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一种炭黑造粒装置

阅读:1020发布:2020-06-19

专利汇可以提供一种炭黑造粒装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种 炭黑 氧 化 造粒 装置,蒽油通过高温反应炉后依次进入 空气预热器 、油预热器、旋 风 分离器、主袋滤器和微米 粉碎 机,经过所述微米粉碎机后的炭黑通过炭黑烟气管进入反应釜,所述反应釜的中部连接强 氧化剂 导管 ,所述炭黑 吸附 强氧化剂后氧化,氧化后的炭黑通过引风机进入造粒机。本发明在生产过程中利用炭黑的余热直接进一步氧化,利用余热,达到了环保,无污染的效果。,下面是一种炭黑造粒装置专利的具体信息内容。

1.一种炭黑造粒装置,其特征在于:蒽油通过高温反应炉(10)后依次进入空气预热器(9)、油预热器(8)、旋分离器(7)、主袋滤器(6)和微米粉碎机(5),经过所述微米粉碎机(5)后的炭黑通过炭黑烟气管(4)进入反应釜(1),所述反应釜(1)的中部连接强氧化剂导管(3),所述炭黑吸附强氧化剂后氧化,氧化后的炭黑通过引风机(2)进入造粒机。
2.根据权利要求1所述的炭黑氧化造粒装置,其特征在于:所述强氧化剂导管(3)的端部设有喷头,所述喷头由本体和盖体组成,所述本体和盖体之间形成喷腔,所述盖体上设有若干个喷孔(5)。

说明书全文

一种炭黑造粒装置

技术领域

[0001] 本发明涉及炭黑生产设备技术领域,具体涉及的是一种炭黑氧化造粒装置。

背景技术

[0002] 炭黑由于具有着色、耐候、补强、导电、孔隙率大等优点而广泛用作高分子材料的补强剂、医药载体、催化剂载体及用于油墨、涂料的制造。目前,常规炭黑的主要生产方法是炉法生产,但是,由于其表面的含氧官能团、挥发份和极性较小,以及pH值一般在性的范围内,这些都不利于炭黑在性体系中的分散,为了提高炉法炭黑在水性体系中的分散稳定性,可对其进行改性;在各种应用中,提高炭黑在基质中的分散性是保证材料性能的关键。近年来,多采用对炭黑颗粒表面进行改性,如氧化改性的方法来增加炭黑表面的含氧极性基团(如羟基、羧基、羰基、醌基和内酯基等),以减小炭黑粒子间吸附、增大炭黑粒子与基质的结合力来提高炭黑的分散性。但是由于炭黑的产量大,造粒后再进行改性处理,不仅增加处理设备和操作人员,并且处理的均匀性并不尽如人意。
[0003] 目前炭黑氧化处理主要采用酸和臭氧处理,在炭黑造粒好后二次处理,这样造成能耗高,污水量大,操作麻烦。

发明内容

[0004] 本发明的目的在于克服现有技术存在的以上问题,提供一种炭黑氧化造粒装置,利用炭黑的余热实现氧化。
[0005] 为实现上述技术目的,达到上述技术效果,本发明通过以下技术方案实现:
[0006] 一种炭黑氧化造粒装置,蒽油通过高温反应炉后依次进入空气预热器、油预热器、旋分离器、主袋滤器和微米粉碎机,经过所述微米粉碎机后的炭黑通过炭黑烟气管进入反应釜,所述反应釜的中部连接强氧化剂导管,所述炭黑吸附强氧化剂后氧化,氧化后的炭黑通过引风机进入造粒机。
[0007] 进一步的,所述强氧化剂导管的端部设有喷头,所述喷头由本体和盖体组成,所述本体和盖体之间形成喷腔,所述盖体上设有若干个喷孔。
[0008] 本发明的有益效果是:
[0009] 本发明在生产过程中利用炭黑的余热直接进一步氧化,利用余热,达到了环保,无污染的效果。附图说明
[0010] 此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解,构成本申请的一部分,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
[0011] 图1整体结构示意图。
[0012] 图中标号说明:1、反应釜,2、引风机,3、强氧化剂导管,4、炭黑烟气管,5、微米粉碎机,6、主袋滤器,7、旋风分离器,8、油预热器,9、空气预热器,10、高温反应炉。

具体实施方式

[0013] 下面将参考附图并结合实施例,来详细说明本发明。
[0014] 参照图1所示,一种炭黑氧化造粒装置,蒽油在高温反应炉10中燃烧生产后依次进入空气预热器9、油预热器8、旋风分离器7、主袋滤器6和微米粉碎机5,经过所述微米粉碎机5后的炭黑有余热,在100-150℃之间,然后炭黑烟气管4进入反应釜1,所述反应釜1的中部连接强氧化剂导管3,所述炭黑接触强氧化剂后氧化,氧化后的炭黑通过引风机2进入造粒机进行造粒包装
[0015] 所述强氧化剂导管3的端部设有喷头,所述喷头由本体和盖体组成,所述本体和盖体之间形成喷腔,所述盖体上设有若干个喷孔5,强氧化剂溶解后在高压下从喷头里喷出,喷孔朝下,使得炭黑得到更大面积的接触面。
[0016] 本装置在生产过程中直接实现氧化,比传统炭黑氧化处理耗能低,污染少。
[0017] 以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
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