1.一种中温无光双层窑变釉，其特征是，所述中温无光双层窑变釉的底釉包括以下重量份的原料：硼熔块8‑12份，钾长石35‑45份，石英粉8‑12份，方解石10‑12份，硅灰石8‑10份，氧化铝粉8‑11份，烧滑石4‑6份，烧锌5‑6份，贵州土5‑6份，钛白粉5‑7份，色剂5‑10份；
所述中温无光双层窑变釉的面釉包括以下重量份的原料：硼熔块25‑35份，钾长石20‑
30份，石英粉8‑12份，方解石8‑15份，硅灰石10‑20份，白云石20‑30份，龙岩土20‑30份，钛白粉5‑10份，铝粉3‑8份，色剂1‑5份。
2.如权利要求1所述的中温无光双层窑变釉，其特征是，所述中温无光双层窑变釉的底釉包括以下重量份的原料：硼熔块10份，钾长石40份，石英粉10份，方解石10份，硅灰石10份，铝粉9份，烧滑石6份，烧锌5份，贵州土5份，钛白粉5份，色剂10份。
3.如权利要求1所述的中温无光双层窑变釉，其特征是，所述中温无光双层窑变釉的面釉包括以下重量份的原料：硼熔块30份，钾长石25份，石英粉10份，方解石10份，硅灰石15份，白云石25份，龙岩土25份，钛白粉5份，铝粉5份，色剂2份。
4.如权利要求1‑3任一项所述的中温无光双层窑变釉，其特征是，所述色剂为氧化铁红、碳酸锰、氧化钴或氧化铜中的一种。
5.一种如权利要求1‑4任一项所述的中温无光双层窑变釉的制备方法，其特征是，包括以下步骤：
(1)按照各原料及重量分别进行底釉原料和面釉原料的准备；
(2)将底釉原料和面釉原料分别进行湿法球磨，过筛得到底釉釉浆和面釉釉浆；
(3)加水调节底釉釉浆、面釉釉浆的浓度，然后将底釉釉浆附于坯体上，再把面釉釉浆附于底釉釉浆上形成半成品，干燥，在氧化气氛中进行烧成，烧成温度为1230‑1250℃，得到成品。
6.如权利要求5所述的中温无光双层窑变釉的制备方法，其特征是，所述底釉釉浆和面釉釉浆的细度均为250目筛余0.02‑0.04％。
7.如权利要求5所述的中温无光双层窑变釉的制备方法，其特征是，所述底釉釉浆的浓度为40‑45波美度，面釉釉浆的浓度为55‑60波美度。
8.如权利要求5所述的中温无光双层窑变釉的制备方法，其特征是，所述底釉的厚度为
0.1‑0.2mm，面釉的厚度为0.05‑0.1mm。
9.如权利要求5所述的中温无光双层窑变釉的制备方法，其特征是，所述底釉釉浆附于坯体上的方式为浸釉、施釉或喷釉中的一种；所述面釉釉浆附于底釉的方式为喷釉。
10.如权利要求5‑9任一项所述的中温无光双层窑变釉的制备方法，其特征是，所述湿法球磨方法为：球磨时间为20‑24h，球磨的原料：锆铝球石：水的质量比为1:1.5‑2:0.5，所述锆铝球石中，大球石、中球石、小球石的重量比为2:5:3。