1.一种包含镀液的电沉积铝用物质组合物，该镀液包含铝盐在基本无水有机溶剂中的溶液，该铝盐选自
卤代铝醇化物，其中所述卤代铝醇化物中的卤素选自氟或氯；或
具有带吸电子基团的阴离子的铝盐，其中所述具有带吸电子基团的阴离子选自五卤代苯甲酸根、取代的磺酸根阴离子或卤代羧酸阴离子。
2.如权利要求1的组合物，其中所述铝醇化物的醇根阴离子选自卤代甲醇根、卤代乙醇根、卤代异丙醇根、卤代正丙醇根、卤代异丁醇根、卤代正丁醇根或卤代叔丁醇根。
3.如权利要求1的组合物，其中所述卤代铝醇化物的醇根阴离子为根据通式Ia、Ib、Ic、Id、Ie、If或Ig的任意一种的化合物，
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 1 2 3
其中R、R、R、R、R、R、R、R、R、R 、R 和R 彼此独立地选自氢或卤素，R、R、R、
4 5 6 7 8 9 10 11 12
R、R、R、R、R、R、R 、R 和R 中的至少一个为卤素。
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10
4.如权利要求3的组合物，其中任意给定阴离子中的R、R、R、R、R、R、R、R、R、R 、
11 12
R 和R 中的一半以上为卤素。
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
5.如权利要求3的组合物，其中R、R、R、R、R、R、R、R、R、R 、R 和R 彼此独立地
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10
选自氢、氟或氯；或其中R、R、R、R、R、R、R、R 和R 彼此独立地选自氢、氟或氯，而R 、
11 12
R 和R 为氢。
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
6.如权利要求5的组合物，其中R、R、R、R、R、R、R、R、R、R 、R 和R 彼此独立地选自氟或氯。
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
7.如权利要求5的组合物，其中R、R、R、R、R、R、R、R、R、R 、R 和R 全部为氟或全部为氯。
1 2 3 4 5 6 7 8 9
8.如权利要求5的组合物，其中R、R、R、R、R、R、R、R 和R 彼此独立地选自氟或
10 11 12
氯，而R 、R 和R 为氢。
1 2 3 4 5 6 7 8 9
9.如权利要求5的组合物，其中R、R、R、R、R、R、R、R 和R 或者全部为氟或全部为
10 11 12
氯，而R 、R 和R 为氢。
10.如权利要求3的组合物，其中所述卤代铝醇化物的醇根阴离子为通式Ib的化合物。
1 2 3 11 12
11.如权利要求10的组合物，其中R、R、R、R 和R 彼此独立地选自氢、氟或氯；或
1 2 3 11 12
其中R、R 和R 彼此独立地选自氢、氟或氯，而R 和R 为氢。
1 2 3 11 12
12.如权利要求10的组合物，其中R、R、R、R 和R 彼此独立地选自氟或氯。
1 2 3 11 12
13.如权利要求10的组合物，其中R、R、R、R 和R 全部为氟或全部为氯。
1 2 3 11 12
14.如权利要求10的组合物，其中R、R 和R 彼此独立地选自氟或氯，而R 和R 为
氢。
1 2 3 11 12
15.如权利要求10的组合物，其中R、R 和R 或者全部为氟或全部为氯，而R 和R
为氢。
16.如权利要求1的组合物，其中所述具有吸电子基团的阴离子选自：
- -
C6F5COO 或C6Cl5COO ；
通用结构Ⅱ的任意一种的磺酸根阴离子
其中R21选自任选至少单取代C1-4烷基，或甲苯甲酰(p-甲苯)；或
通用结构Ⅲa、Ⅲb、Ⅲc或Ⅲd的卤代羧酸阴离子，
31 32 33 34 35 36 37 31 32 33 34 35 36
其中R 、R 、R 、R 、R 、R 和R 彼此独立地选自氢或卤素，R 、R 、R 、R 、R 、R 和
37
R 中的至少一个为卤素。
31 32 33 34 35 36 37
17.如权利要求16的组合物，其中R 、R 、R 、R 、R 、R 和R 彼此独立地选自氢或
31 32 33 34 35 36 37
卤素，R 、R 、R 、R 、R 、R 和R 中的至少一半为卤素。
18.如权利要求16的组合物，其中
21
R 选自任选至少单取代的CH3、CF3、CCl3、或甲苯甲酰(p-甲苯)；或
31 32 33 34 35 36 37 31 32 33 34 35 36 37
R 、R 、R 、R 、R 、R 和R 彼此独立地选自氢、氟或氯，R 、R 、R 、R 、R 、R 和R中的的至少一半为氟或氯。
19.如权利要求1的组合物，其中所述有机溶剂选自非质子有机溶剂，或与权利要求
1-18的铝盐不形成络合物的有机溶剂，或具有30-10给体能力的有机溶剂，或权利要求
1-18的铝盐可溶解其中的溶剂。
20.如权利要求1的组合物，其中所述有机溶剂选自非质子有机溶剂，或与权利要求
1-18的铝盐不形成络合物的有机溶剂，或具有25-12给体能力的有机溶剂，或权利要求
1-18的铝盐可溶解其中的溶剂。
21.如权利要求1的组合物，其中所述有机溶剂具有低于1％的水含量。
22.如权利要求1的组合物，其中所述有机溶剂具有等于或低于0.5％的水含量。
23.如权利要求1的组合物，其中所述有机溶剂具有等于或低于0.25％的水含量。
24.如权利要求1的组合物，其中所述有机溶剂具有等于或低于0.15％的水含量。
25.如权利要求1的组合物，其中所述有机溶剂选自
乙腈、四氢呋喃(THF)、叔丁基-甲基醚；
或碳酸酯；
或羧酸酯。
26.如权利要求1的组合物，其中所述有机溶剂选自碳酸二甲酯、或丙二醇碳酸酯
(4-甲基-1，3-二氧戊环-2-酮)或乙酸乙酯。
27.如权利要求1的组合物，其中所述铝盐以大于或等于0.1mol/kg溶剂的量，或以
0.05-5mol/kg溶剂的浓度存在于镀液中。
28.如权利要求1的组合物，其中所述镀液另外包含至少一种其它的电解质。
29.如权利要求28的组合物，其中所述其它的电解质是非水电解质。
30.如权利要求28的组合物，其中所述其它的电解质是磷酸盐、烷基磺酸盐、硼酸盐、亚锑酸盐或砷酸盐。
31.如权利要求28的组合物，其中所述其它的电解质是六氟磷酸盐、三(五氟乙基)三氟磷酸盐、甲烷磺酸盐、三氟甲烷磺酸盐、四氟硼酸盐、二[草酸根合(2-)]硼酸盐、二[甲硅烷根合(2-)]硼酸盐、二[1，2-苯二酚根合(2-)-0，0’]硼酸盐、六氟锑酸盐、或六氟砷酸盐；或选自六氟磷酸盐或四氟硼酸盐。
32.如权利要求1的组合物，其中另外包含阳极和阴极。
33.如权利要求1的组合物，其中另外包含可溶的铝阳极。
34.如权利要求1的组合物，其中所述组合物还包含用于从镀液排除氧或湿气或两者的手段；。
35.如权利要求34的组合物，其中所述手段是用于从镀液或包含于镀液内的溶液的表面排除氧或湿气或两者的手段。
36.如权利要求35的组合物，其中所述手段是以密封、或覆盖镀液或包含于镀液内的溶液表面的罩，或用于将保护气体引入到镀液或包含于镀液内的溶液表面的手段的形式；
或它们的组合。
37.铝盐用于电沉积铝的用途，该铝盐选自
卤代铝醇化物，其中所述卤代铝醇化物中的卤素选自氟或氯；或
具有带吸电子基团的阴离子的铝盐，其中所述具有带吸电子基团的阴离子选自五卤代苯甲酸根、取代的磺酸根阴离子或卤代羧酸阴离子。
38.如权利要求37的用途，其中所述铝醇化物的醇根阴离子选自卤代甲醇根、卤代乙醇根、卤代异丙醇根、卤代正丙醇根、卤代异丁醇根、卤代正丁醇根或卤代叔丁醇根。
39.如权利要求37的用途，其中所述卤代铝醇化物的醇根阴离子为根据通式Ia、Ib、Ic、Id、Ie、If或Ig的任意一种的化合物，
其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11和R12彼此独立地选自氢或卤素，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11和R12中的至少一个为卤素。
40.如权利要求39的用途，其中任意给定阴离子中的R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11和R12中的一半以上为卤素。
41.如权利要求39的用途，其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11和R12彼此独立地选自氢、氟或氯；或其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R9彼此独立地选自氢、氟或氯，而R10、R11和R12为氢。
42.如权利要求39的用途，其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11和R12彼此独立地选自氟或氯。
43.如权利要求39的用途，其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11和R12全部为氟或全部为氯。
44.如权利要求39的用途，其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R9彼此独立地选自氟或氯，而R10、R11和R12为氢。
45.如权利要求39的用途，其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R9或者全部为氟或全部为
10 11 12
氯，而R 、R 和R 为氢。
46.如权利要求39的用途，其中所述铝醇化物的醇根阴离子为通式Ib的化合物。
1 2 3 11 12
47.如权利要求46的用途，其中R、R、R、R 和R 彼此独立地选自氢、氟或氯；或其
1 2 3 11 12
中R、R 和R 彼此独立地选自氢、氟或氯，而R 和R 为氢。
1 2 3 11 12
48.如权利要求46的用途，其中R、R、R、R 和R 彼此独立地选自氟或氯。
1 2 3 11 12
49.如权利要求46的用途，其中R、R、R、R 和R 全部为氟或全部为氯。
1 2 3 11 12
50.如权利要求46的用途，其中R、R 和R 彼此独立地选自氟或氯，而R 和R 为氢。
1 2 3 11 12
51.如权利要求46的用途，其中R、R 和R 或者全部为氟或全部为氯，而R 和R 为
氢。
52.如权利要求37的用途，其中所述具有吸电子基团的阴离子选自：
- -
C6F5COO 或C6Cl5COO ；
通用结构Ⅱ的任意一种的磺酸根阴离子
21
其中R 选自任选至少单取代的C1-4烷基，或甲苯甲酰(p-甲苯)；或
通用结构Ⅲa、Ⅲb、Ⅲc或Ⅲd的卤代羧酸阴离子，
其中R31、R32、R33、R34、R35、R36和R37彼此独立地选自氢或卤素，R31、R32、R33、R34、R35、R36和R37中的至少一个为卤素。
53.如权利要求52的用途，其中R31、R32、R33、R34、R35、R36和R37彼此独立地选自氢或卤素，R31、R32、R33、R34、R35、R36和R37中的至少一半为卤素。
54.如权利要求52的用途，其中
R21选自任选至少单取代的CH3、CF3、CCl3、或甲苯甲酰(p-甲苯)；或
31 32 33 34 35 36 37 31 32 33 34 35 36 37
R 、R 、R 、R 、R 、R 和R 彼此独立地选自氢、氟或氯，R 、R 、R 、R 、R 、R 和R中的至少一半为氟或氯。
55.如权利要求37的用途，其特征在于铝被电沉积在导电表面。
56.如权利要求37的用途，其特征在于铝被电沉积在导电表面，所述导电表面选自金属、金属合金和导电聚合物。
57.如权利要求37的用途，其特征在于铝被电沉积在导电金属的金属表面或Si的表面。
58.如权利要求57的用途，其特征在于所述金属选自Ag、Au、Cr、Cu、Fe、Ge、Ir、Mn、Mo、Nb、Ni、Pd、Pt、Ta、Ti、V、W、Zn或In、Pb、Sb和Sn；或选自这些金属的合金。
59.如权利要求57的用途，其特征在于所述金属选自Ag、Au、Cr、Cu、Fe、Ge、Ir、Mn、Mo、Nb、Ni、Pd、Pt、Ta、Ti、V、W、或Zn；或选自这些金属的合金。
60.如权利要求37的用途，其特征在于电沉积铝用于生成新的包装材料，用于线路电镀或代替导电表面上的溅射，或产生导电表面，或用于防腐蚀保护，或用于压条-任选与其它金属。
61.由镀液电沉积铝的方法，其中通过将电极和阳极至少部分置于镀液内，施加电流到镀液，该镀液包含在基本无水有机溶剂中的带有阴离子的铝盐的溶液，该铝盐选自卤代铝醇化物，其中所述卤代铝醇化物中的卤素选自氟或氯；或
具有带吸电子基团的阴离子的铝盐，其中所述具有带吸电子基团的阴离子选自五卤代苯甲酸根、取代的磺酸根阴离子或卤代羧酸阴离子。
62.如权利要求61的方法，其中所述阳极为可溶性铝阳极。
63.如权利要求61的方法，其中没有阻挡有机溶剂在阴极和阳极之间流动的物理阻片或膜。
64.如权利要求61的方法，其中从镀液表面排除氧气或湿气或两者。
65.如权利要求61的方法，其中从镀液表面排除氧气或湿气或两者是通过密封，或覆盖镀液或包含于镀液中的溶液表面的罩，或将保护气体引入到镀液或包含于镀液中的溶液表面的手段；或它们的组合达成。
66.如权利要求61的方法，其中所述铝醇化物的醇根阴离子选自卤代甲醇根、卤代乙醇根、卤代异丙醇根、卤代正丙醇根、卤代异丁醇根、卤代正丁醇根或卤代叔丁醇根。
67.如权利要求61的方法，其中所述铝醇化物的醇根阴离子为根据通式Ia、Ib、Ic、Id、Ie、If或Ig的任意一种的化合物，
其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11和R12彼此独立地选自氢或卤素，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11和R12中的至少一个为卤素。
68.如权利要求67的方法，其中任意给定阴离子中的R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11和R12中的一半以上为卤素。
69.如权利要求67的方法，其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11和R12彼此独立地选自氢、氟或氯；或其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R9彼此独立地选自氢、氟或氯，而R10、R11和R12为氢。
70.如权利要求67的方法，其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11和R12彼此独立地选自氟或氯。
71.如权利要求67的方法，其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11和R12全部为氟或全部为氯。
72.如权利要求67的方法，其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R9彼此独立地选自氟或氯，而R10、R11和R12为氢。
73.如权利要求67的方法，其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R9或者全部为氟或全部为氯，而R10、R11和R12为氢。
74.如权利要求67的方法，其中所述卤代铝醇化物的醇根阴离子为通式Ib的化合物。
75.如权利要求74的方法，其中R1、R2、R3、R11和R12彼此独立地选自氢、氟或氯；或其
1 2 3 11 12
中R、R 和R 彼此独立地选自氢、氟或氯，而R 和R 为氢。
1 2 3 11 12
76.如权利要求74的方法，其中R、R、R、R 和R 彼此独立地选自氟或氯。
1 2 3 11 12
77.如权利要求74的方法，其中R、R、R、R 和R 全部为氟或全部为氯。
1 2 3 11 12
78.如权利要求74的方法，其中R、R 和R 彼此独立地选自氟或氯，而R 和R 为氢。
1 2 3 11 12
79.如权利要求74的方法，其中R、R 和R 或者全部为氟或全部为氯，而R 和R 为
氢。
80.如权利要求61的方法，其中所述具有吸电子基团的阴离子选自：
- -
C6F5COO 或C6Cl5COO ；
通用结构Ⅱ的任意一种的磺酸根阴离子
21
其中R 选自任选至少单取代的C1-4烷基，或甲苯甲酰(p-甲苯)；或
通用结构Ⅲa、Ⅲb、Ⅲc或Ⅲd的卤代羧酸阴离子，
其中R31、R32、R33、R34、R35、R36和R37彼此独立地选自氢或卤素，R31、R32、R33、R34、R35、R36和R37中的至少一个为卤素。
81.如权利要求80的方法，其中R31、R32、R33、R34、R35、R36和R37彼此独立地选自氢或卤素，R31、R32、R33、R34、R35、R36和R37中的至少一半为卤素。
82.如权利要求80的方法，其中
R21选自任选至少单取代的CH3、CF3、CCl3、或甲苯甲酰(p-甲苯)；或
R31、R32、R33、R34、R35、R36和R37彼此独立地选自氢、氟或氯，R31、R32、R33、R34、R35、R36和R37中的至少一半为氟或氯。
83.如权利要求80的方法，其中所述有机溶剂选自非质子有机溶剂，或与Cr(II)或Cr(III)或其各自盐不形成络合物的有机溶剂，或具有30-10给体能力的有机溶剂，或铝盐可溶解其中的溶剂。
84.如权利要求80的方法，其中所述有机溶剂选自非质子有机溶剂，或与Cr(II)或Cr(III)或其各自盐不形成络合物的有机溶剂，或具有25-12给体能力的有机溶剂，或铝盐可溶解其中的溶剂。
85.如权利要求61的方法，其中所述有机溶剂具有低于1％的水含量。
86.如权利要求61的方法，其中所述有机溶剂具有等于或低于0.5％的水含量。
87.如权利要求61的方法，其中所述有机溶剂具有等于或低于0.25％的水含量。
88.如权利要求61的方法，其中所述有机溶剂具有等于或低于0.15％的水含量。
89.如权利要求61的方法，其中所述有机溶剂选自
乙腈、四氢呋喃(THF)、叔丁基-甲基醚；
或碳酸酯；
或羧酸酯。
90.如权利要求61的方法，其中所述有机溶剂选自碳酸二甲酯、或丙二醇碳酸酯(4-甲基-1，3-二氧戊环-2-酮)或乙酸乙酯。
91.如权利要求61的方法，其中所述镀液另外包含至少一种其它的电解质。
92.如权利要求61的方法，其中所述其它的电解质是非水电解质。
93.如权利要求61的方法，其中所述其它的电解质是磷酸盐、烷基磺酸盐、硼酸盐、亚锑酸盐或砷酸盐。
94.如权利要求61的方法，其中所述其它的电解质是是六氟磷酸盐、三(五氟乙基)三氟磷酸盐、甲烷磺酸盐、三氟甲烷磺酸盐、四氟硼酸盐、二[草酸根合(2-)]硼酸盐、二[甲硅烷根合(2-)]硼酸盐、二[1，2-苯二酚根合(2-)-0，0’]硼酸盐、六氟锑酸盐、或六氟砷酸盐；或选自六氟磷酸盐或四氟硼酸盐。