首页 / 专利库 / 表面处理和涂层 / 蚀刻溶液 / 可电解回收的蚀刻溶液

电解回收的蚀刻溶液

阅读:298发布:2020-05-11

专利汇可以提供电解回收的蚀刻溶液专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 涉及一种可 电解 回收的 蚀刻溶液 ,其特别是用于蚀刻印刷 电路 板和 铜 与铜 合金 的成型件,该蚀刻溶液基本上由一定含量的 水 、 氨 、 硫酸 铜、硫酸铵和任选的用以提高蚀刻速度的含 钒 催化剂组成,并且该蚀刻溶液还应含有作为额外催化剂的亚甲基蓝或其衍 生物 。,下面是电解回收的蚀刻溶液专利的具体信息内容。

1.可电解回收的蚀刻溶液,其用于蚀刻印刷电路板和由与铜合金的成型件,该蚀刻溶液基本上由一定含量的硫酸铜和硫酸铵组成,其特征在于,蚀刻溶液含有作为催化剂的10至100mg亚甲基蓝每升。
2.可电解回收的蚀刻溶液,其用于蚀刻印刷电路板和由铜与铜合金的成型件,该蚀刻溶液基本上由一定含量的水、氨、硫酸铜和硫酸铵组成,其特征在于,蚀刻溶液含有作为催化剂的10至100mg亚甲基蓝的衍生物每升。
3.如权利要求1所述的蚀刻溶液,其特征在于,蚀刻溶液含有约40mg每升的亚甲基蓝。
4.如权利要求1所述的蚀刻溶液,其特征在于,将C16H18ClN3S形式的亚甲基蓝用作蚀刻溶液的催化剂。
5.如权利要求2所述的蚀刻溶液,其特征在于,将C16H19N3S形式的亚甲基蓝的衍生物用作蚀刻溶液的催化剂。
6.如权利要求1或2所述的蚀刻溶液,其特征在于,将蚀刻溶液的pH值调节到约8.0至9.6的pH值。
7.如权利要求6所述的蚀刻溶液,其特征在于,将蚀刻溶液的pH值调节到8.4的pH值。
8.如权利要求1或2所述的蚀刻溶液,其特征在于,蚀刻溶液含有70克至100克每升++
的Cu 。
9.如权利要求1或2所述的蚀刻溶液,其特征在于,蚀刻溶液含有275至400克每升的硫酸铜五水合物。
10.如权利要求9所述的蚀刻溶液,其特征在于,蚀刻溶液含有330克每升的硫酸铜五水合物。
11.如权利要求1或2所述的蚀刻溶液,其特征在于,其中含有每升0.4至0.6l的水。
12.如权利要求1或2所述的蚀刻溶液,其特征在于,其中含有约100至1000mg每升的五
13.如权利要求12所述的蚀刻溶液,其特征在于,蚀刻溶液中含有约400mg每升的五氧化钒(V2O5)。
14.如权利要求1或2所述的蚀刻溶液,其特征在于,它们含有约1克至80克每升的硝酸盐。
15.如权利要求14所述的蚀刻溶液,其特征在于,它们含有15克每升的硝酸盐。
16.如权利要求14所述的蚀刻溶液,其特征在于,由硫酸铜和硫酸铵组成的硫酸盐的总含量为120克至240克每升。
17.如权利要求14所述的蚀刻溶液,其特征在于,所有硫酸盐和硝酸盐的总量为200克至240克每升。
18.如权利要求17所述的蚀刻溶液,其特征在于,所有硫酸盐和硝酸盐的总量为215克每升。
19.如权利要求1或2所述的蚀刻溶液,其特征在于,向其中供入氧或空气。
20.如权利要求1或2所述的蚀刻溶液,其特征在于,蚀刻溶液的温度为约45至55℃。
21.如权利要求20所述的蚀刻溶液,其特征在于,蚀刻溶液的温度为50℃。

说明书全文

电解回收的蚀刻溶液

技术领域

[0001] 本发明涉及一种可电解回收的蚀刻溶液,其特别是用于蚀刻印刷电路板和与铜合金的成型件,该蚀刻溶液基本上由一定含量的硫酸铜和硫酸铵组成。

背景技术

[0002] 传统的蚀刻溶液以多种形式和实施方式用于,特别是蚀刻印刷电路板。在制造过程中,加速蚀刻过程也具有很重要的作用,这就要求蚀刻溶液的回收过程也要加快。
[0003] 在一种制备印刷电路板的方法中,利用丝网印刷或利用光学处理方法将电路图涂覆在铜表面上作为光刻胶(Resist)图。然后通过合适的蚀刻剂将未被光刻胶遮盖的铜表面消溶掉。
[0004] 在另一种方法中,对两面印制的印刷电路板进行处理,使得通过金属蚀刻剂将电路(Leiterbahnzüge)和层间连接件(Durchkontaktierung)保护起来。接着,剥去开始时覆上的有机光刻胶并通过合适的蚀刻剂将位于其下的铜消溶掉。以这种方法,电路和层间连接件就能在溶解前受到金属光刻胶的保护。
[0005] 为制备印刷电路板使用基于氨性的铜盐溶液发挥作用的蚀刻溶液。其缺点是,蚀刻速度有限并且无法足够迅速地进行回收过程以再生蚀刻溶液。

发明内容

[0006] 因此本发明的任务在于,促进蚀刻速度并能有助于将消耗的蚀刻溶液回收以重新用于过程中和将其导入以及于连续的蚀刻过程中重新进行蚀刻。
[0007] 为解决该任务,就要使用如下技术方案所述的特征:
[0008] 可电解回收的蚀刻溶液,其用于蚀刻印刷电路板和由铜与铜合金的成型件,该蚀刻溶液基本上由一定含量的水、氨、硫酸铜和硫酸铵组成,其特征在于,蚀刻溶液含有作为催化剂的亚甲基蓝。
[0009] 可电解回收的蚀刻溶液,其用于蚀刻印刷电路板和由铜与铜合金的成型件,该蚀刻溶液基本上由一定含量的水、氨、硫酸铜和硫酸铵组成,其特征在于,蚀刻溶液含有作为催化剂的亚甲基蓝的衍生物
[0010] 在本发明中,经证实特别优选的是,通过使亚甲基蓝起到催化剂作用和促进消耗掉的蚀刻溶液的回收,而加速蚀刻过程。
[0011] 为此,作为额外的促进剂和催化剂,亚甲基蓝的用量为每升蚀刻溶液10至100mg,优选每升蚀刻溶液40mg。
[0012] 优选是C16H18ClN3S形式的亚甲基蓝有助于在回收过程的回收中将Cu+化成Cu++。+
以此方式即能加速蚀刻溶液的回收过程。Cu 离子会阻碍蚀刻过程,所以必须通过氧化剂将+ ++
这些Cu 离子氧化回Cu 。
[0013] 蚀刻过程按以下方程式进行:
[0014] Cu+[Cu(NH3)4]++←→2[Cu(NH3)2]+
高效检索全球专利

专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台,是提供专利分析,专利查询,专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。

我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据,免费查、免费专利分析。

申请试用

分析报告

专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析,涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度,系统通过AI智能系统对图表进行解读,只需1分钟,一键生成行业专利分析报告。

申请试用

QQ群二维码
意见反馈