专利汇可以提供一种弧形电极等离子体增强化学气相沉积装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 提供一种弧形 电极 等离子体 化学气相沉积 装置,能够避免板间 电缆 与电极的相对滑动,消除了划痕 缺陷 。该装置的放卷室、 镀 膜 室、收卷室三个腔室相连,形成 真空 腔体,真空 泵 与所述真空腔体相连,形成抽气系统;卷绕机构与纠偏机构相连,圆形电极和弧形电极安装在镀膜室内,基底材料紧贴圆形电极表面并与圆形电极同步转动;送气单元、射频功率源与弧形电极相连,送气单元将工作气体送入圆形电极与弧形电极之间,在射频功率源的作用下,在圆形电极和弧形电极之间产生等离子体,基膜紧贴在圆形电极上,通过卷绕机构和纠偏机构控制基膜的运动,在基膜上沉积涂层。,下面是一种弧形电极等离子体增强化学气相沉积装置专利的具体信息内容。
1.一种弧形电极等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,该装置由放卷室,卷绕机构,离子源,圆形电极,镀膜室,收卷室,纠偏机构,真空系统,弧形电极,送气单元,射频功率源组成;
其中,放卷室、镀膜室、收卷室三个腔室相连,形成真空腔体,真空泵与所述真空腔体相连,形成抽气系统;卷绕机构与纠偏机构相连,圆形电极和弧形电极安装在镀膜室内,基底材料紧贴圆形电极表面并与圆形电极同步转动;送气单元将工作气体送入圆形电极与弧形电极之间,在射频功率源的作用下,在圆形电极和弧形电极之间产生等离子体,基膜紧贴在圆形电极上,通过卷绕机构和纠偏机构控制基膜的运动,在基膜上沉积涂层。
2.如权利要求1所述的一种弧形电极等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,所述卷绕机构由放卷轴和收卷轴组成,实现基底材料的卷绕。
3.如权利要求1或2所述的一种弧形电极等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,所述圆形电极内部通入液态介质,可进行温度控制。
4.如权利要求1或2所述的一种弧形电极等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,所述弧形电极表面布设直径1mm以下的气孔,孔间距不小于30mm。
5.如权利要求4所述的一种弧形电极等离子体化学气相沉积装置,其特征在于,所述弧形电极外表进行电场屏蔽处理,使放电电场被限制在圆形电极和弧形电极之间。
6.一种弧形电极等离子体化学气相沉积方法,其特征在于,通过送气单元将工作气体送入镀膜室中的圆形电极和弧形电极之间,并由真空单元将圆形电极和弧形电极间的真空度维持工艺要求的真空度;当开启射频电源后,在射频电场的作用下,圆形电极和弧形电极之间产生等离子体,将工作气体离解成活性基团,通过卷绕机构和纠偏机构控制基底材料的运行速度和张力,所述活性基团沉积在基底材料上,形成需要的膜层,实现在半刚性基底材料上卷绕镀膜。
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