口腔护理抗菌剂的给药
阅读：554发布：2020-05-11
专利汇可以提供口腔护理抗菌剂的给药专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种 口腔 冲洗器的装置，其作为构件系统并且优选作为单个手持式设备。本文提供通过 电解 适当的盐溶液，即电化学活化溶液(ECAS)，现场分配(在系统或设备中)产生的包含抗菌离子/化学物质的口腔冲洗 流体 。通过提供电解室实现ECAS的生产。ECAS输出液体通过两个不同的 传感器 控制，即 次氯酸 盐传感器和ORP( 氧 化还原电位)传感器。通过确定次氯酸盐和ORP值的增加(或减少)的可能的差，传感器允许在生成ECAS之后确定不期望污染物。，下面是口腔护理抗菌剂的给药专利的具体信息内容。
1.一种口腔冲洗器系统，包括用于液体的入口，在所述入口的下游的液体处理部被配置为生成经处理的输出液体，所述处理部包括与分配喷嘴流体连通的排出口，所述分配喷嘴具有被配置为将经处理的液体分配至外部环境中的出口，其中所述液体处理部包括电解室，所述电解室被配置为电化学处理流经液体、并且具有用于已处理的液体的排出口，所述电解室包括连接至电源的一对电极，并且其中所述液体处理部包括位于所述电解室下游的次氯酸盐传感器、以及氧化还原电位传感器，其中所述用于已处理的液体的排出口与所述传感器流体连通。
2.根据权利要求1所述的口腔冲洗器系统，其中所述液体处理部包括位于所述电解室上游的流量调节器，并且其中所述传感器被配置为将反馈发送至适于控制所述流量调节器的处理器。
3.根据权利要求1或2所述的口腔冲洗器系统，其中所述次氯酸盐传感器和所述氧化还原电位传感器并列设置。
4.根据权利要求2或3所述的口腔冲洗器系统，包括位于所述流量调节器上游的盐度传感器，所述传感器适于将反馈发送至适于控制所述流量调节器的处理器。
5.根据前述任意一项权利要求所述的口腔冲洗器系统，包括混合室；所述混合室具有与加压气体源流体连通的气体入口，并且具有通往所述分配喷嘴的排出口，由此所述混合室被配置为将液体和气体的混合物输送至所述分配喷嘴；并且由此所述分配喷嘴被配置为将液体和气体的所述混合物分配至所述外部环境，并且其中所述电解室的用于已处理的液体的所述排出口与所述混合室的入口流体连通。
6.根据权利要求5所述的口腔冲洗器系统，包括基站、液体容器和手持式口腔冲洗器，所述液体容器和所述口腔冲洗器被可释放地固定在所述基站上，其中所述基站包括所述电解室，并且所述手持式口腔冲洗器包括所述混合室，其中所述液体容器的液体排出口与所述口腔冲洗器的液体入口流体连通，并且其中所述电解室的用于已处理的液体的所述排出口与所述口腔冲洗器的液体入口流体连通。
7.根据权利要求6所述的口腔冲洗器系统，其中所述次氯酸盐传感器和所述氧化还原电位传感器设置在所述电解室的用于已处理的液体的所述排出口的下游、以及所述口腔冲洗器的所述液体入口的上游。
8.根据权利要求5所述的口腔冲洗器系统，其中所述系统是手持式口腔冲洗器的形式，所述手持式口腔冲洗器包括被配置为保持液体的液体容器；所述容器具有与所述混合室的液体入口流体连通的用于液体的出口，所述手持式口腔冲洗器包括所述电解室，所述电解室位于所述液体容器的下游。
9.根据权利要求8所述的口腔冲洗器系统，其中所述电解室设置在所述混合室的上游，并且与所述混合室可控地流体连通。
10.根据权利要求5-9中任意一项所述的口腔冲洗器系统，被配置为允许将加压气体释放到所述混合室中，以用于控制从所述混合室到所述分配喷嘴的所述出口的流体连通。
11.根据权利要求5-10中任意一项所述的口腔冲洗器系统，其中所述混合室包括所述电解室。
12.根据权利要求11所述的口腔冲洗器，其中所述电极设置在所述混合室的壁上。
13.根据权利要求5-12中任意一项所述的口腔冲洗器系统，其中所述加压气体源是压缩单元，例如泵，其被配置为将加压气体送入所述混合室中。
14.根据权利要求13所述的口腔冲洗器系统，包括空气入口，并且其中所述泵适于生成加压空气，优选包括活塞。
15.一种用于牙齿清洁的方法，所述方法包括：
提供氯化钠水溶液，对所述溶液进行电解以产生次氯酸盐/次氯酸水溶液，以及将所述次氯酸盐/次氯酸溶液分配至口腔中，其中所述电解和所述分配使用根据前述任意一项权利要求所述的口腔冲洗器系统进行。
16.一种用于牙齿清洁的次氯酸盐/次氯酸溶液，其中：
所述次氯酸盐/次氯酸溶液通过使用根据前述任意一项权利要求所述的口腔冲洗器系统电解氯化钠水溶液而被提供，以及
所述次氯酸盐/次氯酸溶液使用根据前述任意一项权利要求所述的口腔冲洗器系统而被分配至口腔中。
口腔护理抗菌剂的给药
技术领域
[0001] 本发明属于口腔护理领域，并且涉及口腔护理抗菌剂在受试者口腔内的产生和给药。特别地，本发明涉及一种用于电化学活化溶液(ECAS)的口腔冲洗和给药的集成系统。
背景技术
[0002] 牙菌斑是生长在口腔内各表面上的生物膜或细菌群，常见于牙齿之间和牙颈边缘。牙菌斑也称微生物菌斑、口腔生物膜、牙齿生物膜、牙菌斑生物膜或细菌菌斑生物膜。虽然牙菌斑通常与诸如龋齿和牙周病(牙龈疾病)，如牙周炎和牙龈炎等口腔疾病有关，但其形成是无法预防的正常过程。
[0003] 牙菌斑可能引起龋齿(蛀牙)——由可发酵糖的细菌降解产生的酸对牙齿组织的局部破坏——以及牙龈炎和牙周炎等牙周问题。其发展和积聚是导致口腔问题的原因，因此，每天分解细菌群并将其清除是非常重要的。
[0005] 去除牙齿生物膜是重要的，因为它可能变成酸性，导致牙齿脱矿(也称为龋齿)，引发牙龈炎症，或硬化成牙结石(也称为牙垢)。牙结石无法通过牙刷或使用齿间辅助设备去除，只能通过专业清洁去除。因此，去除牙齿生物膜可以防止龋齿和牙龈疾病的发展。
[0006] 一直存在的一个问题是，生物膜一旦在表面上生长，去除生物膜仅能解决生物膜问题。因此，已经开发了减少口腔中，尤其是牙齿表面和齿间空间中活菌数量的方法。减少活菌数量会增加菌斑积聚的时间。
[0007] 实现此目的的一种方法是将所谓的电化学活化溶液(ECAS)(有时也称电解水)给药到口腔中。这种溶液是基于使电流通过盐溶液而产生抗菌剂的过程。特别地，在此类过程中，电流在例如钛或碳电极之间通过，以产生活性氯族次氯酸盐(ClO-)和次氯酸(HClO)。这些物质都是抗菌性的，其生成方法是众所周知的。
发明内容
[0008] ECAS生成在诸如消毒游泳池等情况下很常见，但其中并没有直接关注ECAS的健康影响。然而，在口服给药的情况下，次氯酸盐浓度过高会给受试者造成危险或疼痛。此外，在一些司法辖区，关于对人施用的浓度具有限制(例如，在美国，法规规定500ppm是食物中允许的次氯酸盐的最大残留浓度)。同时，提前生成和储存ECAS是没有用的，因为ECAS容易降解并进而失去其活性。此外，特别地，由于口腔护理应用一般在私人家庭环境中进行，可以想象在许多不同的卫生环境中进行，所以挑战在于提供一种无论输入液体的质量如何均安全的系统。特别地，期望提供一种能够在生成ECAS后检测液体中是否存在污染物，并且优选地，从而调节系统的输出的系统。
[0009] 为了更好地满足上述需求，本发明在一个方面提供一种口腔冲洗器系统，包括液体入口，位于入口下游的液体处理部被配置为生成经处理的输出液体，处理部包括排出口，其与分配喷嘴流体连通，分配喷嘴具有出口，其配置为将经处理的液体分配至外部环境中，其中，液体处理部包括电解室，其配置为电化学处理流经液体并且具有用于已处理的液体的排出口，电解室包括连接至电源的电极对，并且其中，液体处理部包括位于电解室下游的次氯酸盐传感器和氧化还原电位传感器，其中，已处理的液体的排出口与次氯酸盐传感器和氧化还原电位传感器流体连通。
[0010] 另一方面，本发明提供一种牙齿清洁方法，该方法包括提供氯化钠水溶液，对溶液进行电解以产生次氯酸盐/次氯酸水溶液，以及将次氯酸盐/次氯酸溶液分配至口腔中，其中，电解和分配使用如前段所述的口腔冲洗器系统进行。牙齿清洁可以是齿间清洁。
[0011] 另一方面，提供一种用于牙齿清洁的次氯酸盐/次氯酸溶液，其中：
[0013] ——使用根据前述任意一项权利要求所述的口腔冲洗器系统将次氯酸盐/次氯酸溶液分配至口腔中。
[0014] 该溶液可以用于齿间清洁。优选在使用电解制备溶液后不久进行溶液的分配，因为这种溶液一般会随着时间而降解。因此，电解后溶液的储存时间一般少于几小时或一小时，优选少于15分钟。更优选地，在电解后直接进行分配。
[0016] 图1是根据本发明实施例的口腔冲洗器的示意图。
[0017] 图2示出根据本发明实施例的ECAS生成的控制布置方案。
[0018] 图3是根据本发明另一实施例的口腔冲洗器的示意图。
具体实施方式
[0019] 在一般意义上，本发明是基于将ECAS的现场生成与传感器集相结合的明智见解，传感器集允许在使用定义不明确的输入液体或液体混合物时控制输出纯度。根据本发明，这通过测量次氯酸盐的输出和输出液体的氧化还原电位实现。
[0020] 术语“ECAS”是指任意电化学活化溶液。更特别地，ECAS是氯化钠电化学活化溶液。任意氯阴离子源均可以用于该反应，但这里使用氯化钠作为示例。作为电化学活化的结果，溶液(下文中也称“次氯酸盐/次氯酸溶液”)包括次氯酸盐阴离子和次氯酸的混合物(即氧化氯离子的混合物，其比例取决于介质的周围pH值)。按照本领域的惯例，ECAS也可以称为“电解水”。电解前氯化钠的浓度一般在0.05％-35.9％(w/v)的范围内，如0.1％-10％，优选
0.1％-0.9％(w/v)。除氯化钠溶液外，也可以电化学活化其它盐溶液。其示例包括氯化钾、氯化钙。
0.1％-0.9％(w/v)。除氯化钠溶液外，也可以电化学活化其它盐溶液。其示例包括氯化钾、氯化钙。
[0021] 氧化还原电位(ORP)是存在于液体中的氧化化学物质(或可适用还原性化学物质)水平的度量。由于次氯酸盐会氧化溶液中存在的分子，次氯酸盐本身使液体的ORP更为正。然而，此类液体中存在的其它化学物质，尤其是当这些物质也具有氧化性时，也会影响液体的ORP值。在液体进行电解的情况下，如现场生成ECAS的情况下，如果用于生成ECAS的液体(盐水)中存在污染物，则可能会产生此类化学物质。
[0022] 根据本发明，用特定传感器测量次氯酸盐浓度和ORP值(并非特定于次氯酸盐)允许估计所制备ECAS溶液的污染水平。这些污染一般是不期望的，尤其是在如口腔保健等精密治疗中，并且可能由设备以其它方式在不知情的情况下产生。
[0023] 本发明通过根据这些污染物的经确定的输出来调节电解反应，允许避免或减少现场生成的ECAS中的不期望污染物。这可以手动进行，但优选地，口腔冲洗器适用于允许自动调节ECAS输出。为此，在一般优选实施例中，液体处理部包括位于电解室上游的流量调节器，其中，次氯酸盐和ORP传感器配置为将反馈发送至适于控制流量调节器的处理器。处理器将设置为在检测到不期望污染物水平的情况下。该水平一般通过设定期望次氯酸盐输出水平和与次氯酸盐输出一致的期望ORP水平提前确定。如果ORP传感器判定ORP值高于与次氯酸盐输出一致的ORP值，处理器将指示流量调节器降低流量以减少产量，或增加流量以清洁系统内部，或向用户提供设备需要清洁的指示。
[0024] 应当理解的是，也可以在次氯酸盐输出和ORP值均高于期望水平的情况下调节流量。这提供了一般的安全措施，以避免ECAS本身的不期望高输出。
[0025] 次氯酸盐和ORP传感器可以以任意顺序串联设置。在这种情况下，ECAS输出液体将首先通过一个传感器(例如，次氯酸盐传感器)，然后通过另一传感器(这里指ORP传感器)。为了防止任意一个测量影响另一测量，优选将次氯酸盐和ORP传感器并行设置。在这种情况下，ECAS输出液体将分为两个平行流。一个这样的流通过次氯酸盐传感器，然后被送至分配喷嘴。另一个流通过ORP传感器，然后被送至分配喷嘴。流可以在分配喷嘴上游或分配喷嘴内部重新汇合。替代地，提供两个独立分配喷嘴，每个喷嘴用于一个流。在这种情况下，流在分配之前不重新汇合，或者根本不重新汇合(如果两个分配喷嘴顺序使用的话)。
[0026] 本发明的口腔冲洗器系统可以是任意类型的口腔冲洗器系统。存在各种类型的口腔冲洗器，从相对简单的漱口水分配器到以高速射流形式分配液体和气体的加压混合物的设备。本发明的系统可以在单个手持式设备中包括其所有构件。该系统还可以以基站的形式提供部分构件，并在手持式设备中提供通常可以加载到基站上的部分构件。例如，基站通常包括水储存器(即液体容器)，其适用于多种用途，并且可以容易地重新填充。储存器可以是可释放的或不可释放的。水可以从储存器供应至分配单元，如口腔冲洗器或漱口水分配器，该分配单元也保持在基站上。在口腔冲洗器系统包括基站的情况下，电解室优选包含在基站中，但其也可以是分配单元的一部分。分配单元可以是单独分配设备(如手持式口腔冲洗器)，但也可以集成在系统中。
[0027] 在另一一般优选实施例中，本发明提供ECAS现场生成，以及现代口腔冲洗器中上述次氯酸盐和ORP输出类型的确定，其中，相对少量的液体(优选包括空气)射流以相对高的射流速度分配。因此，本发明的口腔冲洗器系统包括分配单元，即手持式口腔冲洗器，其允许通过混合室控制ECAS的实际分配，混合室具有与加压气体源流体连通的气体入口，以及通往分配喷嘴的排出口。由此，混合室配置为将液体和气体混合物输送至分配喷嘴，并且由此，分配喷嘴配置为将液体和气体混合物分配至外部环境。
[0028] 优选地，在该实施例中，上述任意实施例中的本发明的口腔冲洗器系统包括液体容器，其配置为保持液体；容器具有液体排出口，其与混合室的液体入口流体连通；混合室具有气体入口，其与加压气体源流体连通，并且具有通往分配喷嘴的排出口，由此，混合室配置为将液体和气体混合物输送至分配喷嘴；分配喷嘴具有通往外部环境的出口，并且由此，分配喷嘴配置为将液体和气体混合物分配至外部环境；其中，所述口腔冲洗器包括电解室，其配置为电化学处理流经液体，电解室包括电极对，其连接至电源，其中，电解室设置在液体容器的下游并与液体容器流体连通，并且设置在混合室的排出口的上游并与混合室的出口流体连通，并且其中，可以独立于从液体容器到电解室的流体连通控制从混合室到分配喷嘴的出口的流体连通。
[0029] 术语“流体连通”是指第一单元或设备的第一部分与第二单元或设备的第二部分之间的任意连接，流体(包括液体和气体)可以经由该连接流动。这种流动可以是直接或间接的。直接流动可以是，例如，通过诸如管、管道、软管或流动管线等流体连通通道，连通通道可以包括一个或多个阀，或用于开闭连通通道或调节连通通道开闭大小的其它单元。间接流动可以是，例如，通过一个或多个处理单元、减压或增压单元，或流体在其中经过处理(例如，化学反应或物理处理，例如，混合或静置)的其它单元。一般地，此类单元具有用于流体进入的入口和用于流体离开的出口。
[0030] 流体连通可以是可控流体连通。在这种情况下，可以中断或调节直接或间接流动(例如，就液体的绝对量、流量或两者而言)。这种中断或调节可以手动控制、自动控制或者取决于相关事件，例如，由操作设备的一部分产生的反馈信息被发送至适用于控制流体连通的处理器。
[0031] 例如与口腔冲洗器的正常操作相关地使用术语“上游”和“下游”。因此，口腔冲洗器系统的下游侧是出口(例如，分配喷嘴的出口)，冲洗流体可以通过该出口施加至口腔。因此，在口腔冲洗器的正常操作中，单元和连通通道在冲洗流体实际离开之前设置在出口的上游。
[0032] 在优选实施例中，本发明的口腔冲洗器系统用于通过喷射或喷雾分配液体和气体混合物。为此，口腔冲洗器系统包括分配设备(例如，口腔冲洗器)，其包括混合室。混合室具有气体入口，其与加压气体源流体连通。加压气体源可以是适用于保持加压气体的容器(例如，气罐)。这种情况下，此类容器具有气体排出口，其与混合室的气体入口流体连通。合适的气体是，例如，二氧化碳、氮气或加压空气。特别地，这些气体可以是医疗级的。
[0033] 在一个有趣的实施例中，加压气体源是指压缩单元，例如泵，其配置为将加压气体推入混合室中。在其一个实施例中，泵适用于在将气体，尤其是空气，压入混合室之前，将其从外部环境吸入口腔冲洗器的气体入口。因此，泵优选为往复泵，如柱塞泵或活塞泵。例如，泵包括马达，其适用于将空气吸入气体入口，由此，气体入口与活塞流体连通。活塞一般包含在活塞室中，活塞室配置为允许活塞(通常是气缸)前后移动。
[0034] 通常，由此，空气将被吸入活塞室和混合室。然而，也可以设置为从空气入口关闭混合室，并且允许在释放活塞时打开进入混合室的入口。
[0035] 活塞能够从锁定位置释放，从而在释放时将空气压入混合室。活塞的释放通常是在将期望数量的空气吸入活塞室并期望地压缩之后。应当理解的是，将空气吸入活塞通常是指将空气吸入腔室，如气缸，其一端(例如，纵向端，如腔室的底部)被活塞封闭，并且其相对端(例如，相对的纵向端部，如腔室的顶部)与混合室流体连通，或者在活塞释放时与混合室流体连通。活塞可以通过各种机制释放。例如，手动释放或作为期望(如预定)空气量已经进入的结果释放。活塞的适当可释放固定对于技术人员来说是已知的，例如，可以推动或拉开的锁、根据吸入活塞的空气量施加释放动作的活塞下方的弹簧，或本领域可用的其它触发器。
[0036] 适合包含在口腔冲洗器系统中，尤其是手持式口腔冲洗器中的压缩单元，如微型压缩机，对于技术人员来说是很容易获得的。非限制性地，可以参考WO02/1372、US2010/35200、WO2015/173691的背景描述。
[0037] 不希望受理论束缚地，发明人认为，除如上所述对污染物的控制之外，本发明在现场生成ECAS以防止ECAS不合时宜地降解的需求与盐溶液在电解室中停留足够时间以生成期望数量的ECAS之间取得了平衡。
[0038] 为此，可以独立于从液体容器到电解室的流体连通控制从混合室到分配喷嘴的出口的流体连通。结果，可以调节电解室中电解过程中盐溶液的停留时间。
[0039] 在本发明的口腔冲洗器系统的一个有趣的实施例中，当包括分配液体和气体混合物型的口腔冲洗器时，电解室位于混合室的上游，并且与混合室可控地流体连通。这有利于提高上述调节液体(如盐溶液)在电解室中的停留时间的可能性。此外，一个优势在于，无论是否包含一定量的ECAS，口腔冲洗流体均可以从混合室分配。除后者之外，通过添加一个或多个其它液体容器，可以进一步提高具有或不具有ECAS的分配流体的任意期望灵活性。这些其它液体容器可以适用于保持包括除ECAS之外的口腔护理剂的水和/或溶液或分配体。
[0040] 在另一有趣的实施例中，混合室包括电解室。特别地，电解室和混合室进而重合。在该实施例中，电解有效地在混合室中发生。这样的优点在于，本发明的口腔冲洗器系统可以是手持口腔冲洗器，其与没有电解室的传统口腔冲洗器一样紧凑。另一优点在于，液体在电解室中的停留时间的设定和分配口腔冲洗流体的频率仅需要单一设置，从而简化了终端用户对设备的操作。在该实施例中，优选在混合室的壁上分别提供电极，以提供物理上不受干扰的混合环境。
[0041] 应该理解的是，各种其它实施例都是可能的。例如，在电解在混合室中进行的实施例中，本发明的设备可以包括一个或多个附加液体容器，其适用于向混合室供应其它液体。或者，例如，在电解室设置在混合室上游的实施例中，可以在设备中包括控制电子器件，使得电解、混合和分配彼此相适应，例如，以为终端用户提供单一最佳设置。此外，在任意实施例中，可以想到包括此类控制，从而使电解可以设定为“开”或“关”。这可以通过手动操作实现，也可以通过预编程的设置选择实现。
[0042] 优选地，加压气体释放到混合室中还用于控制从混合室到分配喷嘴的出口的流体连通。即混合室和分配喷嘴设计为下述方式：包含在混合室中的液体不分配，除非并且直到加压气体进入混合室并离开分配喷嘴。这不排除在一些实施例中，空气入口本身与混合室流体连通。
[0043] 由于遇到加压气体，混合室中的大部分液体将分解为多个液滴。因此，一些液体将保持流形式，并且一些气体将保持流形式，全部进一步进入分配喷嘴，并且(通过气体压力)迫使其通过分配喷嘴的出口。
[0044] 如上所述，提供专门用于口腔护理的ECAS的挑战在于控制分配到口腔中的ECAS浓度。本发明的口腔冲洗器允许为此目的实施系统。因此，本发明的设备包括流量调节器，其适用于调节液体从液体容器进入电解室的液体流量。流量调节器可以是例如阀，通过该阀可以设定进入电解室的每单位时间的液体量，例如，通过调节液体进入腔室的孔的尺寸。也可以想到其它流量调节器，例如，添加圆形流体连通环路，其设置有可调节泵，经由该可调节泵直接设定液体的流量。
[0045] 本发明的流量调节器至少与次氯酸盐传感器和ORP传感器结合使用。优选地，除次氯酸盐传感器和ORP传感器测量来自电解室的输出外，在电解室的上游设置盐水传感器，其测量进入电解室的输入。
[0046] 如本领域中可获得的，技术人员可以提供次氯酸盐传感器和ORP传感器，以及盐水传感器。这些传感器优选适用于将反馈发送至处理器，处理器转而适用于控制流量调节器。次氯酸盐传感器的非限制性示例包括电流传感器，例如由Dosatronic提供的，如DOSASens型号DCL10、氯传感器型号CP 2.1、氯传感器型号CS 2.3或来自Omega的FCLTX-100系列。除这些具体示例之外，还可以提供次氯酸盐传感器而无需进一步研究。ORP传感器的示例包括但不限于，Sensorex S1500C-ORP轻型聚碳酸酯ORP(REDOX)传感器、Vernier ORP传感器、PASS TestSafe ORP表、Osmotics HM Digital ORP-200：防水ORP表、 IntelliCAL MTC101坚固耐用凝胶填充ORP电极。
[0047] 如上所述，本发明的口腔冲洗器系统优选包括位于流量调节器上游的盐度传感器。该传感器也适用于将反馈发送至适用于控制流量调节器的处理器。此外，如本领域中可获得的，可以提供测量盐浓度的盐度传感器。合适的示例可以在使用电导测量的现有技术中找到，类似于池氯化测量。
[0048] 电解室本身可以以已知的方式设计。一般存在两个电极，其连接至电源以提供阳极和阴极。电极可以分别独立地由任意适当材料制成，例如铁、碳、铂或任意其它电导体材料。在本发明中，优选使用碳或钛或其组合。电极可以适当地涂覆，例如，以提高寿命。涂层的示例包括含有各种组分的混合金属氧化物(MMO)涂层，如铱、钌、铂、锆、铌、钽。优选地，电极是板电极。其可以是平板，延伸至电解室中或抵靠在电解室的壁上。特别地，在后一种情况下，电极可以弯曲，例如，按照设置在手持口腔冲洗器中的电解室的壁的形状弯曲。
[0049] 电源可以从交流连接获得，如标准家用电源，通常采用适配器将家用交流电转换为直流电。电源优选为电池或电池组，优选放置在口腔冲洗器系统的相应隔室中(例如，基站中，或手持口腔冲洗器中，或两者中)。如本领域的惯例，电池可以是可替换和/或可充电电池，尤其用于手持口腔冲洗器。在一个实施例中，本发明的系统，尤其是分配设备形式的系统，包括具有与电极系统的导电连接的电池盒。在另一实施例中，该设备包括用于家用交流电插座的适配器和电池盒，两者均具有与电极系统的导电连接。特别地，在电解室是部分基站的情况下，优选地，此类基站可以连接至家用交流电插座。更具体地，待保持在基站上并且需要电力的此类单独单元，例如，手持口腔冲洗器，可以在基站上充电。
[0050] 口腔冲洗器系统，如齿间清洁器，通常包括液体源；用于将选定量的液体从其液体源移动至液体路径中的系统；驱动单元，如泵或加压气体源或其组合；以及控制装置，用于释放选定量的气体以与液体接触，从而导致液体被推出清洁器的喷嘴部分。合适的装置尤其在WO2010/055433、WO2010/055434、WO2008/012707、WO2014/068431中进行了描述。通常优选射流速度为5m/s-50m/s，如10m/s-40m/s，如20m/s-30m/s。一个或多个泵单元可以是单独压缩机，泵送功能可以由加压气体或两者提供。优选地，口腔冲洗器系统包括微爆泵，其通常包含在分配单元中，如手持口腔冲洗器。
[0051] 本发明的口腔冲洗器可以是系统的形式，其中，部分构件可以是手持的，并且部分构件可以包含在基底或对接站中或其上。优选地，本发明的口腔冲洗器是完全手持的。在此类设备中，如上所述的口腔冲洗器系统的构件全部包含在壳体中或壳体上，壳体适用于(考虑到尺寸、形状和重量)能够被人正常地提升和保持，优选只用一只手。
[0052] 本发明还涉及一种齿间清洁方法。该方法包括：提供氯化钠水溶液，对溶液进行电解以产生次氯酸盐水溶液，以及将次氯酸盐溶液分配至口腔中，其中，电解和分配通过如前所述的口腔冲洗器系统在其所有实施例中进行。
[0053] 本发明的口腔冲洗器系统分配口腔冲洗流体，其优选包括液体和气体混合物，尤其是加压空气。迄今为止，在本领域中，此类流体还没有与ECAS一起提供过。在该方面，本发明还涉及一种包括水、次氯酸钠和空气的口腔冲洗流体。
[0054] 下面将参考下文讨论的非限制性附图进一步说明本发明。
[0055] 在附图中，不间断线表示液体流，虚线表示信息流，包括控制操作。附图中示出以下构件：
[0056] (2)泵，其配置为推进加压空气；
[0057] (3)用于流体的连通通道(管)；
[0058] (4)(通常可选的)阀；
[0059] (5)压力室(混合室)；
[0060] (6)喷嘴，用于将口腔冲洗流体分配至口腔中，尤其是人的口腔；
[0061] (7)电解室(ECAS小室)；
[0062] (8)用于待电解液体的馈送泵；
[0063] (9)控制电子器件；
[0064] (10)用于传递信息的数据连接；
[0065] (11)盐度传感器；
[0066] (12)流量调节器；
[0067] (13)处理器；
[0068] (14)次氯酸盐传感器；
[0069] (15)氧化还原电位(ORP)传感器；
[0070] (16)基站；
[0071] (17)液体储存器；
[0072] (18)手持式口腔冲洗器；
[0073] 图1是根据本发明优选实施例的口腔冲洗器系统(1)的示意图。这里示出一种系统，其中，本发明的所有构件都是单个口腔冲洗器设备的一部分。参考上述构件，该设备允许供应至该设备的水(未示出)由泵(8)经由流动管线(3)馈送至电解室(7)。来自电解室的输出，即ECAS，分别通过相应的传感器(14)和(15)经受次氯酸盐测量和氧化还原电位测量。从这些传感器获得的测量信息被发送至一组控制电子器件(9)，借此可以控制向电解室(7)的供水和/或电解室的功能。未示出但一般适用于本发明的所有实施例的是，在传感器的同步输出揭示不期望的污染物的量的情况下的控制机构。这种情况下，无论ECAS生成是否减少，控制机构还可以允许改变至系统中的水的供应，例如，通过从一个源(如自来水)切换至另一个源(如瓶装水)。
[0074] 图2示出根据本发明实施例的ECAS生成的控制布置的方案。这里，不间断线表示液体流，虚线表示信息流。待电解液体(a)经由盐度传感器(11)和流量调节器(12)流至电解室(7)，流量调节器(12)设置在盐度传感器的下游及电解室的上游。在分配之前，已电解液体(d)并行通过次氯酸盐传感器(14)和ORP传感器(15)。在处理器(13)中处理从盐度传感器获得的信息(b)；同样在处理器中处理从次氯酸盐传感器和ORP传感器获得的信息(e)和(f)，从而提供与ECAS生成量相关的反馈回路。来自处理器的信息(c)被发送至流量调节器，以根据与盐度输入和次氯酸盐输出相关的经处理的数据来调节待电解液体的流量。
[0075] 图3是根据本发明另一优选实施例的口腔冲洗器系统(1)的示意图。这里，该系统包括单独的分配设备(18)，如手持口腔冲洗器，以及通常配置为保持分配设备的基站(16)，并且可能包括可以用于提供口腔护理的其它任意设备或单元(未示出)，如电动牙刷。在所示实施例中，基站还包括液体储存器(即液体容器)。
[0076] 虽然附图和以上描述中已经详细说明并描述了本发明，但这些说明和描述应视为说明性或示例性的，而非限制性的；本发明不限于所公开的实施例。
[0077] 例如，可以在(在电解室的下游)存在其它传感器的实施例中操作本发明，以测量其它质量特性。此外，可以想到仅布置一个传感器用于将反馈发送至处理单元，另一传感器由人工读出。在具有基站和单独分配单元的实施例中，电解也可以既不包含在基站中也不包含在分配单元中，而是作为待保持在基站上的单独单元存在。
[0078] 在实践所要求保护的发明的过程中，通过学习附图、公开内容及所附权利要求，本领域技术人员对于所公开实施例的其它变型是可以理解并实现的。在权利要求中，“包括”一词不排除其它元件或步骤，不定冠词“一”或“一个”不排除多个。本发明的某些特征被记载在互不相同的从属权利要求中的事实不指示这些特征的组合不能被用于获得优势。权利要求中的任意附图标记不应理解为限定其范围。
[0079] 总之，在此公开了一种口腔冲洗器的装置，其作为构件系统并且优选作为单个手持设备。本文提供通过电解适当的盐溶液，即电化学活化溶液(ECAS)，现场分配(在系统或设备中)产生的包含抗菌离子/化学物质的口腔冲洗流体。通过提供电解室实现ECAS的生产。ECAS输出液体通过两个不同的传感器控制，即次氯酸盐传感器和ORP(氧化还原电位)传感器。通过确定次氯酸盐和ORP值的增加(或减少)的可能的差，传感器允许在生成ECAS之后确定不期望的污染物。
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