| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 一种十溴二苯乙烷脱溴产物的制备及分离纯化方法 | CN202410206083.3 | 2024-02-26 | CN117776859B | 2024-05-17 | 张文睿; 曾冬娟; 王艳龙; 梁鹏; 陈军辉; 孔彪; 李湘萍; 张亚青; 辛正豪; 雷永超; 董炳骏; 刘桂玉 |
| 本发明公开了一种十溴二苯乙烷脱溴产物的制备及分离纯化方法，涉及化合物分离纯化技术领域。该方法依次包括十溴二苯乙烷光降解样品制备；脱溴转化产物检测、分离、制备、称量以及纯度测定。本发明基于十溴二苯乙烷光降解实验，针对脱溴降解产物弱极性的特点，首次采用高效液相色谱‑大气压光电离‑飞行时间质谱（HPLC‑APPI‑TOF/MS）联合半制备液相色谱（SP‑HPLC）技术，通过对十溴二苯乙烷脱溴化合物质谱分析、分离条件优化，制备得到纯度较高的2个八溴二苯乙烷同分异构体、1个七溴二苯乙烷和1个六溴二苯乙烷，本发明方法为十溴二苯乙烷脱溴产物的制备提供了科学有效的技术支持。 | ||||||
| 2 | 鎓盐、抗蚀剂组成物、及图案形成方法 | CN202311342145.5 | 2023-10-17 | CN117903029A | 2024-04-19 | 福岛将大 |
| 本发明涉及鎓盐、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供在光刻中，无论正型或负型，皆为高感度且分辨度优良，可改善LWR、CDU，且可抑制抗蚀剂图案的崩塌的抗蚀剂组成物所使用的新颖鎓盐。该课题的解决手段为一种鎓盐，其特征为：是下述通式(1)表示者。式中，n1为0或1的整数。n2为0～3的整数。R1a为卤素原子、或也可含有杂原子的碳数1～20的烃基。n3为0～3的整数。R1b为也可含有杂原子的碳数1～36的烃基。n4为1或2的整数。Z+表示鎓阳离子。 | ||||||
| 3 | 一种二芳基碘鎓盐光引发剂及其制备方法与应用 | CN202410034027.6 | 2024-01-09 | CN117902952A | 2024-04-19 | 周威武; 刘子桐 |
| 本发明实施例公开了一种二芳基碘鎓盐光引发剂及其制备方法与应用。本发明提供的所述式I所示化合物，具有优良的光引发阳离子聚合物能力。同时，它对200～660nm的紫外可见光具有快速、稳定的响应能力，可引发单体发生聚合。本发明提供的方法高效宏量、成本低，具有良好的应用前景。 | ||||||
| 4 | 碳水化合物单膦、它们的制备方法和用途注意：申请人在申请日后补交了实验数据，但该数据并未包含在本授权公告文档中。 | CN201811179558.5 | 2018-10-10 | CN111018923B | 2024-04-19 | 施继成; 张力学 |
| 本发明提供具有通式Ia、Ib、IIa或IIb的碳水化合物单膦，包括磷原子构型不同的Ia和Ib的混合物或者磷原子构型不同的IIa和IIb的混合物，和它们的制备方法；本发明描述了碳水化合物单膦的硼烷加合物、氧化物、硫化物或硒化物；此外，本发明还提供了碳水化合物单膦配位的钯络合物；碳水化合物单膦与钯盐或络合物组成的催化体系、或碳水化合物单膦配位的钯络合物在催化有机反应中的用途亦是本发明的一部分，特别是在催化（拟）卤代芳烃去形成新的C‑C、或C‑N键的偶联反应中的用途。#imgabs0# | ||||||
| 5 | 鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法 | CN202311326718.5 | 2023-10-13 | CN117886728A | 2024-04-16 | 福岛将大 |
| 本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优良且为高感度、高对比度、且EL、LWR等光刻性能优良的化学增幅抗蚀剂组成物所使用的鎓盐，以及提供含有该鎓盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段是以下式(1)表示的鎓盐。 | ||||||
| 6 | 鎓盐、抗蚀剂组成物、及图案形成方法 | CN202311310519.5 | 2023-10-11 | CN117865865A | 2024-04-12 | 福岛将大 |
| 本发明涉及鎓盐、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供在光刻中，为高感度且分辨度优良，可改善LWR、CDU，且可抑制抗蚀剂图案的崩塌的抗蚀剂组成物及其所使用的新颖鎓盐。该课题的解决手段为一种鎓盐，其特征为：是下述通式(1)表示者。 式中，n1为0或1的整数。n2为0～3的整数。R1a为也可含有杂原子的碳数1～20的烃基。n3为0～3的整数。R1b为也可含有杂原子的碳数1～36的烃基。XA为和相邻的‑NH一起形成酰胺键的对应的羰基、或和相邻的‑NH一起形成磺酰胺键的对应的磺酰基中的任一者。n4为1或2的整数。Z+表示鎓阳离子。 | ||||||
| 7 | 4-溴-2-环丙基-三氟甲苯的合成方法 | CN202311848764.1 | 2023-12-29 | CN117820075A | 2024-04-05 | 徐红岩; 王鹏涛 |
| 本发明涉及一种4‑溴‑2‑环丙基‑三氟甲苯的合成方法。主要解决此化合物缺少工业化合成方法的技术问题。本发明合成步骤：将3‑溴‑4‑三氟甲基苯胺，环丙基硼酸，磷酸钾，和四三苯基膦钯在甲苯和水中，加热得到化合物1，产品柱层析提纯；提纯后的化合物1在丙酮中，与氢溴酸，亚硝酸钠和溴化亚铜反应，粗品柱层析纯化得到目标产物。 | ||||||
| 8 | 一种2，2-二氟-4，4-二甲基-1,1-联苯的合成方法 | CN202311738024.2 | 2023-12-18 | CN117756601A | 2024-03-26 | 吴孝举; 姜友法; 冯广军; 王宝林; 朱建荣; 余金健; 马晨 |
| 本发明属于化学合成领域，涉及一种2，2‑二氟‑4，4‑二甲基‑1,1‑联苯的合成方法。具体，以上述卤代苯(Ⅰ)为原料，先进行格氏反应生成卤代苯的格氏试剂，再在氯代过渡金属盐的催化下与原料偶联得到2，2‑二氟‑4，4‑二甲基‑1,1‑联苯(Ⅱ)。本发明方法得到白色固体2，2‑二氟‑4，4‑二甲基‑1,1‑联苯(Ⅱ)，HLPC含量99％，收率为85％。本发明原料易得，工艺简单，有效的降低了催化剂和含磷废水的处理成本，具有较好的工业应用前景。 | ||||||
| 9 | 鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法 | CN202311209276.6 | 2023-09-19 | CN117736128A | 2024-03-22 | 福岛将大; 畠山润; 大桥正树 |
| 本发明涉及鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优良且为高感度、高对比度、EL、LWR等光刻性能优良同时即使在微细图案形成时图案崩塌耐性仍强且蚀刻耐性亦优良的化学增幅抗蚀剂组成物所使用的鎓盐型单体，以及提供含有来自该鎓盐型单体的重复单元的聚合物、含有该聚合物的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段是一种鎓盐型单体，以下式(a1)或(a2)表示。 | ||||||
| 10 | 一种3,5-二卤芳香化合物的制备方法 | CN202311640625.X | 2023-12-01 | CN117645526A | 2024-03-05 | 谢应波; 张庆; 张华; 罗桂云; 曹云; 王涛涛 |
| 本申请涉及化学合成领域，具体公开了一种3,5‑二卤芳香化合物的制备方法。该制备方法包括：将化合物I与卤源、氧化剂混合，进行卤代反应，得到化合物II；将化合物II在质子酸和亚硝酸盐的存在下，进行重氮化反应，随后加入还原剂进行还原反应，得到化合物III。本申请通过上述反应路线，无须使用强氧化剂，对环境友好；且合成路线简单，部分反应可以实现连投，极大的减少了操作步骤，提高了合成效率。在实际应用中通过对R基进行不同选择，例如甲基、苯基、叔丙基、苄基等，可以获得多种有价值的3,5‑二卤芳香化合物，应用前景广阔。 | ||||||
| 11 | 鎓盐、酸扩散控制剂、抗蚀剂组成物、及图案形成方法 | CN202311028366.5 | 2023-08-16 | CN117586163A | 2024-02-23 | 福岛将大 |
| 本发明涉及鎓盐、酸扩散控制剂、抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的课题是提供在光刻中，为高感度且分辨度优良，可改善LWR(粗糙度)、CDU(尺寸均匀性)，且可抑制抗蚀剂图案的崩塌的抗蚀剂组成物所使用的鎓盐。该课题的解决手段为一种鎓盐，其特征为：是下述通式(1)表示者。式中，RALU表示和相邻的氧原子一起形成的叔醚、叔碳酸酯、或缩醛中的任一者。I表示碘原子。又，Ra为也可含有杂原子的碳数1～20的烃基。Z+表示鎓阳离子。 | ||||||
| 12 | 鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物、及图案形成方法 | CN202311025714.3 | 2023-08-15 | CN117586162A | 2024-02-23 | 福岛将大; 渡边朝美; 山田健司 |
| 本发明涉及鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物、及图案形成方法。本发明的目的在于提供于使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度、曝光余裕度、线宽粗糙度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物使用的鎓盐、含有该鎓盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种下式(1)表示的鎓盐。 | ||||||
| 13 | dl-(±)-β-甲基戊基三联苯类液晶化合物及其制备方法和应用 | CN202311475770.7 | 2023-11-08 | CN117510315A | 2024-02-06 | 吴胜莉; 李宝林; 袁骞; 雷孟龙; 张智勇; 汪相如; 张泽龙; 高时汉 |
| 本发明公开了一种dl‑(±)‑β‑甲基戊基三联苯类液晶化合物及其制备方法和应用，该液晶化合物具有如结构式(Ⅰ)所示结构： 其中，X1‑X6各自独立地选自‑H、‑F、‑Cl或‑CH3，Y独立地选自‑F、‑NCS或‑OCF3，dl‑(±)‑β‑甲基戊基为非手性烷基。本发明将非手性dl‑(±)‑β‑甲基戊基引入到三联苯液晶化合物的设计合成中，以异硫氰基(‑NCS)、F原子和三氟甲氧基(‑OCF3)等为极性端基，在不同苯环侧位上引入F原子、Cl原子或‑CH3等取代基，用以改善苯环电子云分布密度，增加分子极性和π‑电子共轭程度，降低分子间作用力和有序度，从而获得到较大双折射率、较大介电常数和低熔点、较宽向列相温度范围的新型三联苯液晶化合物。 | ||||||
| 14 | 一种有机发光材料中间体2-氯苯并[9,10]菲的制备方法 | CN202311528914.0 | 2023-11-16 | CN117466701A | 2024-01-30 | 孟凡成; 徐引; 姜亚楠; 成春文; 朱宇; 丁宗苍 |
| 本发明涉及有机发光材料技术领域。本发明提供一种本发明提供了一种2‑氯苯并[9,10]菲的制备方法，其中，所述方法包括步骤1：在第一溶剂、第一催化剂、第一碱存在条件下，联苯‑2‑硼酸与2‑溴‑4‑氯‑1‑碘苯经过偶联反应制备得到2‑溴‑4‑氯1,1':2',1”‑三联苯；步骤2：2‑溴‑4‑氯1,1':2',1”‑三联苯在第二溶剂、第二催化剂、第二碱存在条件下，经关环反应制备得到2‑氯苯并[9,10]菲。该方法反应路线新颖，后处理简单，产率高，适合工业化生产。 | ||||||
| 15 | 一种联苄类化合物的制备方法 | CN202210330363.6 | 2022-03-30 | CN114591138B | 2024-01-30 | 冯柏成; 陈晨; 张传保; 金岩; 李敬华 |
| 本发明属于有机化合物合成技术领域，具体涉及一种联苄类化合物的制备方法。本发明是以甲苯类化合物为原料，以高催化活性、可循环使用及环境友好的固体超强碱作为催化剂，将上述的原料及催化剂置于固定床反应器中来制备联苄类化合物的。本发明的方法其具体步骤是：将固体超强碱催化剂装入固定床反应器，再将甲苯类化合物溶于反应器内的溶剂中，保持常温或加热至设定的反应温度，通入氧气或空气，待反应完成后经析出、过滤和重结晶得到联苄类化合物。本发明中，采用的固体超强碱催化剂具有优异的催化活性且污染小，并且反应结束后，可将催化剂加以处理以便于循环使用，大大的节省了生产成本。 | ||||||
| 16 | 液晶化合物、液晶组合物及液晶显示元器件 | CN202210573540.3 | 2022-05-25 | CN117165303A | 2023-12-05 | 张虎波; 李明; 王璐璐; 张仁泽; 赵磊; 郝志鑫 |
| 本发明公开了一种液晶化合物，所述液晶化合物的结构式如下式Ⅰ所示，该液晶化合物具有较好的低温互溶性，且在抗紫外方面有较好的表现，能够有效提升液晶组合物的对比度。本发明还公开了包含该液晶化合物的液晶组合物以及液晶显示元件或液晶显示器。 | ||||||
| 17 | 一种4-溴联苯的合成方法 | CN202111639293.4 | 2021-12-29 | CN114195617B | 2023-12-05 | 王兵波; 张森; 王伟; 张晓弟; 宋立雪 |
| 本发明公开了一种4‑溴联苯的合成方法，其依次包括有如下步骤：(1)混合制备；(2)氧化反应；(3)分离蒸馏。有益效果：本发明提供了一种4‑溴联苯的合成方法，反应条件温和，不存在安全隐患，同时也无需使用大量的强酸强碱，避免了产生大量的副产盐，减少了经济成本；同时4‑溴联苯产品的实收率高，产品纯度高，质量好，制备工艺简单。 | ||||||
| 18 | 一种腙催化剂实现的由芳基硼酸制备联芳烃类化合物的方法 | CN202111385681.4 | 2021-11-22 | CN114149298B | 2023-11-24 | 朱纯银; 夏鸿宇; 张文凯; 赵东波 |
| 本发明属于有机化学合成技术领域，公开了一种腙催化剂实现的由芳基硼酸制备联芳烃类化合物的方法，在该方法中，腙可以同时作为金属配体和光催化剂，即双功能催化剂，在空气作为氧化剂的温和条件下合成联芳烃。在该方法中，使用空气作为氧化剂、可见光作为能量源，实现了温和条件下联芳烃的合成。该方法绿色环保，并且使用廉价金属，价格十分低廉，适合工业化应用。 | ||||||
| 19 | 一种十溴二苯乙烷的制备方法 | CN202111547667.X | 2021-12-17 | CN114213210B | 2023-11-10 | 丁忠锋; 刘孔忠; 谢忠财; 王海涛; 张腾腾; 段俊彪; 杨明辉 |
| 本发明涉及一种十溴二苯乙烷的制备方法，在溴化阶段加入负载型复合催化剂，所述负载型复合催化剂是以阳离子表面活性剂改性蒙脱土为载体，负载复合催化剂，所述复合催化剂是铁盐和/或铝盐、锑盐和有机镍配合物的混合物。本发明通过以改性的蒙脱土为载体，负载多种金属活性成分作为复合催化剂，得到的十溴二苯乙烷白度高，热稳定性好，收率高，是一种适合工业化生产高品质十溴二苯乙烷的制备工艺。 | ||||||
| 20 | 一种银钯基催化剂在光诱导C-C偶联反应中的应用及其应用方法 | CN202310973611.3 | 2023-08-03 | CN117000236A | 2023-11-07 | 王刚; 刘万毅; 常雅娟; 汶建彤; 孙龙超; 詹海鹃; 毕淑娴; 温萌 |
| 本发明属于C‑C键构筑技术领域，提供了一种银钯基催化剂在光诱导C‑C偶联反应中的应用及其应用方法。该应用方法包含下列步骤：在保护气氛下，将卤代芳烃、苯硼酸类物质、碳酸钾、银钯基催化剂和溶剂混合，进行光诱导C‑C偶联反应，得到产物。在本发明特定的反应条件下，银钯基催化剂催化光诱导C‑C偶联反应的产率高达98％，能够适用于多种不同的底物。此外，银钯基催化剂在重复使用5次后产率依旧没有明显变化。本发明将具有强可见光吸收能力的等离子体与高催化活性组分的金属Pd紧密的结合，这种催化体系可以在温和的条件下有效的推动太阳能到化学能的转化，为有机偶联反应的可见光驱动催化材料打开了新出口。 | ||||||
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