专利汇可以提供用于集成电路量度的形态精确化专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 包括从一个测得 信号 来确定在集成 电路 内一个结构的形态的方法和系统,用一个量度装置测量来自该结构的信号,在一个形态数据空间中选择测量信号的最佳符合,该数据空间有具有 指定 非线性程度的数据点,并执行一个精确化程序以确定精确化形态参数,一个实施方案包括一个精确化程序,该程序包括在形态库信号和形态参数的代价函数的一个功能区中寻找一个多面体,并用权重平均方法来把总代价函数最小化。其他实施方案包括用灵敏度分原,分簇方法,基于回归的方法,局域化精细 分辨率 方法,叠代率精确化方法,以及其他代价优化或精确化方法程序和方法的形态参数精确化程序。形态参数的精确化可以自动地启动或基于事先确定的标准,如象在测得信号和最佳符合形态库之间超过某一误差量度来启动。,下面是用于集成电路量度的形态精确化专利的具体信息内容。
1. 一种从测量信号确定集成电路结构的形态的方法,该方法包括:
用量度装置,测量来自结构的信号,该测量产生测得信号;
在形态数据空间中选择该测得信号的最佳符合,该形态数据空间有 具有指定非线性程度的数据点,这些数据点代表形态参数和相关的信号, 该形态参数表征集成电路结构的形态,最佳符合是形态数据空间中的这 样一个数据点,它具有的信号与测得信号最接近;以及
用精确化程序,基于所选信号的形态参数,确定对应于测得信号的 精确化形态参数;
其中精确化程序包括一系列步骤,被设计成用测得信号、与最佳符 合信号相关联的数据、以及从形态数据空间得到的和/或推导出的其他数 据来确定精确化形态参数。
2. 权利要求1的方法,其中在形态数据空间中选择测得信号的最佳 符合,该数据空间有具有指定非线性程度的数据点,包括:
指定在形态数据空间的数据点之间的非线性程度;以及
验证在形态数据空间的数据点之间存在指定的非线性程度。
3. 权利要求2的方法,其中指定在形态数据空间的数据点之间的非 线性程度包含建立对每一个形态参数的阈值偏离。
4. 权利要求2的方法,其中验证在形态数据空间的数据点之间存在 指定的非线性程度包括:
计算在形态数据空间中的数据点的精确化分辨率,该精确化分辨率 被设计成确保在数据点之间存在指定的非线性程度;以及
用所计算得到的精确化分辨率来建立形态数据空间的数据点。
5. 权利要求4的方法,其中计算形态数据空间中的数据点的精确化 分辨率包括:
计算灵敏度矩阵,该灵敏度矩阵是由于形态参数的变化引起信号的 变化的量度;
对每一个形态参数确定最大精确化分辨率,同时保持相关的在形态 数据空间数据点之间的非线性程度。
6. 权利要求1的方法,其中量度装置是光学量度装置,电学量度装 置,电子量度装置或力学量度装置。
7. 权利要求1的方法,其中确定对应于测得信号的精确化形态参数 包括:
在形态数据空间中选择多面体,该多面体包括最佳符合数据点,以 及具有这样的角,这些角对应于邻近最佳符合数据点的所选形态参数数 据点;以及
把总代价函数最小化,而总代价函数包括对应于所选形态参数数据 点的信号相对于测得信号的代价函数以及最佳符合信号相对于测得信号 的代价函数。
8. 权利要求7的方法,其中所选的多面体有一个角与每一个形态参 数相关联。
9. 权利要求7的方法,其中所选的多面体有两个角与每一个形态参 数相关联。
10. 权利要求7的方法,其中把总代价函数最小化包括:
选择一组权重矢量,每一个权重矢量具有矢量元,每一个矢量元与 对应于一个选定数据点的信号相关联;
对于权重矢量组的每一个权重矢量计算总代价函数;以及
选择产生最小总代价函数的权重矢量。
11. 权利要求10的方法,还包括:
用与最小总代价函数相关联的权重矢量计算精确化形态参数。
12. 权利要求1的方法,其中确定对应于检测得信号的精确化形态参 数包括:
计算灵敏度矩阵,而该灵敏度矩阵是形态参数的变化引起的信号变 化的量度,
用计算得到的灵敏度矩阵确定形态参数的调整值,以及
把形态参数的调整值加到在形态数据空间中的最佳符合数据点的相 应的形态参数上,从而算出精确化形态参数。
13. 权利要求12的方法,其中确定形态参数调整值包括:
计算最佳符合信号与测得信号的差值;
用最佳符合信号与测得信号的差值以及算得的灵敏度矩阵来计算调 整值。
14. 权利要求1的方法,其中用以确定精确化形态参数的精确化程序 利用双线性精确化,拉格朗日精确化,三次样条精确化,艾特肯精确化, 权重平均精确化,多二次精确化,双三次精确化,特伦精确化,小波精 确化,贝塞尔精确化,埃弗里特精确化,有限差分精确化,高斯精确化, 厄米特精确化,牛顿除差精确化,密切精确化,或蒂勒精确化算法。
15. 一种从测得信号确定集成电路结构的形态的方法,该方法包括:
用量度装置测得来自结构的信号,该测量产生一个测得信号;
把测量信号与簇代表的信号加以比较以选择测量信号的最佳符合, 而簇代表选自形态数据空间的数据点的簇,簇代表有相关联的调整乘数 因子矩阵,该矩阵被配置以把信号转换为形态参数,形态数据空间的数 据点有指定的非线性程度,数据点代表形态参数和相关信号,形态参数 表征集成电路结构的形态;以及
把测得信号和调整乘数因子矩阵相乘以计算精确化形态参数。
16. 权利要求15的方法,其中通过把测量信号与簇代表的信号比较以 选择测量信号的最佳符合包括:
把形态数据空间的数据点分组成簇;
对于每一个簇选出簇代表;以及
对于每一簇的簇代表的每一个形态参数推导调整乘数因子矩阵。
17. 权利要求15的方法,还包括:
相对于预置标准,检测精确化形态参数对比最佳符合信号的形态参 数的准确性;以及
如果精确化形态参数不满足预置标准,应用改正措施。
18. 一种从测量信号确定集成电路结构的形态的方法,包括:
用量度装置测量来自结构的信号,该测量产生测得信号;
选择数据空间中给定数目的与测量信号最邻近的数据点,数据空间 的数据点表示形态参数和相关的信号,形态参数表征集成电路结构的形 态,数据空间的数据点具有指定的非线性程度;
推导出调整乘数因子,该调整乘数因子用来把与所选数目的数据点 相关的信号转换成相应的形态参数;以及
通过把测得信号和调整乘数因子相乘,计算对应于测得信号的精确 化形态参数。
19. 一种从测量信号来确定集成电路结构的形态的方法,该方法包 括:
用量度装置,测量来自结构的信号,该测量产生测得信号;
在形态数据空间选择该测得信号的最佳符合,该形态数据空间有具 有指定非线性程度的数据点,这些数据点代表形态参数和相关的信号, 该形态参数表征集成电路结构的形态,最佳符合是形态数据空间中的这 样的数据点,其具有的信号与测得信号最接近;以及
选择指定数目的与最佳符合最接近的数据点;
用与所选数据点相关的数据推导出调整乘数因子,该调整乘数因子 用来把所选数据点的信号转换为相应的形态参数;以及
通过把测得信号和调整乘数因子相乘,计算对应于测得信号的精确 化形态参数。
20. 一种调整形态精确化的参数的方法,以用于确定集成电路结构的 形态,该方法包括:
通过使用精确化程序以及以指定分辨率建立的形态数据空间,确定 对应于测得信号的精确化形态参数,该形态数据空间有数据点,而该数 据点代表形态参数和相关信号,该形态参数表征集成电路结构的形态;
推导乘数因子以把形态参量转换成对应的算得信号,该推导用与所 选数据点相关的数据;
用乘数因子和测得信号的精确化形态参数计算信号;
比较计算信号相对于测得信号的符合优值和从形态数据空间的最佳 符合信号相对于测得信号的符合优值,而最佳符合信号是通过比较测得 信号和形态数据空间各数据点相关的信号得到的,以及
选择最接近测得信号的算得信号;
其中精确化程序包括一系列步骤,被设计成用测得信号、与最佳符 合信号相关联的数据、以及从形态数据空间得到的和/或推导出的其他数 据,来确定精确化形态参数。
21. 权利要求20的方法,其中比较符合优值是用比较算得信号相对于 测得信号的代价函数与最佳符合信号相对于测得信号的代价函数来实现 的。
22. 权利要求20的方法,还包括:
执行改正措施以改进算得信号相对于测得信号的符合优值。
23. 权利要求22的方法,其中执行改正措施包括以比原来分辨率更高 的分辨率重新建立形态数据空间。
24. 权利要求22的方法,其中执行改正措施包括把精确化程序改变为 一个不同的精确化程序。
25. 一种从测量信号确定集成电路结构的形态的方法,该方法包括:
用量度装置,测量来自结构的信号,该测量产生测得信号;
在形态数据空间中选择测得信号的最佳符合,数据点代表形态参数 和相关信号,形态参数表征集成电路结构的形态,最佳符合是形态数据 空间中的数据点,其信号与测得信号最为接近;
在形态数据空间的一个子集内选择第一数据点,该形态数据空间子 集包括测得信号和与最佳符合信号相关联的数据点最接近的数据点;
以对应于所选第一数据点的形态参数模拟来自结构的信号;
验证形态精确化预置标准被满足,该形态精确化预置标准包括模拟 信号相对于测得信号的符合优值的量度;以及
提取与满足形态精确化预置标准的模拟信号相关联的形态参数。
26. 权利要求25的方法,其中验证形态精确化预置标准被满足包括:
检验一个误差量度是否在形态精确化预置标准范围内,该误差量度 测量该模拟信号相对于测得信号的符合优值;以及
如果误差量度是在形态精确化预置标准范围外,执行一种优化方法 以在数据空间子集内选择下一个数据点,下一个数据点被用来确定下一 个模拟信号。
27. 权利要求26的方法,其中执行优化方法以在数据空间子集中选择 下一个数据点,包括应用整体优化方法和/或局域优化方法。
28. 权利要求25的方法,其中形态数据空间是包含这样的数据点,这 些数据点用量度模拟方法所产生,量度模拟方法从一组形态参数来计算 来自结构的信号。
29. 一种从测量信号确定集成电路结构的形态的方法,该方法包括:
用量度装置,测量来自结构的信号,该测量产生测得信号;
在形态数据空间中选择测得信号的最佳符合,数据点代表形态参数 和相关信号,形态参数表征集成电路结构的形态,最佳符合是形态数据 空间中的数据点,其信号与测得信号最为接近;
计算灵敏度矩阵,该灵敏度矩阵是形态参数的变化引起的信号变化 的量度;
用算得的灵敏度矩阵和最佳符号形态参数确定第一组精确化形态参 数;
用第一组精确化形态参数模拟第一信号;并用所算得的灵敏度矩阵 和第一组精确化形态参数确定第二组精确化形态参数。
30. 权利要求29的方法,还包括:
用第二组精确化形态参数模拟第二信号;并用算得的灵敏度矩阵和 第二组精确化形态参数确定第三组精确化形态参数。
31. 一种从测量信号确定集成电路结构的形态的方法,该方法包括:
用量度装置,测量来自结构的信号,该测量产生测得信号;
在形态数据空间中选择测得信号的最佳符合,数据点代表形态参数 和相关信号,形态参数表征集成电路结构的形态,最佳符合是形态数据 空间中的数据点,其信号与测得信号最为接近;
用一种精确化程序来确定第一组精确化形态参数,该精确化程序是 一系列步骤,设计成用测得信号、与最佳符合信号相关联的数据、以及 其他从形态数据空间得到的和/或推导出的数据来确定精确化形态参数,
围绕第一组精确化形态参数建立形态参数的范围;
用围绕第一组精确化形态参数建立的范围,建立第二形态数据空间; 以及
用精确化程序确定第二组精确化形态参数;
其中精确化程序包括一系列步骤,设计成用测得信号、与最佳符合 信号相关联的数据、以及从形态数据空间得到的和/或推导出的其他数据 来确定精确化形态参数。
32. 权利要求31的方法,还包括:
用围绕第二组精确化形态参数建立的范围,建立第三形态数据空间; 以及
用精确化程序确定第三组精确化形态参数。
33. 一种从测得衍射谱确定集成电路结构的形态的方法,该方法包 括:
用量度装置,测量来自结构的衍射谱,该测量产生测得衍射谱;
在形态库中选择测得衍射谱的最佳符合,该形态库有具有给定非线 性程度的库项,形态库库项包括形态参数和相关的衍射谱,该形态参数 表征集成电路结构的形态,最佳符合是形态库的库项,其衍射谱与测得 衍射谱最为接近;以及
用一种精确化程序,基于所选信号的形态参数,确定对应于测得衍 射谱的精确化形态参数;
其中精确化程序包括一系列步骤,设计成用测得信号、与最佳符合 信号相关联的数据、以及从形态数据空间得到的和/或推导出的其他数据 来确定精确化形态参数。
34. 权利要求33的方法,其中在形态库中选择测得衍射谱的最佳符合 包括:
指定在形态库的库项之间的非线性程度;以及
验证在形态库的库项之间存在指定的非线性程度。
35. 权利要求34的方法,其中指定非线性的程度包括对每一个形态参 数建立阈值偏离。
36. 权利要求34的方法,其中验证在形态库的库项之间存在指定的非 线性程度包括:
计算在形态库中库项的精确化分辨率,该精确化分辨率被设计成保 证在形态库中的库项之间存在指定的非线性程度;以及
用形态参数范围和算得的精确化分辨率来建立形态库。
37. 权利要求36的方法,其中计算在形态库中库项的精确化分辨率包 括:
计算灵敏度矩阵,该灵敏度矩阵是形态参数的变化引起信号变化的 一个量度;
对形态参数确定最大的精确化分辨率,同时保持在形态库的库项之 间指定的非线性程度。
38. 权利要求33的方法,其中确定对应于测得信号的精确化形态参数 包括:
在形态数据空间中选择多面体,该形态数据空间有表示形态库库项 的数据点,该多面体包含最佳符合数据点并有多个角,这些角对应于最 邻近最佳符合数据点的所选数据点,最佳符合数据点对应于形态库的最 佳符合库项;以及
使总代价函数最小化,总代价函数包括对应于所选数据点的衍射谱 相对于测得衍射谱的代价函数以及最佳符合衍射谱相对于测得衍射谱的 代价函数。
39. 权利要求38的方法,其中所选的多面体有一个角与每一个形态参 数相关联。
40. 权利要求38的方法,其中所选的多面体有二个角与每一个形态参 数相关联。
41. 权利要求38的方法,其中使总代价函数最小化包括:
选择一组权重矢量,每一个权重矢量有矢量元,每一个矢量元和对 应于一个所选数据点的衍射谱相关联;
用该组权重矢量的一个权重矢量计算总代价函数;以及
选择和最小总代价函数相关联的权重矢量。
42. 权利要求41的方法,还包括:
用与最小代价函数相关联的权重矢量计算精确化形态参数。
43. 权利要求33的方法,其中确定对应于测得信号的精确化形态参数 包括:
计算灵敏度矩阵,该矩阵是形态参数的变化引起信号变化的量度;
用灵敏度矩阵确定形态参数的调整值;以及
通过把形态参数的调整值加到形态库的最佳符合库项的相应的形态 参数上以计算精确化形态参数。
44. 权利要求43的方法,其中确定形态参数的调整值包括:
计算最佳符合谱和测得谱的差;以及
用最佳符号谱和测得谱的差以及算得的灵敏度矩阵来计算调整值。
45. 权利要求33的方法,其中用来确定精确化形态参数的精确化程序 利用双线性精确化,拉格朗日精确化,三次样条精确化,艾特肯精确化, 权重平均精确化,多二次精确化,双三次精确化,特伦精确化,小波精 确化,贝塞尔精确化,埃弗里特精确化,有限差分精确化,高斯精确化, 厄米特精确化,牛顿除差精确化,密切精确化,蒂勒精确化算法。
46. 一种从测得衍射谱确定集成电路结构的形态的方法,该方法包 括:
用量度装置,测量来自结构的衍射谱,该测量产生测得衍射谱;
把测得衍射谱与簇代表的衍射谱加以比较以选出测得衍射谱的最佳 符合,簇代表有一个相关联的调整乘数因子矩阵以用来把衍射谱转换为 形态参数,簇代表选自形态库库项的簇,形态库的库项包括衍射谱和形 态参数,而形态参数表征集成电路结构的形态,形态库的库项以指定的 非线性程度建立;以及
通过把测量得衍射谱和调整乘数因子矩阵相乘来计算精确化形态参 数。
47. 权利要求46的方法,其中通过把测得衍射谱和簇代表的衍射谱比 较以选择测得衍射谱的最佳符合包括:
把形态库的库项分组成簇;
对每一个簇选择簇代表;以及
对每一个簇的簇代表的每一个形态参数值推导调整乘数因子矩阵。
48. 权利要求46的方法,还包括:
按照预置标准,检测精确化形态参数对比最佳符合信号的形态参数 的准确性;以及
如果精确化形态参数不满足预置标准,则执行改正措施。
49. 一种从测得衍射谱确定集成电路结构的形态的方法,该方法包 括:
用量度装置,测量来自结构的衍射谱,该测量产生测得衍射谱;
选择和测得衍射谱最接近的指定数目的形态库库项,这些形态库库 项包括衍射谱和形态参数,而形态参数表征集成电路结构的形态,形态 库的库项是以指定的非线性程度建立的;
推导调整乘数因子,该调整乘数因子被配置以把所选数目的的形态 库库项的衍射谱转换成相应的形态参数;以及
通过把测得衍射谱和调整乘数因子相乘来计算精确化形态参数。
50. 一种从测得衍射谱确定集成电路结构的形态的方法,该方法包 括:
用量度装置,测量来自结构的衍射谱,该测量产生测得衍射谱;
在形态库中选择测得谱的最佳符合,该形态库有具有指定非线性程 度的库项,形态库库项包括形态参数和相关联的衍射谱,而形态参数表 征集成电路结构的形态,最佳符合是形态库中具有和测得衍射谱最接近 的衍射谱的一个库项;
选择指定数目的最邻近最佳符合谱的形态库库项;
推导调整乘数因子,该调整乘数因子用来把所选数目的的形态库库 项的衍射谱转换成相应的形态参数;以及
通过把测得衍射谱和调整乘数因子相乘来计算精确化形态参数。
51. 一种调整形态精确化的参数的方法,以用于确定集成电路结构的 形态,该方法包括:
用量度装置,测量来自结构的衍射谱,该测量产生测得衍射谱;
用精确化程序以及以指定分辨率建立的形态库来确定对应于测得衍 射谱的精确化形态参数,该形态库有各个库项,库项有形态参数和相关 联的衍射谱,而形态参数表征集成电路结构的形成,精确化程序是一系 列步骤,被设计成以测得衍射谱、与最佳符合衍射谱相关联的数据、以 及其他从形态库得到的和/或推导出的数据来确定精确化形态参数;
推导乘数因子,以把形态参数转换成相应算得的衍射谱,此推导使 用与所选的形态库库项相关联的数据;
用乘数因子和测得衍射谱的精确化形态参数来计算衍射谱;以及
比较算得衍射谱相对于测得衍射谱的符合优值与从形态库得到的最 佳符合衍射谱相对于测得衍射谱的符合优值,而最佳符合衍射谱是通过 把测得衍射谱和形态库各库项的衍射谱相比较并选择与测得衍射谱最接 近的衍射谱来得到的。
52. 权利要求51的方法,其中符合优值比较是通过比较算得衍射谱相 对于测得衍射谱的代价函数和最佳符合衍射谱相对于测得衍射谱的代价 函数来实现的。
53. 权利要求51的方法,还包括:
执行改正措施以改善算得的衍射谱相对于测得衍射谱的符合优值。
54. 权利要求53的方法,其中执行改正措施包括以较原来的分辨率更 高的分辨率重新建立该形态库。
55. 权利要求53的方法,其中执行改正措施包括把精确化程序改变为 一个不同的精确化程序。
56. 一种从测得衍射谱确定集成电路结构的形态的方法,该方法包 括:
用量度装置,测量来自结构的衍射谱,该测量产生测得衍射谱;
在形态库中选择测得谱的最佳符合,该形态库有具有指定非线性程 度的各个库项,形态库库项包括形态参数和相关联的衍射谱,而形态参 数表征集成电路结构的形态,最佳符合是形态库中具有和测得衍射谱最 接近的衍射谱的库项;
在数据空间的一个子集内选择第一数据点,该数据空间子集包括最 佳符合衍射谱的形态参数和邻近最佳符合谱的形态参数的形态参数;
利用对应于所选第一数据点的形态参数模拟来自结构的衍射谱;
验证是否满足形态精确化预置标准,该形态精确化预置标准包括模 拟衍射谱相对于测得衍射谱的符合优值的量度;以及
把与满足精确化预置标准的模拟衍射谱相关联的形态参数提取出 来。
57. 权利要求56的方法,其中验证是否满足形态精确化预置标准包 括:
检验误差量度是否在形态精确化预置标准以内,该误差量度测量模 拟衍射谱相对于测得谱的符合优值;以及
如果误差量度在形态精确化预置标准以外,那么执行优化技术以在 数据空间子集中选择下一个数据点,该下一个数据点被用来确定下一个 模拟衍射谱。
58. 权利要求57的方法,其中执行优化技术以在数据空间子集中选择 下一个数据点包括应用整体优化技术和/或局部优化技术。
59. 权利要求56的方法,其中数据空间具有用光学量度模拟方法产生 的数据点,该光学量度模拟方法从给定分辨率下的一组形态参考数据计 算来自结构的衍射谱。
60. 一种从测得衍射谱来确定集成电路结构的形态的方法,该方法包 括:
用量度装置测得来自结构的衍射谱,该测量产生测得衍射谱;
在形态库中选择测得谱的最佳符合,该形态库有具有给定非线性程 度的各个库项,形态库库项包括形态参数和相关的衍射谱,该形态参数 表征集成电路结构的形态,最佳符合是形态库中的库项,其衍射谱最接 近于测得衍射谱;
计算灵敏度矩阵,该灵敏度矩阵是形态参数的变化引起衍射谱变化 的量度;
用计算出的灵敏度矩阵和最佳符合形态参数来确定第一组精确化形 态参数;
用该第一组精确化形态参数来模拟第一衍射谱;以及
用算得的灵敏度矩阵和第一组精确化形态参数来确定第二组精确化 形态参数。
61. 权利要求60的方法,还包括:
用该第二组精确化形态参数模拟第二衍射谱;以及
用算得的灵敏度矩阵和第二组精确化形态参数确定第三组精确化形 态参数。
62. 一种从测得衍射谱来确定集成电路结构的形态的方法,该方法包 括:
用量度装置测得来自结构的衍射谱,该测量产生测得衍射谱;
在形态库中选择测得谱的最佳符合,该形态库有具有给定非线性程 度的各个库项,形态库库项包括形态参数和相关的衍射谱,该形态参数 表征集成电路结构的形态,最佳符合是形态库中的库项,其衍射谱最接 近于测得衍射谱;
用精确化程序确定第一组精确化形态参数,该精确化程序是一系列 步骤,设计成用测得衍射谱、与最佳符合衍射谱相关联的数据、以及从 形态库得到的和/或推导得到的其他数据来确定精确化形态参数;
围绕该第一组精确化形态参数,建立形态参数的范围;
用建立起的围绕第一组精确化形态参数的范围,建立第二形态库; 以及
用精确化程序确定第二组精确化形态参数。
63. 一种从测量信号确定集成电路结构的形态的系统,该系统包括:
形态询问装置,它被配置成传送测得信号和接收精确化形态参数, 该测得信号从集成电路结构得到,而形态参数表征该集成电路结构的可 能的形态;
形态数据空间,该空间有具有指定非线性程度的数据点,该数据点 代表形态参数和相关信号;以及
形态评估器,被配置以在形态数据空间中选择测得信号的最佳符合, 最佳符合是形态数据空间中的数据点,其信号最接近于测得信号,该形 态评估器还被配置以执行精确化程序以确定精确化形态参数;
其中精确化程序包括一系列步骤,被设计成用测得信号、与最佳符 合信号相关联的数据、以及从形态数据空间得到的和/或推导出的其他数 据,来确定精确化形态参数。
64. 权利要求63的系统,其中形态评估器被配置以在形态数据空间中 选择多面体,该多面体包括最佳符合数据点,以及具有这样的角,这些 角对应于邻近最佳符合数据点的所选形态参数数据点;以及
其中形态评估器被配置成使总代价函数最小化,总代价函数包括对 应于所选形态参数数据点的信号相对于测得信号的代价函数以及最佳符 合信号相对于测得信号的代价函数。
65. 权利要求63的系统,其中形态评估器被配置成计算灵敏度矩阵, 该灵敏度矩阵是形态参数的变化引起信号变化的量度;
其中形态评估器被配置成用算得的灵敏度来确定形态参数的调整 值;以及
其中形态评估器被配置成通过把形态参数的调整值加至在形态数据 空间中的最佳符合数据点的对应形态参数上来算出精确化形态参数。
66. 权利要求63的系统,其中形态评估器被配置成以把测得信号与簇 代表的信号加以比较,选出测得信号的最佳符合,该簇代表选自形态数 据空间的数据点的簇,该形态数据空间的数据点具有指定的非线性程度, 该数据点代表形态参数和相关信号,形态参数表征集成电路结构的形态; 以及
其中形态评估器被配置成通过把测得信号与调整乘数因子矩阵相乘 来计算精确化形态参数,该调整乘数因子矩阵把信号转换成形态参数。
67. 权利要求63的系统,其中形态评估器被配置成选择指定数目的数 据空间的最接近于测得信号的数据点,数据空间的数据点表示数据空间 的形态参数和相关的信号,形态参数表征集成电路结构的形态,数据空 间的数据点具有指定的非线性程度;
其中形态评估器被配置成推导调整乘数因子,该调整乘数因子把与 所选择数目数据点相关的信号转换成对应的形态参数,以及
其中形态评估器被配置成用测得信号和调整乘数因子相乘来计算对 应于测得信号的精确化形态参数。
68. 权利要求63的系统,其中形态评估器被配置成在形态数据空间中 选择测得信号的最佳符合,数据点表示形态参数和相关信号,形态参数 表征集成电路结构的形态,最佳符合是形态数据空间的数据点,其信号 与测得信号最接近;
其中形态评估器被配置成在形态数据空间的子集内选择第一数据 点,该形态数据空间子集包括该测得信号以及与最佳符合信号相关联的 数据点接近的数据点;
其中形态评估器被配置成利用对应于所选第一数据点的形态参数的 结构来模拟来自结构的信号;
其中形态评估器被配置成保证形态精确化预置标准被满足,该形态 精确化预置标准包括模拟信号相对于测得信号的符合优值的测量;以及
其中形态评估器被配置提取与满足形态精确化预置标准的模拟信号 相关联的形态参数。
69. 权利要求63的系统,其中形态评估器被配置成在形态数据空间中 选择测得信号的最佳符合,该数据点代表形态参数的相关的信号,形态 参数表征集成电路结构的形态,最佳符合是形态数据空间的数据点,其 信号与测得信号最接近;
其中形态评估器被配置成计算灵敏度矩阵,该灵敏度矩阵是形态参 数的变化引起信号变化的量度;
其中形态评估器被配置成用算得的灵敏度矩阵和最佳符合形态参数 来计算第一组精确化形态参数;
其中形态评估器被配置成用第一组精确化形态参数来模拟第一信 号;以及
其中形态评估器被配置成用算得的灵敏度矩阵和第一组精确化形态 参数来确定第二组精确化形态参数。
70. 权利要求63的系统,其中形态评估器被配置成在形态数据空间 中选择测得信号的最佳符合,该数据点代表形态参数的相关的信号,形 态参数表征集成电路结构的形态,最佳符合是形态数据空间的数据点, 其信号与测得信号最接近;
其中形态评估器被配置成用精确化程序来确定第一组精确化形态参 数,该精确化程序是一系列步骤,被设计成用测得信号、与最佳符合信 号相关联的数据、以及从形态数据空间得到的和/或推导出的其他数据来 确定精确化形态参数;
其中形态评估器被配置成围绕第一组精确化形态参数,建立形态参 数的范围;
其中形态评估器被配置成用围绕第一组精确化形态参数建立的范围 建立第二形态数据空间;以及
其中形态评估器被配置成用精确化程序来确定第二组精确化形态参 数。
71. 权利要求63的系统,其中形态评估器被配置成去执行精确化程 序,该程序利用双线性内插法,拉格朗日内插法,三次样条内插法,艾 特肯内插法,权重平均内插法,多二次内插法,双三次内插法,特伦内 插法,小波内插法,贝塞尔内插法,埃弗里特内插法,有限差分内插法, 高斯内插法,厄米特内插法,牛顿除差内插法,密切内插法,或蒂勒内 插法算法。
72. 一种利用多重精确化引擎从测得信号来确定集成电路结构的形态 的系统,该系统包括:
形态询问装置,它被配置成传送测得信号和接收精确化形态参数, 该测得信号从一个集成电路结构得到,而形态参数表征该集成电路结构 的一种可能的形态;
形态数据空间,被用来存储具有形态参数和相关信号的数据点;以 及
形态评估器,被配置成启动多于一个精确化程序来确定多于一组精 确化形态参数,被配置成选择最佳符合信号,最佳符合是形态数据空间 的一个数据点,其信号最接近于测得信号,被配置成基于指定的选择标 准,从多于一组精确化形态参数中选择一组精确化形态参数;
其中该精确化程序包括一系列步骤,被设计成用测得信号、与最佳 符合信号相关联的数据、以及从形态数据空间得到的或推导出的数据来 确定精确化形态参数。
73. 一种从由量度装置产生的测量信号来确定集成电路结构的形态的 系统,该系统包括:
量度装置,它被配置成测量来自集成电路结构的信号并传送该测得 信号,该测得信号从集成电路结构得到,形态参数表征该集成电路结构 的可能的形态;
形态询问装置,它被配置成传送用于形态参数的询问并接收精确化 形态参数;
形态数据空间,被配置成存储数据点,该数据点具有信号和相关联 的形态参数;以及
形态评估器,它被配置成在形态数据空间中选择测得信号的最佳符 合,最佳符合是形态数据空间的一个数据点,其信号最接近于测得信号, 被配置成启动一个或更多的精确化程序来确定一组或更多组精确化形态 参数,被配置成基于指定的选择标准来从一组或几组精确化形态参数来 选择一组精确化形态参数,以及被配置成把精确化形态参数传送到形态 询问装置;
其中该精确化程序包括一系列步骤,被设计成用测得信号、与最佳 符合信号相关联的数据、以及从形态数据空间得到的或推导出的数据来 确定精确化形态参数。
74. 权利要求73的系统,其中量度装置是光学量度装置,电子量度装 置,电学量度装置,或力学量度装置。
本发明涉及集成电路(IC)量度,更具体地讲,涉及用量度系统和 形态库或形态数据空间以确定IC结构的临界尺寸(CD)和形态。
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