本发明是鉴于以上问题而提出,其目的在于:提供一种能够降 低采用CMOS工艺或MOS工艺在半导体衬底上一体成形时所发生的 低频噪声的频率混合电路。
为了解决上述问题,本发明的频率混合电路中,用CMOS工艺或 MOS工艺在半导体衬底上一体形成包含晶体管的构成部件,该晶体 管用p
沟道型FET形成。通过用迁移率小的p沟道型FET作为包含在频 率混合电路中的晶体管,能够使各晶体管中所发生的1/f噪声自身减 小,因此,能够降低整个频率混合电路中所发生的低频噪声。
另外,最好在上述的半导体衬底中形成N阱,在该N阱上形成构 成部件。通过在N阱上形成包含p沟道型FET的频率混合电路的所有 部件,N阱与其下的半导体衬底之间形成pn结面,因此,能够防止噪 声
电流经由该结面流入,从而能够防止在频率混合电路中所发生的 噪声通过半导体衬底蔓延到其它部件。
另外,最好在上述的半导体衬底上,即在构成部件的周围形成 保护环(guard link)。由此,能够更有效地防止在频率混合电路中 所发生的噪声通过半导体衬底蔓延到其它部件。
另外,最好在上述的构成部件的周围,从半导体衬底表面至比N 阱还深的
位置形成保护环。通过将保护环形成到比N阱还深的位置, 能够除去在跨过该保护环形成于N阱上的部件与外部的部件之间蔓延 的低频区域的噪声。
附图的简单说明
图1是一
实施例的FM接收机的结构示图。
图2是用CMOS工艺或MOS工艺制造的FET的噪声特性图。
图3是表示混频电路的具体结构的电路图。
图4是表示混频电路的变更例的截面图。
图5是图4中所示的混频电路的平面图。
图6是混频电路的另一变更例的示图。
图7是表示保护环的变更例的截面图。
本发明的最佳实施例
以下,就采用本发明的一实施例的频率混合电路(以后简称为 “混频电路”)进行详细的说明。
图1是包含本实施例的混频电路的FM接收机的结构示图。图1所 示的FM接收机包含以下部分构成:作为单芯片部件10形成的高频放 大电路11,混频电路12,本机
振荡器13,中频
滤波器14、16,中频 放大电路15、
限幅电路17,FM检波电路18,立体声解调电路19。
用高频放大电路11对经天线20接收的FM调制信号进行放大后, 通过混合从本机振荡器13输出的本机振荡信号,进行从高频信号到 中频信号的变换。中频滤波器14、16设置在中频放大电路15的前级 和后级,从被输入的中频信号只抽出预定的频带成分。中频放大电 路15对通过中频滤波器14、16的一部分中频信号进行放大。
限幅电路17以高增益放大输入的中频信号。FM检波电路18对从 限幅电路17输出的振幅一定的信号进行FM检波处理。立体声解调电 路19对从FM检波电路18输出的FM检波后的复合信号进行立体声解调 处理,并生成左信号和右信号。
上述的本实施例的单芯片部件10,通过用CMOS工艺或MOS工 艺在半导体衬底上一体形成。在该半导体衬底上,除了只形成构成 图1所示的单芯片部件10的各电路的场合以外,还形成各种模拟电路 和数字电路。由于用CMOS工艺或MOS工艺很容易形成各种CMOS部 件,因此,最好将例如为了设定接收频率而能够改变本机振荡器13 的振荡频率的频率合成器、显示装置与其控制电路等在相同的半导 体衬底上形成。
然而,一般与双极晶体管相比,以CMOS工艺或MOS工艺形成 的FET具有低频噪声即1/f噪声大的特点。因此,如果用CMOS工艺或 MOS工艺在单芯片上形成图1所示的单芯片部件10,则作为其中所包 含的放大元件的FET将成为1/f噪声的发生源。而且,如果用混频电路 12将高频的调制信号变换成低频的中频信号,则该中频信号的1/f噪 声成分的所占比例变高,由此,使接收质量因SN比的恶化而变差。
因而,在构成本实施例的FM接收机的单芯片部件10中,作为至 少包含在混频电路12中的放大元件(晶体管)采用p沟道型FET。
图2是用CMOS工艺或MOS工艺制造的FET的噪声特性图。横轴 和纵轴分别表示频率和噪声电平。另外,用实线和虚线分别表示了p 沟道型FET的噪声特性和n沟道型FET的噪声特性。如图2所示,p沟 道型FET的在低频区域所表现的1/f噪声小于n沟道型FET。可以认为 这是由于p沟道型FET的迁移率小的原因。
因此,通过将p沟道型FET作为放大元件使用,能够使包含在混 频电路12中的FET所发生的1/f噪声本身减小,从而能够减少混频电路 12中的低频噪声的发生,提高整个接收机的SN比并改善信号质量。
图3是表示混频电路12的具体结构的电路图,并作为一例表示了 以差动方式工作的例子。图3所示的混频电路12包含以下部分构成: 生成一定电流的FET31、32,电流源33,用以合成两种
输入信号的6 个FET41~46,两个负载
电阻47、48。具体地说,来自高频放大电路 11的输入信号(IN+、IN-)输入到FET41、42,来自本机振荡器13 的输入信号(Lo+,Lo-)输入到FET43~46。该结构中所包含的 FET31、32、41~46均采用p沟道型。另外,通过采用负载电阻47、48 取出
输出信号,能够将构成上述混频电路12的所有部件形成在半导 体衬底上。
图4是表示上述实施例的混频电路12的变更例的截面图。另外, 图5是图4所示结构的平面图。在这些图中所示的结构中,混频电路12 的所有部件均在N阱52上形成。由于在N阱52与P型半导体衬底50之 间形成
PN结面,因此,在N阱52的电位高于半导体衬底50时,从N阱 52向半导体衬底50流入的电流被该PN结面断开。从而能够防止在混 频电路12中发生的噪声通过半导体衬底50蔓延到其它电路中。
另外,如图5所示,在半导体衬底50的表面附近,即在包围N阱52 的周边区域形成保护环54。该保护环54是将P型半导体衬底50的一部 分在N型区域形成。由于通过保护环54与半导体衬底50形成PNP层, 因此,能够有效地防止在混频电路12中发生的噪声通过半导体衬底50 的表面附近蔓延到其它电路。
另外,本发明不仅限定于上述实施例,在本发明要旨的范围内 可以进行各种变更。例如,在上述的实施例中,就FM接收机进行了 说明,但即便是AM接收机和数据终端装置等各种接收机和发送机或 通信机,也可以采用本发明。
另外,在上述的实施例中,虽然没有特别地言及本机振荡信号 的频率与调制信号的
载波频率之间的关系,但这些频率之间的差越 小,从混频电路12输出的中频信号的频率也就越低,因此,1/f噪声 的影响也就变成最大。因此,通过在被这样设定的接收机中使用本 发明的混频电路,能够使噪声降低的效果达到最大。
另外,在上述的实施例中,将混频电路12的所有部件形成在半 导体衬底上,但也可以将一部分部件外设。
图6是混频电路的另一变更例的示图。图6所示的混频电路12A, 将图3所示的混频电路12的负载电阻47、48置换成
变压器60和电容器 62。在半导体衬底上,一体形成除了这些变压器60和电容器62以外 的混频电路12A的各部件,并经由印刷电路布线等连接作为外设部件 的变压器60和电容器62。
另外,在图4所示的例中,在半导体衬底50的表面附近形成保护 环54,但如图7所示,也可以代替该保护环54,而使用从半导体衬底 50的表面至比N阱52还深的位置形成的保护环54A。由此,在N阱52 上形成的混频电路12中所发生的噪声通过保护环54A的下侧(半导体 衬底50的内部)蔓延到其它电路时,更能够防止低频成分的蔓延。
工业上的利用可能性
如上所述,依据本发明,通过用迁移率小的p沟道型FET作为频 率混合电路所包含的晶体管,能够使各晶体管中所发生的1/f噪声自 身减小,因此,能够降低整个频率混合电路中所发生的低频噪声。