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一种 轮毂 真空 镀膜装置

阅读：492发布：2023-01-24

专利汇可以提供一种轮毂真空镀膜装置专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本实用新型公开了一种轮毂真空镀膜装置，其技术方案要点包括真空箱体，所述真空箱体内设置有真空腔室，所述真空腔室的内壁上竖直设置有磁控溅射靶，所述真空腔室的底部和顶部分别转动连接有上传动转盘和下传动转盘，所述上传动转盘和下传动转盘之间通过若干支撑杆连接，所述上传动转盘和下传动转盘的中心轴线上设置有呈方形的立柱，所述立柱的两侧转动连接有若干用于悬挂工件的自转挂杆，所述立柱的内部设置有联动组件，所述真空箱体的顶部设置有自转电机，所述自转电机通过所述联动组件与所述自转挂杆联动，且所述真空腔室的底部与所述下传动转盘之间设置有用于驱动所述下传动转盘转动的驱动机构，本实用新型具有镀膜均匀的效果。，下面是一种轮毂真空镀膜装置专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种轮毂真空镀膜装置，包括真空箱体(1)，所述真空箱体(1)内设置有真空腔室(2)，所述真空腔室(2)的内壁上竖直设置有若干个呈支柱状的磁控溅射靶(3)，其特征在于：所述真空腔室(2)的底部和顶部分别转动连接有上传动转盘(4)和下传动转盘(5)，所述上传动转盘(4)和下传动转盘(5)之间通过若干支撑杆(6)连接，所述上传动转盘(4)和下传动转盘(5)的中心轴线上设置有呈方形的立柱(7)，所述立柱(7)的两侧转动连接有若干用于悬挂工件的自转挂杆(8)，所述立柱(7)的内部设置有联动组件(9)，所述真空箱体(1)的顶部设置有自转电机(10)，所述自转电机(10)通过所述联动组件(9)与所述自转挂杆(8)联动，且所述真空腔室(2)的底部与所述下传动转盘(5)之间设置有用于驱动所述下传动转盘(5)转动的驱动机构(11)。
2.根据权利要求1所述的一种轮毂真空镀膜装置，其特征在于：所述联动组件(9)包括若干个设置于所述立柱(7)内壁两侧且与所述自转挂杆(8)相对应的传动齿轮(15)、分别绕过所述立柱(7)内壁竖直方向两侧的传动齿轮(15)的传动链条(16)和与所述立柱(7)内壁两侧的传动齿轮(15)传动连接的伞齿部件(17)，且所述伞齿部件(17)与所述自转电机(10)的输出轴固定连接。
3.根据权利要求2所述的一种轮毂真空镀膜装置，其特征在于：所述伞齿部件(17)包括用于连接所述立柱(7)内壁两侧对应所述传动齿轮(15)的齿轮支架(18)、固定连接于所述齿轮支架(18)外侧的从动伞齿(19)和设置于所述从动伞齿(19)竖直方向且与所述从动伞齿(19)相啮合的主动伞齿(20)，所述主动伞齿(20)与所述自转电机(10)的输出轴固定连接。
4.根据权利要求1所述的一种轮毂真空镀膜装置，其特征在于：所述驱动机构(11)包括通过一转动杆(21)与所述下传动转盘(5)的下端面中心固定连接的固定齿轮(22)、水平设置于所述固定齿轮(22)一侧且与所述固定齿轮(22)相啮合的运动齿轮(23)和设置于所述真空腔室(2)底部且输出轴与所述运动齿轮(23)固定连接的公转电机(24)。
5.根据权利要求1所述的一种轮毂真空镀膜装置，其特征在于：所述自转挂杆(8)沿所述立柱(7)垂直方向呈交替分布。
6.根据权利要求5所述的一种轮毂真空镀膜装置，其特征在于：所述自转挂杆(8)朝向所述磁控溅射靶(3)的一端通过轴套固定连接有夹紧面板(13)，所述工件夹紧于所述立柱(7)和夹紧面板(13)之间。
7.根据权利要求6所述的一种轮毂真空镀膜装置，其特征在于：所述夹紧面板(13)的表面沿周向设置有若干个透射孔(14)。
8.根据权利要求1所述的一种轮毂真空镀膜装置，其特征在于：所述立柱(7)的下端固定连接有与所述下传动转盘(5)的上端面相抵接的金属垫片(12)。

说明书全文

一种轮毂 真空 镀膜装置

技术领域

[0001] 本实用新型属于金属制品的真空镀膜技术领域，更具体地说它涉及一种轮毂真空镀膜装置。

背景技术

[0002] 目前，汽车行业的飞速发展也带动了轮毂制造加工业的飞速发展，铝合金轮毂由于造型美观、重量轻、散热快和真圆度高的特点而成为主流的轮毂产品。现有的铝合金轮毂表面处理有涂装、水电镀、真空镀膜等方法，其中涂装和水电镀运用较多。水电镀轮毂具有高光亮度、耐磨等很好的表面质量，但其在生产过程中存在操作工序多、难度大，消耗大量贵金属以及产生大量三废的问题，因此很多生产工业上都用真空镀膜取代了水电镀。

[0003] 现阶段的真空镀膜技术已经发展的相当成熟，真空镀膜的方法也多种多样，但是还是存在一定的弊端，不能够很好的保证镀膜的均匀性，还存在待改进的空间。实用新型内容

[0004] 针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种轮毂真空镀膜装置，具有镀膜均匀的优点。

[0005] 为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：一种轮毂真空镀膜装置，包括真空箱体，所述真空箱体内设置有真空腔室，所述真空腔室的内壁上竖直设置有若干个呈支柱状的磁控溅射靶，所述真空腔室的底部和顶部分别转动连接有上传动转盘和下传动转盘，所述上传动转盘和下传动转盘之间通过若干支撑杆连接，所述上传动转盘和下传动转盘的中心轴线上设置有呈方形的立柱，所述立柱的两侧转动连接有若干用于悬挂工件的自转挂杆，所述立柱的内部设置有联动组件，所述真空箱体的顶部设置有自转电机，所述自转电机通过所述联动组件与所述自转挂杆联动，且所述真空腔室的底部与所述下传动转盘之间设置有用于驱动所述下传动转盘转动的驱动机构。

[0006] 通过采用上述技术方案，将轮毂悬挂在自转挂杆上，并使磁控溅射靶上的溅射孔全方位地对准轮毂；接着，通过启动自转电机，使得自转挂杆绕立柱的水平轴线转动，而自转挂杆在转动时轮毂的正面和背面均可交替地转动至最靠近磁控溅射靶的位置，相当朝磁控溅射靶方向的镀膜纵深距离可缩短一半，有利于轮毂内外纵深方向的均匀镀膜；同时，在驱动机构的作用下，立柱上的每个自转挂杆能够绕下传动转盘的中心轴线转动，使得每个自转挂杆能够等几率通过磁控溅射靶面前，从而能够实现各自转挂杆上的轮毂和各轮毂水平方向处的均匀镀膜。

[0007] 本实用新型进一步设置为：所述联动组件包括若干个设置于所述立柱内壁两侧且与所述自转挂杆相对应的传动齿轮、分别绕过所述立柱内壁竖直方向两侧的传动齿轮的传动链条和与所述立柱内壁两侧的传动齿轮传动连接的伞齿部件，且所述伞齿部件与所述自转电机的输出轴固定连接。

[0008] 通过采用上述技术方案，传动齿轮是套在自转挂杆的外侧并与自转挂杆固定连接，而传动链条分别绕过立柱内部两侧的传动齿轮，使两侧的传动齿轮能够实现联动；当自转电机启动时，伞齿部件能够带动两侧的传动齿轮，即能够实现自转挂杆的自转。

[0009] 本实用新型进一步设置为：所述伞齿部件包括用于连接所述立柱内壁两侧对应所述传动齿轮的齿轮支架、固定连接于所述齿轮支架外侧的从动伞齿和设置于所述从动伞齿竖直方向且与所述从动伞齿相啮合的主动伞齿，所述主动伞齿与所述自转电机的输出轴固定连接。

[0010] 通过采用上述技术方案，自动电机的输出轴与主动伞齿固定连接，而主动伞齿与从动伞齿相啮合，即通过自动电机能够带动从动伞齿转动；且由于从动伞齿固定在齿轮支架上，齿轮支架的两端与立柱内壁两侧的传动齿轮连接，即当从动伞齿转动时能够带动齿轮支架以及与齿轮支架固定连接的传动齿轮转动。

[0011] 本实用新型进一步设置为：所述驱动机构包括通过一转动杆与所述下传动转盘的下端面中心固定连接的固定齿轮、水平设置于所述固定齿轮一侧且与所述固定齿轮相啮合的运动齿轮和设置于所述真空腔室底部且输出轴与所述运动齿轮固定连接的公转电机。

[0012] 通过采用上述技术方案，启动公转电机能够带动运动齿轮转动，而运动齿轮与固定齿轮相啮合，且固定齿轮通过转动杆与下传动转盘传动连接，从而能够驱动下传动转盘转动。

[0013] 本实用新型进一步设置为：所述自转挂杆沿所述立柱垂直方向呈交替分布。

[0014] 通过采用上述技术方案，将自转挂杆沿立柱垂直方向呈交替分布，能够使自转挂杆上的轮毂表面有更多对准磁控溅射靶的几率，以提高轮毂的镀膜效果。

[0015] 本实用新型进一步设置为：所述自转挂杆朝向所述磁控溅射靶的一端通过轴套固定连接有夹紧面板，所述工件夹紧于所述立柱和夹紧面板之间。

[0016] 通过采用上述技术方案，夹紧面板的设置能够防止轮毂在旋转的过程中脱离自转挂杆，从而能够避免轮毂产生损伤。

[0017] 本实用新型进一步设置为：所述夹紧面板的表面沿周向设置有若干个透射孔。

[0018] 通过采用上述技术方案，透射孔的设置不仅能够提供磁控溅射靶对轮毂的溅射几率，提高轮毂的镀膜效率；同时能够减少夹紧面板的生产材料，降低成本。

[0019] 本实用新型进一步设置为：所述立柱的下端固定连接有与所述下传动转盘的上端面相抵接的金属垫片。

[0020] 通过采用上述技术方案，金属垫片的设置能够增加立柱与下传动转盘的接触面积，提高立柱使用时的稳定性。

[0021] 综上所述，本实用新型具有以下优点：将轮毂悬挂在自转挂杆上，并使磁控溅射靶上的溅射孔全方位地对准轮毂；接着，通过启动自转电机，使得自转挂杆绕立柱的水平轴线转动，而自转挂杆在转动时轮毂的正面和背面均可交替地转动至最靠近磁控溅射靶的位置，相当朝磁控溅射靶方向的镀膜纵深距离可缩短一半，有利于轮毂内外纵深方向的均匀镀膜；同时，在驱动机构的作用下，立柱上的每个自转挂杆能够绕下传动转盘的中心轴线转动，使得每个自转挂杆能够等几率通过磁控溅射靶面前，从而能够实现各自转挂杆上的轮毂和各轮毂水平方向处的均匀镀膜。附图说明

[0022] 图1是本实施例的结构示意图；

[0023] 图2是本实施例凸显真空箱体内部结构的示意图；

[0024] 图3是本实施例凸显伞齿部件的剖视示意图；

[0025] 图4是本实施例凸显驱动机构的剖视示意图。

[0026] 附图标记说明：1、真空箱体；2、真空腔室；3、磁控溅射靶；4、上传动转盘；5、下传动转盘；6、支撑杆；7、立柱；8、自转挂杆；9、联动组件；10、自转电机；11、驱动机构；12、金属垫片；13、夹紧面板；14、透射孔；15、传动齿轮；16、传动链条；17、伞齿部件；18、齿轮支架；19、从动伞齿；20、主动伞齿；21、转动杆；22、固定齿轮；23、运动齿轮；24、公转电机。

具体实施方式

[0027] 以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明。

[0028] 一种轮毂真空镀膜装置，如图1所示，包括真空箱体1，真空箱体1内设置有真空腔室2，真空腔室2的内壁上竖直设置有若干个呈支柱状的磁控溅射靶3，磁控溅射靶3采用申请号为“CN201210588533.7”中公开的磁控溅射靶3，其属于现有技术，在此不做赘述。

[0029] 如图2和3所示，真空腔室2的底部和顶部分别转动连接有上传动转盘4和下传动转盘5，上传动转盘4和下传动转盘5之间通过若干支撑杆6连接，上传动转盘4和下传动转盘5的中心轴线上设置有呈方形的立柱7，立柱7的两侧转动连接有若干用于悬挂轮毂的自转挂杆8，立柱7的内部设置有与自转挂杆8联动的联动组件9，真空箱体1的顶部固定有自转电机10，自转电机10通过联动组件9驱动自转挂杆8转动，且真空腔室2的底部与下传动转盘5之间设置有用于驱动下传动转盘5转动的驱动机构11。

[0030] 如图2所示，立柱7的下端固定连接有与下传动转盘5的上端面相抵接的金属垫片12，通过金属垫片12能够增加立柱7与下传动转盘5的接触面积，提高立柱7使用时的稳定性。

[0031] 具体地，如图2所示，自转挂杆8沿立柱7的垂直方向呈交替分布，在一定程度上，使得自转挂杆8上的轮毂表面有更多对准磁控溅射靶3的几率，从而能够提高轮毂的镀膜效果。

[0032] 如图2所示，自转挂杆8朝向磁控溅射靶3的一端通过轴套固定连接有夹紧面板13，轮毂夹紧于立柱7和夹紧面板13之间，且夹紧面板13的表面沿周向设置有若干个透射孔14。通过夹紧面板13能够防止轮毂在旋转的过程中脱离自转挂杆8，从而能够避免轮毂产生损伤；而通过透射孔14不仅能够提供磁控溅射靶3对轮毂的溅射几率，提高轮毂的镀膜效率；
同时能够减少夹紧面板13的生产材料，降低成本。

[0033] 如图3和4所示，联动组件9包括若干个设置在立柱7内壁两侧且与对应自转挂杆8固定连接的传动齿轮15、分别绕过立柱7内壁竖直方向两侧的传动齿轮15的传动链条16和与立柱7内壁两侧传动齿轮15传动连接的伞齿部件17。因此，传动齿轮15是套在自转挂杆8的外侧并与自转挂杆8固定连接，而传动链条16分别绕过立柱7内部两侧的传动齿轮15，使得两侧的传动齿轮15能够实现联动，即当自转电机10启动时，伞齿部件17能够带动两侧的传动齿轮15，从而能够实现自转挂杆8的自转。

[0034] 如图3所示，伞齿部件17包括用于连接立柱7内壁两侧对应传动齿轮15的齿轮支架18、固定连接于齿轮支架18外侧的从动伞齿19和设置在从动伞齿19竖直方向且与从动伞齿
19相啮合的主动伞齿20，主动伞齿20与自转电机10的输出轴固定连接。因此，通过自动电机能够带动从动伞齿19转动，而由于从动伞齿19固定在齿轮支架18上，齿轮支架18的两端与立柱7内壁两侧的传动齿轮15连接，即当从动伞齿19转动时能够带动齿轮支架18以及与齿轮支架18固定连接的传动齿轮15转动。

[0035] 如图4所示，驱动机构11包括通过一转动杆21与下传动转盘5的下端面中心固定连接的固定齿轮22、水平设置在固定齿轮22一侧且与固定齿轮22相啮合的运动齿轮23和设置在真空腔室2底部且输出轴与运动齿轮23固定连接的公转电机24，转动杆21的一端与下传动转盘5固定连接，另一端转动连接在真空腔室2底部。因此，通过启动公转电机24能够带动运动齿轮23转动，而运动齿轮23与固定齿轮22相啮合，且固定齿轮22通过转动杆21与下传动转盘5传动连接，从而能够驱动下传动转盘5转动。

[0036] 工作原理：将轮毂悬挂在自转挂杆8上，并使磁控溅射靶3上的溅射孔全方位地对准轮毂；接着，通过启动自转电机10，使得自转挂杆8绕立柱7的水平轴线转动，而自转挂杆8在转动时轮毂的正面和背面均可交替地转动至最靠近磁控溅射靶3的位置，相当朝磁控溅射靶3方向的镀膜纵深距离可缩短一半，有利于轮毂内外纵深方向的均匀镀膜；同时，在公转电机24的作用下，立柱7上的每个自转挂杆8能够绕下传动转盘5的中心轴线转动，使得每个自转挂杆8能够等几率通过磁控溅射靶3面前，从而能够实现各自转挂杆8上的轮毂和各轮毂水平方向处的均匀镀膜。

[0037] 以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的设计构思之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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