一种通过压印制备电润湿显示单元的方法
专利汇可以提供一种通过压印制备电润湿显示单元的方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种通过压印制备 电润湿 显示单元的方法，通过在疏 水 介质层上沉积一层阻挡层，在阻挡层上涂覆一层亲水介质层，因为有阻挡层的存在，在亲水介质层上制备围堰图案时不会对下部的疏水介质层产生影响，因此，本发明可以选择压印技术制备围堰图案，并可以采用性能更佳的亲水介质层材料。本发明具有成本低、制造的电润湿显示单元 质量 好、亲水介质层材料选择多样、能实现电润湿技术在从小尺寸显示到大尺寸显示以及柔性显示等各方面的应用的优点。，下面是一种通过压印制备电润湿显示单元的方法专利的具体信息内容。
1.一种通过压印制备电润湿显示单元的方法，其特征是：包括以下步骤：
步骤一、在导电衬底上涂布疏水介质层；
步骤二、在疏水介质表面沉积一层阻挡层；
步骤三、在阻挡层上涂覆一层亲水介质层；
步骤四、通过压印设备将亲水介质层压印出有序的围堰图案；
步骤五、将围堰图案里残留的亲水胶层通过等离子体气氛刻蚀清除；
步骤六、利用与阻挡层相适配的腐蚀剂腐蚀清除阻挡层，制得电润湿显示单元。
2.根据权利要求1所述的一种通过压印制备电润湿显示单元的方法，其特征是：所述的步骤一中的疏水介质层为CYTOP疏水层。
3.根据权利要求1所述的一种通过压印制备电润湿显示单元的方法，其特征是：所述的步骤二中的阻挡层为无机氧化物或金属。
4.根据权利要求3所述的一种通过压印制备电润湿显示单元的方法，其特征是：所述的无机氧化物为二氧化硅，所述的金属为铜。
5.根据权利要求1所述的一种通过压印制备电润湿显示单元的方法，其特征是：所述的步骤三中的亲水介质层为SU-8胶层或PMMA胶层。
6.根据权利要求5所述的一种通过压印制备电润湿显示单元的方法，其特征是：所述的步骤三与步骤四之间还设有固化亲水介质层步骤：将亲水介质层进行烘烤加热，然后将亲水介质层曝光至固化。
7.根据权利要求6所述的一种通过压印制备电润湿显示单元的方法，其特征是：所述的固化亲水介质层步骤中烘烤加热温度为50℃至100℃，时间为60秒至300秒；所述的亲水介质层曝光时间为1分钟至3分钟。
8.根据权利要求1所述的一种通过压印制备电润湿显示单元的方法，其特征是：所述的步骤四中对亲水介质层压印方式为先加压再加热，压强不低于5兆帕，加热温度为90℃至110℃。
9.根据权利要求1所述的一种通过压印制备电润湿显示单元的方法，其特征是：所述的步骤五中的等离子体为氧气等离子体。
10.根据权利要求4所述的一种通过压印制备电润湿显示单元的方法，其特征是：所述的步骤六中的腐蚀剂为氢氟酸。
一种通过压印制备电润湿显示单元的方法
技术领域
背景技术
2、光刻工艺限制了亲水介质层只能是光刻胶，这就极大的限制了亲水介质可选择的范围，例如通常都选择SU-8光刻胶，非常昂贵，造成成本很高，同时无法有效的通过选择性能更加优异的亲水介质层以更有效的改善电润湿显示单元的显示效果；
3、光刻胶涂覆后通常需要烘烤，而对于很多柔性衬底来说，则存在潜在的破坏性；
4、柔性衬底在操作中可能引起褶皱和起伏，并不适合光刻工艺。
发明内容
步骤一、在导电衬底上涂布疏水介质层；
步骤二、在疏水介质表面沉积一层阻挡层；
步骤三、在阻挡层上涂覆一层亲水介质层；
步骤四、通过压印设备将亲水介质层压印出有序的围堰图案；
步骤五、将围堰图案里残留的亲水胶层通过等离子体气氛刻蚀清除；
步骤六、利用与阻挡层相适配的腐蚀剂腐蚀清除阻挡层，制得电润湿显示单元。
2. 克服了光刻工艺对亲水介质是光刻胶的要求，扩大了亲水介质层材料的选择范围，不仅可以有效的降低成本，同时可以选择性能更加优异的材料以改善显示效果；
3. 克服了光刻工艺在柔性衬底上的限制，可以高效的在柔性衬底上制备有序图案，促进了电润湿显示技术在柔性显示上的应用；
4. 光刻技术由于设备的限制，无法制备大尺寸的样品。通过压印技术可以实现大尺寸显示设备的制备，有助于电润湿显示技术在户外显示的应用；
5. 压印技术通常会有残留层，一般通过等离子气氛处理，这样会造成下面疏水介质表面的破坏。本发明通过在疏水介质层表面先沉积一层阻挡层，可以有效的阻止等离子气氛处理过程中对疏水层表面的破坏。
附图说明
具体实施方式
步骤二、利用溅射方法在CYTOP疏水层上制备一层厚度约100纳米的二氧化硅薄膜；
步骤三、在二氧化硅薄膜表面涂SU-8胶，转速7千转/分钟,涂胶厚度8.5微米左右。
步骤二、利用溅射方法在CYTOP疏水层上制备一层厚度约100纳米的二氧化硅薄膜；
步骤三、在二氧化硅薄膜表面涂PMMA胶，转速7千转/分钟,涂胶厚度8.5微米左右。
步骤二、在CYTOP疏水层上制备一层厚度约100纳米的铜膜；
步骤三、在二氧化硅薄膜表面涂SU-8胶，转速7千转/分钟,涂胶厚度8.5微米左右。
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