专利汇可以提供微型功率晶体管专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本实用新型涉及一种微型功率晶体管,低掺杂N型 硅 的集电区上设有高掺杂P型硅的基区,基区上设有高掺杂N型硅的发射区,所述发射区为若干等距离间隔排列的方形柱状发射区,每个所述方形柱状发射区上设有发射区引线孔,发射区引线由发射极 金属化 电极 条连接至发射极电极;每个所述方形柱状发射区四 角 基区上设有基区引线孔,基极引线由基极金属化电极条连接至基极电极;基极金属化电极条和发射极金属化电极条之间通过绝缘槽分隔开;集电区上,基区外围处设有保护环结构,集电区、保护环、发射区、基区上设有 碳 纳米层;碳纳米层、发射区、基区上沉积 阳极 金属;集电区背面沉积 阴极 金属。本实用新型的高反压功率晶体管VCBO高,集电极 电流 IC较大,尺寸小。,下面是微型功率晶体管专利的具体信息内容。
1.一种微型功率晶体管,硅晶片尺寸为2.45mm×2.45mm,低掺杂N型硅的集电区上设有高掺杂P型硅的基区,基区上设有高掺杂N型硅的发射区,其特征在于,所述发射区为若干等距离间隔排列的方形柱状发射区,每个所述方形柱状发射区上设有发射区引线孔,发射区引线由发射极金属化电极条连接至发射极电极;每个所述方形柱状发射区四角基区上设有基区引线孔,基极引线由基极金属化电极条连接至基极电极;基极金属化电极条和发射极金属化电极条之间通过绝缘槽分隔开;所述低掺杂N型硅的集电区上,高掺杂的P型基区外围处设有保护环结构,所述低掺杂N型硅的集电区、保护环、高掺杂N型硅的发射区、高掺杂P型硅的基区上设有碳纳米层;所述碳纳米层、高掺杂N型硅的发射区、高掺杂P型硅的基区上沉积阳极金属;低掺杂N型硅的集电区背面沉积阴极金属;所述低掺杂N型硅的集电区上,高掺杂的P型基区外围处设有三个保护环结构,最外围为高掺杂N型硅保护环,高掺杂N型硅保护环和高掺杂的P型基区之间设有两个高掺杂P型硅保护环,三个保护环结构从外到内依次为高掺杂N型硅的第一保护环、高掺杂P型硅的第二保护环和高掺杂P型硅的第三保护环。
2.根据权利要求1所述的微型功率晶体管,其特征在于,所述保护环结构宽度为254μm,高掺杂P型硅的保护环宽度为12μm,深度150μm,高掺杂N型硅保护环宽度为35μm;第一保护环、第二保护环、第三保护环和高掺杂的P型硅基区的横向距离依次为90μm、55μm、50μm。
3.根据权利要求1所述的微型功率晶体管,其特征在于,所述发射区为若干等距离间隔排列的方形柱状发射区,方形柱状发射区所属晶格单元尺寸为158μm×110μm,硅晶片内晶格单元总数为166个。
4.根据权利要求1所述的微型功率晶体管,其特征在于,所述发射区引线孔为尺寸为54μm×64μm的方形孔,发射区金属化电极条宽度为64μm;所述基区引线孔为尺寸为30μm×60μm的方形孔,基区金属化电极条宽度为74μm。
5.根据权利要求1所述的微型功率晶体管,其特征在于,所述绝缘槽的宽度为15μm。
6.根据权利要求1所述的微型功率晶体管,其特征在于,所述低掺杂N型硅的集电区电阻率为100Ω·cm。
7.根据权利要求1所述的微型功率晶体管,其特征在于,所述碳纳米层、高掺杂N型硅的发射区、高掺杂P型硅的基区上沉积金属Al作为阳极,低掺杂N型硅的集电区背面沉积金属Ag作为阴极;阳极金属和阴极金属外设有保护膜。
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