专利汇可以提供一种可控温旋涂制备有机半导体/铁电复合阻变薄膜的方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 涉及一种利用可控温 旋涂 技术高效率制备一种具有 阻变 特性的有机 半导体 / 铁 电复合 薄膜 的方法。铁电 聚合物 和 有机半导体 溶于四氢呋喃 溶剂 中并制备成混合溶液,在特定旋涂环境 温度 下,将混合溶液滴涂于干净基片表面,并旋涂成膜。通过对旋涂时 环境温度 的精确调控,可实现低表面粗糙度、高阻变性能的有机半导体/铁电复合薄膜的制备。,下面是一种可控温旋涂制备有机半导体/铁电复合阻变薄膜的方法专利的具体信息内容。
1.一种可控温旋涂制备有机半导体/铁电复合薄膜的方法,其特征在于采用可控温旋涂系统实现,所述可控温旋涂系统包括温控装置和温控仪,所述温控装置为一密封空腔,腔壁四周环绕电阻丝,电阻丝经220V电源通电加热,温控装置内温度由PtlOO温度探头测量,所述PtlOO温度探头由温控仪测控,温控装置内底部放置有旋涂机,所述旋涂机上部设有旋涂台,旋涂台上放置衬底;温控装置顶部开孔,设有滴液口,混合溶液从滴液口滴入温控装置内;具体步骤如下: (1)将铁电聚合物偏二氟乙烯与三氟乙烯的共聚物P(VDF-TrFE)溶于溶剂四氢呋喃中,配制质量浓度为1%—4%的溶液; (2)将有机半导体P3HT材料溶于步骤(I)得到的已溶有P(VDF-TrFE)的四氢呋喃溶液中,配制成混合溶液,其中:有机半导体P3HT材料与P(VDF-TrFE)的质量比为1:100-1:10; (3)将步骤(2)得到的混合溶液涂布于可控温旋涂系统的洁净衬底表面,采用旋涂工艺,经旋涂成膜,待溶剂四氢呋喃完全挥发后,即可获得有机半导体/铁电复合结构薄膜;通过改变环境温度,实现有机半导体/铁电复合薄膜粗糙度的调控,基片温度为50 V,薄膜粗糙度最小。
2.根据权利要求1所述的可控温旋涂制备有机半导体/铁电复合薄膜的方法,其特征在于温控装置内的控温精度为1°C,可控温度范围为室温至150°C。
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