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一种含氰电的处理系统

阅读:1022发布:2020-05-31

专利汇可以提供一种含氰电的处理系统专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 涉及废 水 处理 技术领域,尤其是一种含氰电 镀 废水 的处理系统,包括依次通过管路连接的含氰废水池、一次 氧 化池、二次氧化池、PH调整池、快混池、胶羽池、 沉淀池 和中和池,所述沉淀池通过第一 污泥 泵 与污泥浓缩池连通,所述污泥浓缩池通过第二污泥泵与污泥脱水机连通,所述中和池上设有出水槽和PH检测装置,所述出水槽内设有PH检测装置,所述第二污泥泵与空压机连通对第二污泥泵的出泥管进行反吹,各个处理池之间相互独立,从而有效的解决了现在 电镀 废水设备都是整体对废水进行处理,药剂之间容易混合反应,处理氰化物的效果不理想问题。,下面是一种含氰电的处理系统专利的具体信息内容。

1.一种含氰电的处理系统,其特征在于:包括依次通过管路连接的含氰废水池
(1)、一次化池(2)、二次氧化池(3)、PH调整池(4)、快混池(5)、胶羽池(6)、沉淀池(7)和中和池(8),所述沉淀池(7)通过第一污泥(10)与污泥浓缩池(9)连通,所述污泥浓缩池(9)通过第二污泥泵(11)与污泥脱水机(12)连通,所述中和池(8)上设有出水槽(13)和PH检测装置(14),所述出水槽(13)内设有PH检测装置(14),所述第二污泥泵(11)与空压机(15)连通对第二污泥泵(11)的出泥管进行反吹。
2.根据权利要求1所述的一种含氰电镀废水的处理系统,其特征在于:还包括若干个储
药罐(16),所述一次氧化池(2)、二次氧化池(3)、PH调整池(4)、快混池(5)、胶羽池(6)和中和池(8)分别通过输液管与储药罐(16)对应连接,所述输液管上设有对储药罐(16)的药物进行计量的计量泵(17)。
3.根据权利要求2所述的一种含氰电镀废水的处理系统,其特征在于:所述输液管的输
出端分别深入至一次氧化池(2)、二次氧化池(3)、PH调整池(4)、快混池(5)、胶羽池(6)和中和池(8)的底部。
4.根据权利要求1所述的一种含氰电镀废水的处理系统,其特征在于:还包括搅拌装
置,所述搅拌装置包括鼓机(18)和输气管(19),所述输气管(19)的首端与鼓风机(18)连接,末端分别深入至一次氧化池(2)、二次氧化池(3)、PH调整池(4)、快混池(5)、胶羽池(6)和中和池(8)的底部。
5.根据权利要求4所述的一种含氰电镀废水的处理系统,其特征在于:还包括若干个支
气管(20),所述支气管(20)包括连接端(201)和密封端(202),所述支气管(20)上设有一排出气孔(203),且从连接端(201)至密封端(202)方向,出气孔(203)逐渐增大。
6.根据权利要求1所述的一种含氰电镀废水的处理系统,其特征在于:所述含氰废水池
(1)内设有液位计。
7.根据权利要求1所述的一种含氰电镀废水的处理系统,其特征在于:所述一次氧化池
(2)和二次氧化池(3)内设有PH检测装置(14)和ORP检测装置(21)。

说明书全文

一种含氰电的处理系统

[0001]

技术领域

[0002] 本发明涉及废水处理技术领域,尤其是一种含氰电镀废水的处理系统。

背景技术

[0003] 电镀废水的来源一般为:(1)镀件清洗水;(2)废电镀液;(3)其他废水,包括冲刷车间地面,刷洗极板洗水,通设备冷凝水,以及由于镀槽渗漏或操作管理不当造成的 “跑、冒、滴、漏”的各种槽液和排水;(4)设备冷却水,冷却水在使用过程中除温度升高以外,未受到污染。电镀废水的水质、水量与电镀生产的工艺条件、生产负荷、操作管理与用水方式等
因素有关。电镀废水的水质复杂,成分不易控制,其中含有铬、镉、镍、、锌、金、等重金属离子和氰化物等,有些属于致癌、致畸、致突变的剧毒物质。
[0004] 所以需要对电镀废水进行处理后才能排出或者回收再利用,然而去除包含每种重金属离子和氰化物的药剂是不同的,现在电镀废水设备都是整体对废水进行处理,药剂之
间容易混合反应,导致处理氰化物的效果不理想。

发明内容

[0005] 本发明要解决的技术问题是:为了解决现在电镀废水设备都是整体对废水进行处理,药剂之间容易混合反应,导致处理氰化物的效果不理想问题,本发明提供了一种含氰电
镀废水的处理系统,通过设置一次化池、二次氧化池、PH调整池、快混池、胶羽池、沉淀池和中和池对含氰化物的电镀废水分别处理,从而有效的解决了现在电镀废水设备都是整体
对废水进行处理,药剂之间容易混合反应,处理氰化物的效果不理想问题。
[0006] 本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种含氰电镀废水的处理系统,包括依次通过管路连接的含氰废水池、一次氧化池、二次氧化池、PH调整池、快混池、胶羽池、沉淀池和中和池,所述沉淀池通过第一污泥与污泥浓缩池连通,所述污泥浓缩池通过第
二污泥泵与污泥脱水机连通,所述中和池上设有出水槽和PH检测装置,所述出水槽内设有
PH检测装置,所述第二污泥泵与空压机连通对第二污泥泵的出泥管进行反吹。
[0007] 为了精确的计量输送的药物,保证内部反应充分,还包括若干个储药罐,所述一次氧化池、二次氧化池、PH调整池、快混池、胶羽池和中和池分别通过输液管与储药罐对应连
接,所述输液管上设有对储药罐的药物进行计量的计量泵
[0008] 为了保证药物与含氰的废水充分混合,所述输液管的输出端分别深入至一次氧化池、二次氧化池、PH调整池、快混池、胶羽池和中和池的底部。
[0009] 为了保证药物与含氰的废水充分混合,还包括搅拌装置,所述搅拌装置包括鼓风机和输气管,所述输气管的首端与鼓风机连接,末端分别深入至一次氧化池、二次氧化池、
PH调整池、快混池、胶羽池和中和池的底部。
[0010] 进一步地,还包括若干个支气管,所述支气管包括连接端和密封端,所述支气管上设有一排出气孔,且从连接端至密封端方向,出气孔逐渐增大,由于越靠近密封端气体越难
到达,为了减轻鼓风机的负荷,将靠近连接端的出气孔设置的小,降低泄压的速度,保证靠
近密封端的出气孔也很容易输出气体,从而保证在较小的负荷条件下就能够使得密封端的
出气孔有气体流出,保证废水与药剂的混合均匀,提高反应速度,也提高了氰化物的处理效
果。
[0011] 为了防止液位太高造成废水溢出,所述含氰废水池内设有液位计。
[0012] 具体地,所述一次氧化池和二次氧化池内设有PH检测装置和ORP检测装置,能够随时观察水质情况,并进行调整。
[0013] 本发明的有益效果是:本发明提供了一种含氰电镀废水的处理系统,通过专设置处理氰化物,各个处理池之间相互独立,并通过流量泵进行精确计算,有效的提高了氰化
物的去除效果,通过在支气管上设有一排出气孔,且从连接端至密封端方向,出气孔逐渐增
大,由于越靠近密封端气体越难到达,为了减轻鼓风机的负荷,将靠近连接端的出气孔设置
的小,降低泄压的速度,从而保证在较小的负荷条件下就能够使得密封端的出气孔有气体
流出,进而通过气体保证废水与药剂的混合均匀,提高反应速度,也提高了氰化物的处理效
果。
附图说明
[0014] 下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
[0015] 图1是本发明的一种含氰电镀废水的处理系统的结构示意图;图2是图1中支气管的结构示意图。

具体实施方式

[0016] 现在结合附图对本发明作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图,仅以示意方式说明本发明的基本结构,因此其仅显示与本发明有关的构成。
[0017] 如图1和图2所示,一种含氰电镀废水的处理系统,包括依次通过管路连接的含氰废水池1、一次氧化池2、二次氧化池3、PH调整池4、快混池5、胶羽池6、沉淀池7和中和池8,沉淀池7通过第一污泥泵10与污泥浓缩池9连通,污泥浓缩池9通过第二污泥泵11与污泥脱水
机12连通,中和池8上设有出水槽13和PH检测装置14,出水槽13内设有PH检测装置14,第二
污泥泵11与空压机15连通对第二污泥泵11的出泥管进行反吹。
[0018] 在一种具体实施中,还包括若干个储药罐16,一次氧化池2、二次氧化池3、PH调整池4、快混池5、胶羽池6和中和池8分别通过输液管与储药罐16对应连接,输液管上设有对储
药罐16的药物进行计量的计量泵17,一次氧化池2和二次氧化池3分别与装有NaCLO和NaOH
的储药罐16连通进行除氰处理,PH调整池4与 装有NaOH的储药罐16连通对PH值进行调整,
快混池5与装有PAC的储药罐16连通对水进行混凝,胶羽池6与装有PAM的药罐16连通对混凝
的水进行絮凝沉淀,中和池8与装有硫酸溶液的药罐16连通对使酸性废水或性废水与药
剂在池中匀质混合后进行中和反应处理,且各个储药罐16分别与鼓风机的输气管19连通,
方便在加入水或缺其他试剂时,保证搅拌充分。
[0019] 在一种具体实施中,输液管的输出端分别深入至一次氧化池2、二次氧化池3、PH调整池4、快混池5、胶羽池6和中和池8的底部。
[0020] 在一种具体实施中,还包括搅拌装置,搅拌装置包括鼓风机18和输气管19,输气管19的首端与鼓风机18连接,末端分别深入至一次氧化池2、二次氧化池3、PH调整池4、快混池
5、胶羽池6和中和池8的底部。
[0021] 在一种具体实施中,还包括若干个支气管20,支气管20包括连接端201和密封端202,支气管20上设有一排出气孔203,且从连接端201至密封端202方向,出气孔203逐渐增
大。
[0022] 其中,含氰废水池1内设有液位计。
[0023] 且一次氧化池2和二次氧化池3内设有PH检测装置14和ORP检测装置21。
[0024] 使用时,将含氰废水按顺序通过一次氧化池2、二次氧化池3、PH调整池4、快混池5、胶羽池6、沉淀池7和中和池8,并与池中的药剂进行反应,从而有效的保证含氰废水的处理效果。
[0025] 在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理
解为对本发明的限制。
[0026] 以上述依据本发明的理想实施例为启示,通过上述的说明内容,相关工作人员完全可以在不偏离本项发明技术思想的范围内,进行多样的变更以及修改。本项发明的技术
性范围并不局限于说明书上的内容,必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。
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