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一种视场光阑及高温计光学瞄准装置

阅读:14发布:2020-05-18

专利汇可以提供一种视场光阑及高温计光学瞄准装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 实施例 公开了一种视场光阑,该视场光阑的 正面 为反射镜面,其余部分黑色涂层 覆盖 ,且该视场光阑本体的正面设置有分划线。通过本发明公开的视场光阑,使得分划线与视场光阑在同一平面上,且分划线与视场光阑的相对 位置 不变,避免了现有方案中因视场光阑与分划线相对位置变化而影响成像效果。本发明还公开了一种包括本发明中公开的视场光阑的 高温计 光学瞄准装置,在使用该装置时,无需对分划板与视场光阑的相对位置进行安装和调试,且确保高温计光学瞄准装置更精确的瞄准。,下面是一种视场光阑及高温计光学瞄准装置专利的具体信息内容。

1.一种视场光阑,其特征在于,所述视场光阑本体的正面设置有分划线。
2.根据权利要求1所述的视场光阑,其中,所述分划线通过机械刻划、掩膜腐蚀或反射率的方法形成。
3.根据权利要求1所述的视场光阑,其中,所述分划线的形状为“十”字形状。
4.根据权利要求1所述的视场光阑,其中,所述视场光阑的形状为圆形。
5.根据权利要求1或4所述的视场光阑,其中,所述视场光阑包括:
反射镜,位于所述视场光阑本体的正面,限定视场范围;
光阑孔,位于所述反射镜的中心,形成穿过所述视场光阑本体中心的通孔,用于传递和限定光学系统的成像范围。
6.根据权利要求5所述的视场光阑,其中,所述光阑孔呈喇叭状,位于所述反射镜一端孔径小于位于所述视场光阑本体的背面一端孔径。
7.一种高温计光学瞄准装置,其特征在于,包括权利要求1-6任一项所述视场光阑。

说明书全文

一种视场光阑及高温计光学瞄准装置

技术领域

[0001] 本发明涉及高温计的光学瞄准装置,具体涉及一种视场光阑。

背景技术

[0002] 在高温计的光学瞄准系统中,需要使用分划线标识目标成像的相对位置,通常采用带有分划线的分立分划板安装于瞄准系统光路中,采用这种方案需要设计、安装和调试等技术手段,实现分划板与视场光阑光学共轭。现分立分划板通常安装在瞄准系统的目镜组件当中或目镜组件之前。分立分划板位置与视场光阑不同,因此分立分划板到目镜的光程与视场光阑到目镜的光程不同,在光学仪器的光学瞄准系统使用过程中,分立分划板与视场光阑相对位置可能发生变化,使得分立分划板在视场中的位置产生移动,尤其是在长期使用,分立分划板位置发生较大变化,使得分立分划板与视场光阑不能确保光学共轭,从而影响光学仪器的正常使用。

发明内容

[0003] 本发明的目的是提供一种视场光阑,通过本发明公开的视场光阑,使得分划线与视场光阑在同一平面上,且分划线与视场光阑的相对位置不变,避免了现有技术中因视场光阑与分划线相对位置变化而影响瞄准和成像效果。
[0004] 为实现上述目标,本发明提供了一种视场光阑,该视场光阑本体的正面设置有分划线。
[0005] 具体地,视场光阑本体正面设置的分划线通过机械刻划、掩膜腐蚀或反射率的方法形成。
[0006] 具体地,视场光阑的分划线的形状为“十”字形状。
[0007] 具体地,视场光阑的形状为圆形。
[0008] 具体地,视场光阑包括:反射镜,位于视场光阑本体的正面,限定视场范围;光阑孔,位于反射镜的中心,形成穿过视场光阑本体中心的通孔,用于传递和限定光学系统的成像范围。
[0009] 具体地,视场光阑的光阑孔呈喇叭状,位于该视场光阑反射镜一端孔径小于位于视场光阑本体的背面一端孔径。
[0010] 具体地,一种高温计光学瞄准装置,该高温计光学瞄准装置包括本体正面设置有分划线的视场光阑。
[0011] 如上所述,本发明提供的一种视场光阑,分划线通过机械刻划、掩膜腐蚀或反射率的方式在视场光阑本体的正面上设置。实现了分划线与视场光阑在同一平面上,使得分划线与视场光阑的相对位置不变,从而避免了现有技术中因视场光阑与分划线相对位置变化,使得分划线与视场光难光学共轭,影响成像效果。同时,本发明提供的包括该视场光阑的高温计光学瞄准装置,无需对分划线与视场光阑相对位置进行调试,避免了安装和调试过程中人为因素造成的影响光学仪器正常使用的问题。附图说明
[0012] 图1是根据本发明第一实施例的视场光阑分划线图;
[0013] 图2a是根据本发明第二实施例的视场光阑主视图;
[0014] 图2b是根据本发明第二实施例的视场光阑沿AB方向的剖面图;
[0015] 图2c是根据本发明第二实施例视场光阑立体图;
[0016] 图3是根据本发明第三实施例的高温计的光学瞄准系统结构图。
[0017] 附图标记:103、视场光阑,31、分划线,11、反光镜面,12、光阑孔,101、可移动物镜,102、位移传感器,104、孔径光阑,105、第一物镜,106、干涉滤光片定位转换轮及恒温器,
107、光电探测器及恒温器,108、第一反射镜,109、第二物镜,110、第二反射镜,111、第三反射镜,112为目镜,113为电流放大器及恒温器。

具体实施方式

[0018] 为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明了,下面结合具体实施方式并参照附图,对本发明进一步详细说明。应该理解,这些描述只是示例性的,而并非要限制本发明的范围。此外,在以下说明中,省略了对公知结构和技术的描述,以避免不必要地混淆本发明的概念。
[0019] 图1是根据本发明第一实施例的视场光阑分划线图。
[0020] 如图1所示,本发明实施例中视场光阑103的正面为反射镜面11,其余部分黑色涂层覆盖。该视场光阑103本体的正面设置有分划线31。
[0021] 其中,视场光阑103中的分划线31通过机械刻划、掩膜腐蚀或反射率的方法形成。
[0022] 更进一步地,如图1所示,视场光阑103中的分划线31的形状为“十”字形状。
[0023] 更进一步地,如图1所示,视场光阑103的形状为圆形。
[0024] 本发明的发明点在于:分划线31与视场光阑103一体设计,在视场光阑103本体的正面设置有分划标识线。
[0025] 本发明的技术优点在于:通过机械刻划、掩膜腐蚀或改变反射率等方法在视场光阑103本体的正面形成分划线31,分划线31与视场光阑103的镜面在同一平面上,相对位置不变,避免现有技术中因视场光阑103与分划线31相对位置变化,影响成像和瞄准效果的缺陷;无需经过分划线31与视场光阑103相对位置调试,就可以准确的达到分划线31与视场光阑103共轭。
[0026] 图2a是根据本发明第二实施例的视场光阑主视图。
[0027] 如图2a所示,本发明实施例中反射镜面11位于视场光阑103本体的正面。通过调节反射镜面11的度来调节视场光阑103聚光的范围。反射镜面11上的光阑孔12位于反射镜面11的中心位置,形成穿透视场光阑103本体中心的通孔。光阑孔12用于传递和限定关系系统的成像范围。
[0028] 优选的,如图2所示,光阑孔12呈喇叭状,位于反射镜面11一端孔径小于位于视场光阑103本体的背面一端孔径。
[0029] 图2b是根据本发明的视场光阑沿AB方向的剖面图。
[0030] 如图2b所示,本发明实施例中视场光阑103剖面图的反射镜面11用于反射接收到的光线。视场光阑103剖面图的光阑孔12用于限定和传递光学系统的成像范围。
[0031] 图2c是根据本发明第二实施例视场光阑立体图。
[0032] 如图2c所示,立体图中的反射镜面11用于接收反射光,可有效调节聚光范围。立体图中的光阑孔12用于传递和限定光学系统的成像范围。
[0033] 图3是根据本发明的高温计的光学瞄准系统结构图。
[0034] 如图3所示,本发明实施例中一种高温计光学瞄准装置,包括可移动物镜101,位移传感器102,视场光阑103,孔径光阑104,第一物镜105,干涉滤光片定位转换轮及恒温器106,光电探测器及恒温器107,第一反光镜108,第二物镜109,第二反射镜110,第三反射镜
111,目镜112,电流放大器及恒温器113。其中,视场光阑103为本发明的设置有分划线31的视场光阑103。
[0035] 在现有技术中,通常使用分立式分划板来定位和计算被瞄准目标的距离,分立式分划板通常安装在目镜组112内,或目镜组112之前。通过调节分立式分划板,使得视场光阑103与分立式分划板达到光学共轭,从而更精准的观察到高温计的数值。分立式分划板不仅对洁净度要求极高,任何微小的灰尘都会在观测时产生很大的黑点,而且分立式分划板对其安装位置的精度要求极高,不易于解决安装和调试等技术问题。长时间使用分立式分划板会出现分立式分划板与视场光阑不易共轭的问题,影响高温计光学瞄准装置的正常使用。而本发明则是直接在视场光阑103的平面上设计分划线,有效的避免了因长时间使用分立式分划板与视场光阑不易共轭的问题,确保了高温计光学瞄准装置的正常使用,使得高温计光学瞄准装置更精确的瞄准。
[0036] 本发明提供一种视场光阑103,该视场光阑103的正面为反射镜面,其余部分黑色涂层覆盖,该视场光阑103本体的正面设置有分划线31。通过本发明的技术方案,实现了分划线31与视场光阑103在同一平面上,且分划线31与视场光阑103的相对位置不变,避免了现有技术中因视场光阑103与分划线31相对位置变化而影响瞄准和成像效果。本发明还提供了一种包括本发明中的视场光阑103的高温计光学瞄准装置。在使用本发明的装置时,无需对分划板31与视场光阑103的相对位置进行安装和调试,实现了分划板31与视场光阑103有效共轭,从而确保了高温计光学瞄准装置的正常使用。
[0037] 应当理解的是,本发明的上述具体实施方式仅仅用于示例性说明或解释本发明的原理,而不构成对本发明的限制。因此,在不偏离本发明的精神和范围的情况下所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。此外,本发明所附权利要求旨在涵盖落入所附权利要求范围和边界、或者这种范围和边界的等同形式内的全部变化和修改例。
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