1 |
能呼吸的多功能负离子陶瓷 |
CN201720286921.8 |
2017-03-23 |
CN206654864U |
2017-11-21 |
马伟忠 |
本实用新型公开了一种能呼吸的多功能负离子陶瓷。所述陶瓷包括:坯体和依次覆设在坯体上的第一釉面层和第二釉面层,所述坯体、第一釉面层和第二釉面层均具有多孔结构,所述多孔结构包括复数个微米孔和复数个纳米孔,所述的复数个微米孔和复数个纳米孔相互连通形成通道网络;所述陶瓷中均匀分布有负离子发生材料,至少所述第二釉面层包含有光催化材料。本实用新型提供的能呼吸的多功能负离子新型陶瓷具有大量的纳米孔和/或微米孔,其可以对各种分子量的有害气体进行吸附,并且具有良好的脱附作用同时还可以释放负离子,能够有效净化空气,且无任何副作用。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利 |
2 |
具有3D装饰效果的仿古砖 |
CN201621135855.6 |
2016-10-18 |
CN206244656U |
2017-06-13 |
萧礼标; 马会川; 袁富祥; 黄玲艳 |
本实用新型涉及具有3D装饰效果的仿古砖,其由下而上包括:坯体、面釉层、下图案层、下透明釉层、上图案层、和上透明釉层。本实用新型通过将不同的色彩图案分别施在不同厚度的釉层中,从而形成“釉中有彩”、“彩中有釉”的三维效果。 |
3 |
一次烧成多密度复合发泡通体装饰板材 |
CN201820536540.5 |
2018-04-16 |
CN208055216U |
2018-11-06 |
黄惠宁; 江期鸣; 张国涛; 黄辛辰; 张王林 |
本实用新型公开了一种一次烧成多密度复合发泡通体装饰板材,包括由下至上依次设置的第一发泡层、第二发泡层和用于封闭第二发泡层表面孔洞的封闭层,第二发泡层的密度大于第一发泡层,第一发泡层、第二发泡层和封闭层的配方中均包含色料,封闭层为化妆土层,或者封闭层为非发泡陶瓷坯浆层和化妆土层,非发泡陶瓷坯浆层位于第二发泡层和化妆土层之间。本实用新型的装饰板材为具有通体色彩的装饰板材,具有易清洁、表面平整度高、产品的密度合适的特点。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利 |
4 |
一种半抛结晶釉仿古砖 |
CN201721158174.6 |
2017-09-11 |
CN207483620U |
2018-06-12 |
萧礼标; 马会川; 袁富祥; 谢志军 |
本实用新型涉及一种半抛结晶釉仿古砖。半抛结晶釉仿古砖包括:坯体;覆于坯体上的具有第一道图案的面釉层;具有与所述第一道图案配合的第二道图案的结晶釉层,所述结晶釉层由下而上包括结晶釉底釉层和结晶釉保护釉层;以及图案层,所述图案层形成于所述面釉层和点釉层之间;或所述图案层形成于所述面釉层和点釉层之间、以及结晶釉底釉层和结晶釉保护釉层之间;形成于砖坯整个表面的点釉层。半抛结晶釉仿古砖的图案具有层次丰富、逼真、立体感强的3D晶花效果。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利 |
5 |
一种全抛结晶釉仿古砖 |
CN201721158173.1 |
2017-09-11 |
CN207483619U |
2018-06-12 |
萧礼标; 马会川; 袁富祥; 谢志军 |
本实用新型涉及一种全抛结晶釉仿古砖。全抛结晶釉仿古砖包括:坯体;覆于坯体上的具有第一道图案的面釉层;形成于砖坯表面具有第一道图案的全抛釉层;具有与所述第一道图案配合的第二道图案的结晶釉层,所述结晶釉层由下而上包括结晶釉底釉层和结晶釉保护釉层;以及图案层,所述图案层形成于所述面釉层和全抛釉层之间;或所述图案层形成于所述面釉层和全抛釉层之间、以及结晶釉底釉层和结晶釉保护釉层之间。本实用新型的全抛结晶釉仿古砖具有层次丰富、逼真、立体感强的3D晶花效果。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利 |
6 |
一种泛红晕物理着色建筑陶瓷的制备方法 |
CN202510533811.6 |
2025-04-27 |
CN120040210A |
2025-05-27 |
刘一军; 聂光临; 程科木; 张克林; 杨元东; 刘杰聪; 刘少杰; 左飞; 段小明 |
本发明属于建筑陶瓷的表面装饰技术领域,具体涉及一种泛红晕物理着色建筑陶瓷的制备方法。所述制备方法包括以下步骤:步骤(1)在陶瓷砖坯表面施加底釉,并进行干燥处理;步骤(2)在施加底釉后的干燥陶瓷砖坯表面施加效果釉,并进行干燥处理;步骤(3)将施加效果釉后的干燥陶瓷砖坯经烧成、磨边处理,即可制得泛红晕物理着色建筑陶瓷。本发明通过调控建筑陶瓷釉层的分相与析晶性能,利用玻璃‑析晶的复合物理着色实现泛红晕建筑陶瓷的制备。 |
7 |
一种陶瓷裂纹修补釉及上釉修补工艺 |
CN202510087584.9 |
2025-01-20 |
CN119874411A |
2025-04-25 |
张春华; 陈永明; 陈晓璇; 陈树栋; 蔡国湘; 许立杭; 颜卓彬 |
本发明涉及陶瓷修补技术领域,具体为一种陶瓷裂纹修补釉及上釉修补工艺。本发明克服了现有陶瓷修补技术易二次开裂和修补后的外观一致性差的问题。先对有裂纹的半成品坯体进行打磨,再涂抹组合偶联剂,干燥后喷涂修补A釉进行素烧,再喷涂修补B釉遮盖裂纹,最后烧成得到成品陶瓷。通过限定打磨时间和打磨路径与裂纹夹角、改变组合偶联剂底涂的比例和厚度、调控烧成温度、保温时间和降温速度、在修补釉中加入改良莫来石降低开裂风险;改变修补A釉中磷石英、白榴石、硅灰石和改良莫来石的添加量减少釉层脱落和开裂现象;改变修补B釉聚乙烯醇、中温熔块、氧化锡和氧化钛的添加量提升釉料粘度,降低开裂风险,矫正色差,提升外观一致性。 |
8 |
一种陶瓷喷剂组合物及其制备方法和釉层 |
CN202411936876.7 |
2024-12-26 |
CN119750909A |
2025-04-04 |
刘帅; 张楠; 虞勇; 于杰; 王青竹 |
本发明提供一种陶瓷喷剂组合物及其制备方法和釉层,所述陶瓷喷剂组合物包括溶剂、稳定剂、推进剂和玻璃粉;其中,所述玻璃粉包含有La2O3和BeO;所述制备方法包括:混合溶剂、稳定剂和玻璃粉,得到第一浆料;并将所述第一浆料和推进剂装入容器中混合,得到所述陶瓷喷剂组合物。本发明提供的陶瓷喷剂组合物经烧结后能够耐急冷急热,且耐磨性能优异,能够较好地应用在牙科材料中。 |
9 |
一种多彩闪光抛釉砖及其制备方法 |
CN202510146765.4 |
2025-02-11 |
CN119638493A |
2025-03-18 |
徐望辉; 刘群海; 戴明; 徐明亮 |
本发明涉及建筑陶瓷技术领域,尤其涉及一种多彩闪光抛釉砖及其制备方法,包括以下步骤:A、准备陶瓷坯料,将陶瓷坯料进行压制,干燥后得到坯体层;B、布施底釉,得到底釉层;C、布施多彩闪光釉,得到多彩闪光釉层;按照质量份数计算,多彩闪光釉的原料包括高温透明干粒Ⅰ10~50份、低温透明干粒Ⅰ10~50份、锆英砂5~10份和基釉Ⅰ10~50份;D、干燥后入窑烧制,经过抛光处理后得到多彩闪光抛釉砖。本发明提出的一种多彩闪光抛釉砖及其制备方法,在确保抛釉砖平整度的前提下,不仅可呈现强烈的多彩闪光效果,还具有较高的硬度和防污性能,以克服现有技术中的不足之处。 |
10 |
一种轻质抛釉陶瓷大砖及其制备方法 |
CN202510024388.7 |
2025-01-07 |
CN119613084A |
2025-03-14 |
刘政良 |
本发明属于陶瓷技术领域,特别涉及一种轻质抛釉陶瓷大砖及其制备方法。轻质抛釉陶瓷大砖由胚体层、底釉层、表面抛釉层构成,胚体层按重量份由高岭土35~42份,陶土25~30份,堇青石8~12份,石英10~15份,氧化铝5~9份,钾长石4~9份,粘结剂1~3份组成;底釉层按重量份由钾长石25~37份,烧滑石15~20份,熔块15~20份,石英10~25份,方解石8~10份,硅酸锆5~10份,烧氧化锌5~8份组成;表面抛釉按重量份由熔块30~40份,粘土20~30份,钠长石15~22份,氧化锌10~15份,石粉10~15份,高岭土8~13份组成。同时本发明所述的陶瓷大砖制备方法采用低温快烧技术,改善了陶瓷大砖的烧结性能,提高了陶瓷大砖的强度和硬度,安全牢固,承受一定压力或冲击力时不易破裂。 |
11 |
一种立体浮雕型陶瓷砖及其制备方法 |
CN202411714185.2 |
2024-11-27 |
CN119591423A |
2025-03-11 |
刘春良 |
本发明公开了一种立体浮雕型陶瓷砖及其制备方法,一种立体浮雕型陶瓷砖,从下至上依次包括基础层、底釉层、立体层、釉面层和抛光层,所述基础层位于陶瓷砖底层,厚度8‑10mm,所述底釉层是在基础层上施加底釉后形成,厚度0.5‑1mm,所述立体层是在底釉层上进行喷墨打印后形成的图案层,厚度1.5‑2.5mm,所述釉面层是在立体层上施加面釉后形成,厚度0.4‑0.8mm,所述抛光层是在釉面层上进行抛光处理后形成。本发明通过超白底釉、多层喷墨打印立体层、面釉层采用多层叠釉的结合,使得立体浮雕型陶瓷砖能够清晰体现原石肌理和质感,具有更好的视觉冲击力和艺术表现力,提升陶瓷砖的立体效果和艺术观赏性,满足市场对于高端装饰陶瓷砖的需求。 |
12 |
一种用于双玻组件光伏玻璃背板的低电导率高反射釉料及其应用方法 |
CN202411672722.1 |
2024-11-21 |
CN119569340A |
2025-03-07 |
包启富; 焦博宇; 包宸宇; 汪大海; 董伟霞; 周健儿; 孙凤泽; 邓伟杰; 窦方波; 赵田贵 |
本发明公开一种用于双玻组件光伏玻璃背板的低电导率高反射釉料及其应用方法,所述釉料的原料配方重量百分比组成为:改性金红石35~50wt%、玻璃粘结剂30~45wt%、石英熔块10~20wt%、纳米硅酸锆1~5wt%,外加调墨油为18~24wt%、稀释剂1~3%。本发明低电导率高反射釉料与陶瓷或玻璃结合牢固,附着性能好、不易刮擦,所形成的低电导率高反射釉料能够对可见光、太阳红外线、紫外线进行高反射,且耐化学腐蚀,热稳定性好,本发明釉料能够解决双玻组件光伏玻璃背板的抗PID测试过程中玻璃发黑的缺陷,大大促进了光伏双玻组件技术进步和应用发展,并且制备方法工艺简单、成本低廉、使用方便,因此具有广阔的市场前景。 |
13 |
一种低导热陶瓷岩板及其制备方法 |
CN202411661743.3 |
2024-11-20 |
CN119462213A |
2025-02-18 |
张缇; 柯善军; 蒙臻明; 周营; 马超; 朱志超 |
本发明属于建筑陶瓷技术领域,具体公开了一种低导热陶瓷岩板及其制备方法。该陶瓷岩板由下至上依次包括坯体、第一面釉层、第二面釉层、图案层和保护釉层;其中:第一面釉层的原料组分包括:硅微粉、硅灰石、纳米蒙脱石、玻璃纤维、钾长石、钠长石、方解石和硼熔块粉;第二面釉层的原料组分包括:埃洛石、蒙脱石、水云母、珍珠石、地开石、霞石、硅灰石和钡锶熔块粉。两层面釉层均具有较低的导热系数,可有效隔绝坯体的凉度,降低热量的传导,使陶瓷岩板具有适宜的触感温度,减少了冰冷感。该陶瓷岩板导热系数为0.50‑0.55W/m·K,耐磨可达5级,防污性测试中无残留污渍;且釉面光滑、细腻,富有质感。 |
14 |
一种斑点砖制备方法及斑点砖 |
CN202310858869.9 |
2023-07-12 |
CN116924682B |
2025-02-14 |
杨盼; 王潇; 李明金; 张凤; 何琪璞 |
本发明提供了一种斑点砖制备方法及斑点砖,所述斑点砖制备方法包括:将坯体粉料压制成型,得到斑点砖坯体;在所述斑点砖坯体上施加低光耐磨底釉,形成底釉层,在所述底釉层上施加耐磨细腻釉,形成细腻釉层;在所述细腻釉层上进行图案装饰处理,得到图案装饰层,对已施加所述图案装饰层的斑点砖坯体进行烧成处理,得到斑点砖。本发明通过连续施加低光耐磨底釉和耐磨细腻釉,代替了常规的化妆土和透明釉体系,极大地提升了斑点砖的耐磨性能及防滑性能。 |
15 |
一种陶瓷釉面缺陷的修补工艺 |
CN202411531803.X |
2024-10-30 |
CN119390480A |
2025-02-07 |
曾胜骏; 白静静; 杨立鑫; 薛福勤 |
本发明公开了一种陶瓷釉面缺陷的修补工艺,包括以下步骤:A.将陶瓷的缺陷处打磨为U形槽,并将U形槽润湿后获得预处理陶瓷;B.将修补底料填充于预处理陶瓷的U形槽内并压实,获得修补底层;C.依次干燥和打磨修补底层,使修补底层的表面与预处理陶瓷的表面平齐;D.将修补面釉填充于修补底层的表面并压实,形成修补面层;E.将具有修补面层的预处理陶瓷置于梭室窑中,完成修补。本发明提出的一种陶瓷釉面缺陷的修补工艺,通过对修补底料配方和修补工艺进行优化,有利于降低烧成收缩率和开裂可能性以及提高修补强度,在确保修补效果的前提下,不仅可提高可修补的缺陷范围,还可使修补后的陶瓷釉面缺陷处平整光滑,确保美观性。 |
16 |
一种易清洁的日用陶瓷及其制备方法 |
CN202311362447.9 |
2023-10-20 |
CN117362021B |
2025-02-07 |
柳晓伟; 陈海东 |
本发明属于日用陶瓷技术领域,具体涉及一种易清洁的日用陶瓷及其制备方法。日用陶瓷胚体的制备:称取原料,球磨,施釉得到施釉日用陶瓷坯体,经过特定工艺条件进行热处理得到易清洁的日用陶瓷。本发明制备得到的易清洁的日用陶瓷具有优异的抗菌性能和耐磨性能,而且表面光泽度以及平整度比较优异,市场应用前景良好。 |
17 |
一种表面具有亮亚结合效果的瓷砖及其制备方法 |
CN202411486074.0 |
2024-10-23 |
CN119330753A |
2025-01-21 |
黄春林; 徐童; 吴美莲; 洪涛; 梁平英; 王向桥; 王秀芬; 田冲; 朱少强; 单红丽; 苏启港; 郭向召; 戴志梅; 袁小娣; 谢石长; 黄诗程; 李辉; 简润桐; 叶德林 |
本发明属于瓷砖领域,具体涉及一种表面具有亮亚结合效果的瓷砖及其制备方法。该瓷砖包括依次层叠设置的坯体层、底釉层、包括亮亚光墨水的喷墨功能墨水层、包括干粒的面釉层;粒度为250‑400目的干粒按质量百分数计包括:Al2O3 17%‑20%、SrO 4.5%‑6.5%、BaO 14%‑17%;亚光墨水的灰度量为30%‑60%,亮光墨水的灰度量为50%‑100%。本发明提出的特定干粒釉与亮亚功能墨水高温烧成相互作用后,得到的瓷砖具有较好的亮亚效果和多维立体光泽效果,还具有较好的表面平整度、发色能力、摩擦系数、防滑、耐磨、防污等特点;其制备方法简单易行,生产稳定,有重大推广价值。 |
18 |
低膨胀耐磨的高透光密缝连纹陶瓷岩板及其制备方法 |
CN202411275155.6 |
2024-09-12 |
CN118791325B |
2025-01-17 |
萧礼标; 王愉康; 杨元东; 邓来福; 时炯亮; 汪陇军 |
本发明涉及一种低膨胀耐磨的高透光密缝连纹陶瓷岩板及其制备方法,属于陶瓷砖生产制造技术领域。所述制备方法包括:将透光粉料制备成透光坯体在所述透光坯体表面施加透光面釉;在施加所述透光面釉后的坯体表面喷墨打印设计图案;在所述喷墨打印设计图案后的坯体表面施加低膨胀保护釉;将施加所述低膨胀保护釉后的坯体烧成并抛光,得到所述低膨胀耐磨的高透光密缝连纹陶瓷岩板。本发明通过将特殊研制的透光坯体、透光面釉和低膨胀保护釉配合使用,在避免变形和釉面缺陷的前提下获得低膨胀耐磨的高透光密缝连纹陶瓷岩板。 |
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一种稀土-银复合抗菌釉的制备方法 |
CN202311647409.8 |
2023-12-04 |
CN117585909B |
2024-12-27 |
梁健; 吴世杰; 刘方波; 王松; 苗立锋 |
本发明公开了一种稀土‑银复合抗菌釉的制备方法,以基础釉和稀土‑银复合抗菌剂作为配方体系,通过稀土‑银复合抗菌剂中的钕元素、镨元素、银离子与基础釉中的TiO2、ZnO起到Ag‑Zn‑Nd‑Pr‑Ti多元协同抗菌作用和协同缓释效应,从而大幅提高了抗菌陶瓷产品的抗菌率,并解决了现有技术抗菌陶瓷长效性不足的问题,对人们的生活健康有着积极的作用,可广泛应用于卫生间、医院、幼儿园、泳池、学校等公共场所。 |
20 |
一种中温无光双层窑变釉及其制备方法 |
CN202411339090.7 |
2024-09-25 |
CN119176673A |
2024-12-24 |
谢志立; 汪大谷 |
本发明公开了一种中温无光双层窑变釉及其制备方法,包括底釉和面釉,底釉包括以下重量份的原料:硼熔块8‑12份,钾长石35‑45份,石英粉8‑12份,方解石10‑12份,硅灰石8‑10份,氧化铝粉8‑11份,烧滑石4‑6份,烧锌5‑6份,贵州土5‑6份,钛白粉5‑7份,色剂5‑10份;面釉包括以下重量份的原料:硼熔块25‑35份,钾长石20‑30份,石英粉8‑12份,方解石8‑15份,硅灰石10‑20份,白云石20‑30份,龙岩土20‑30份,钛白粉5‑10份,铝粉3‑8份,色剂1‑5份;通过球磨、过筛、喷釉、烧成等步骤制得的铅、镉含量低,热稳定性强,抗热震性好,烧成温度低的无光双层窑变釉。 |