专利汇可以提供一种脉冲激光沉积系统专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 适用于激光技术领域,提供了一种 脉冲激光沉积 系统,所述脉冲激光沉积系统包括用于产生脉冲激光的 激光器 、使所述脉冲激光投射于靶材的振镜、将所述脉冲激光聚焦于所述靶材的聚焦镜、驱动所述振镜振动的振镜 转轴 、驱动所述靶材旋转的靶材转轴以及驱动基片旋转的基片转轴,所述振镜倾斜设置于所述振镜转轴,所述振镜转轴与投射于所述振镜的脉冲 激光束 共线,称为同轴振镜;所述靶材转轴和基片转轴不共线。本发明采用同轴振镜扫描,各脉冲激光于振镜上的入射 角 相同,反射率不变,经振镜反射后的 能量 一致;振镜振动过程中各脉冲激光于靶材上的光斑大小相同,因而产生羽辉的成份、能量及其角度分布一致,沉积 薄膜 的均匀性佳。,下面是一种脉冲激光沉积系统专利的具体信息内容。
1.一种脉冲激光沉积系统,包括用于产生脉冲激光的激光器、使所述脉冲激光投射于靶材的振镜、将所述脉冲激光聚焦于所述靶材的聚焦镜、驱动所述振镜振动的振镜转轴、驱动所述靶材旋转的靶材转轴以及驱动基片使其相对于所述靶材旋转的基片转轴,其特征在于,所述振镜倾斜设置于所述振镜转轴,所述振镜转轴与投射于所述振镜的脉冲激光束共线,且平行于所述靶材转轴和基片转轴;各转轴均绕其中轴线旋转;经所述振镜反射后的脉冲激光与所述靶材表面的夹角为30~50°。
2.如权利要求1所述的脉冲激光沉积系统,其特征在于,所述靶材和基片均垂直于各自转轴,所述基片平行于所述靶材。
3.如权利要求1或2所述的脉冲激光沉积系统,其特征在于,所述振镜与振镜转轴的夹角为20~30°。
4.如权利要求3所述的脉冲激光沉积系统,其特征在于,所述脉冲激光经所述振镜反射所形成的轨迹为同一圆锥的母线。
5.如权利要求1或2所述的脉冲激光沉积系统,其特征在于,所述靶材转轴与基片转轴位于不同直线上,所述靶材转轴与振镜转轴间的距离等于所述基片转轴与振镜转轴间的距离。
6.如权利要求4所述的脉冲激光沉积系统,其特征在于,所述脉冲激光扫描所述靶材的弧线路径经过所述靶材的中心。
7.如权利要求6所述的脉冲激光沉积系统,其特征在于,所述振镜振动半个周期,所述脉冲激光从靶材中溅射出的羽辉由所述基片的中心扫描至所述基片的边缘;所述振镜接着振动半个周期,所述羽辉由所述基片的边缘扫描至所述基片的中心。
8.如权利要求1或2所述的脉冲激光沉积系统,其特征在于,所述脉冲激光的重复频率恒定时,将产生的羽辉垂直投影于所述基片,所述羽辉的中轴线的投影点靠近所述基片的中心时,所述振镜的转动速度高;所述羽辉的中轴线的投影点远离所述基片的中心时,所述振镜的转动速度低;所述羽辉的中轴线垂直于所述靶材。
9.如权利要求8所述的脉冲激光沉积系统,其特征在于,所述靶材溅射出的羽辉的中轴线垂直于所述基片,所述基片的中心位于所述靶材投影面的边缘。
标题 | 发布/更新时间 | 阅读量 |
---|---|---|
一种利用脉冲激光沉积制备独立分散铁酸钴纳米柱的方法 | 2020-05-16 | 652 |
脉冲激光沉积系统及采用该系统来沉积薄膜的方法 | 2020-05-16 | 956 |
一种用于脉冲激光沉积系统中的调节基片角度的装置 | 2020-05-16 | 522 |
脉冲激光沉积方法 | 2020-05-11 | 549 |
脉冲激光沉积Si基VO2薄膜取向生长的方法 | 2020-05-13 | 30 |
一种脉冲激光沉积制备Sb2Te3薄膜的方法 | 2020-05-12 | 453 |
脉冲激光沉积系统及其薄膜制备方法 | 2020-05-11 | 874 |
强磁场辅助脉冲激光沉积系统 | 2020-05-12 | 972 |
脉冲激光沉积制备纳米硅的方法 | 2020-05-12 | 316 |
提高脉冲激光沉积薄膜均匀性的装置 | 2020-05-15 | 594 |
高效检索全球专利专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台,是提供专利分析,专利查询,专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。
我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据,免费查、免费专利分析。
专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析,涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度,系统通过AI智能系统对图表进行解读,只需1分钟,一键生成行业专利分析报告。