属不饱和酸、双硅烷和多胺混合形成。 | ||||||
| 15 | 硅烷聚合物及硅膜的形成方法 | CN200480000672.7 | 2004-06-11 | CN1697781A | 2005-11-16 | 岩泽晴生; 王道海; 松木安生; 加藤仁史 |
| 本发明提供从在基板上涂布时的浸润性、沸点和安全性的观点来看，分子量更大的硅烷聚合物。特别是提供可以容易地形成优质的硅膜的组合物。本发明还提供含有对具有光聚合性的硅烷化合物照射特定波长范围的光线进行光聚合得到的硅烷聚合物的硅膜形成用组合物，以及在基板上涂布该组合物，并进行热处理和/或光处理的硅膜形成方法。 | ||||||
| 16 | 硅烷基涂料组合物和用其得到的涂覆制件及其使用方法 | CN01808313.7 | 2001-02-08 | CN1227312C | 2005-11-16 | J·B·舒特 |
| 在金属和非金属表面提供耐久抗腐蚀涂层的硅烷基涂料组合物。典型的组合物可包括一种硅烷或硅烷的混合物，正如甲基三甲氧基硅烷和苯基三甲氧基硅烷。涂料组合物可用酸催化剂或碱催化剂配制，后者特别适合于涂覆钢质基体。叙述了食品和饮料容器、汽车面漆、HVAC表面、碱金属硅酸盐、混凝土等的涂料。打底涂料组合物包括两种或多种多官能有机硅烷(但没有单官能有机硅烷)，能给金属提供附着力强的打底涂层并与聚氨酯、环氧树脂和其它树脂有很强的附着力。 | ||||||
| 17 | 绝缘膜成膜用原料及使用该原料的成膜方法 | CN200410086722.X | 2004-10-26 | CN1622225A | 2005-06-01 | 高松勇吉; 米山岳夫; 十七里和昭; 副岛宜胜; 桐山晃二; 石井隆史 |
| 本发明提供用旋转喷涂法、喷雾沉积法或CVD法在各种基板的表面形成高质量、高纯度的含有锂的绝缘膜或者含有硅酸锂的绝缘膜的绝缘膜成膜用原料及使用该原料的成膜方法。本发明的绝缘膜成膜用原料由锂的烷氧基化合物和、从醚、酮、酯、醇或烃选出的1种以上的有机溶剂组成，或者由锂的烷氧基化合物或锂的羧酸盐、四甲氧基硅烷或者四乙氧基硅烷及有机溶剂组成，本发明的成膜方法是使用这些原料进行成膜的。 | ||||||
| 18 | 以含环氧基的硅烷为基础的涂料组合物 | CN98808626.3 | 1998-08-17 | CN1155672C | 2004-06-30 | P·比尔; J·根兹 |
| 本发明涉及一种涂料组合物；包含至少一种硅化合物(A)，所述化合物(A)含有至少一个不能水解脱离的、直接键合到Si上的、含有环氧基的基团；粒状材料(B)，选自Si、Al和B和过渡金属元素的氧化物、氧化物水合物、氮化物和碳化物，其粒度为1～100nm；Si、Ti、Zr、B、Sn和V的化合物(C)以及至少一种可水解的Ti、Zr或Al的化合物(D)；其比例如下：1mol硅化合物(A)，0.42～0.68mol粒状材料(B)，0.28～1.0mol化合物(C)和0.23～0.68mol化合物(D)。 | ||||||
| 19 | 共聚物膜的制作方法、通过该形成方法制作的共聚物膜、及利用共聚物膜的半导体装置 | CN02804213.1 | 2002-07-01 | CN1489610A | 2004-04-14 | 林喜宏; 川原润 |
| 本发明提供当用作构成半导体装置的层间绝缘膜时，在与与其下表面、上表面接触的其它半导体材料的界面上具有高附着性，另外膜整体的有效介电常数可以进一步降低的有机聚合物膜的制作方法。具体地，将气体的多种有机单体穿过在反应室内生成的等离子后喷射到加热的衬底表面上，形成含有由多种有机单体单元构成的骨架的共聚物膜。在该方法中，通过在膜生长的进程中变化各有机单体的相对供给量，从而连续生长层间绝缘膜，其中具有优良的机械强度及附着性、富含硅氧烷结构的膜设置在界面附近(91a、c，92a、c或93a、c)，并且具有低堆积密度的膜设置在它们中间作为中间层(91b、92b或93b)。 | ||||||
| 20 | 新型含氟化合物及其制造方法和它的聚合物 | CN01810525.4 | 2001-05-30 | CN1431988A | 2003-07-23 | 柏木王明; 尾川元; 佐藤正邦; 大春一也; 金子勇; 杉山德英; 立松伸 |
| 本发明提供了用作耐热性佳的光学树脂材料的新型聚合物、和用于制得该聚合物的新型单体等。CF2＝CF(CF2)nC(CF3)ROCF＝CF2[条件是，式中的R表示氟原子或三氟甲基、n表示1～3的整数]所表示的含氟二烯烃和它的聚合物。 | ||||||
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