一种抗摩擦磨损性能优异的MoS2-Ti复合膜及其制备方法
专利汇可以提供一种抗摩擦磨损性能优异的MoS2-Ti复合膜及其制备方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 属于金属材料表面润滑改性用固体润滑涂层技术领域，具体涉及一种抗摩擦磨损性能优异的MoS2-Ti复合膜及其制备方法，即一种能够显著提高复合膜在大气环境中抗摩擦磨损性能的MoS2-TiL/MoS2-TiH纳米叠层复合膜。本发明所述的MoS2-TiL/MoS2-TiH纳米叠层复合膜含Ti量低的MoS2-TiL 薄膜 及含Ti量高的MoS2-TiH薄膜的交替沉积构成的，不仅可以阻止薄膜呈柱状生长，而且还可以使MoS2-TiL与MoS2-TiH相互混合，能够抑制柱状晶的生长、分散膜层应 力 、抑制膜层大 块 脱落、提高致 密度 ，从而可以改善复合膜的抗摩擦磨损性能。，下面是一种抗摩擦磨损性能优异的MoS2-Ti复合膜及其制备方法专利的具体信息内容。
1.一种抗摩擦磨损性能优异的MoS2-Ti复合膜，所述的MoS2-Ti复合膜是采用如下方法制备的：首先对基体依次放在丙酮、酒精中进行超声波清洗；然后，采用磁控溅射技术，以氩气作为工作气体，预先在基体上沉积过渡层；接着，通过共溅射Ti靶、MoS2靶，改变Ti靶功率，实现含Ti量低的MoS2-TiL薄膜及含Ti量高的MoS2-TiH薄膜（即MoS2-TiL/MoS2-TiH）的交替沉积，调节工作压强、沉积温度以及总沉积时间等参数，在基体上制备出抗摩擦磨损性能优异的MoS2-TiL/MoS2-TiH纳米叠层复合膜。
2.如权利要求1所述的一种抗摩擦磨损性能优异的MoS2-Ti复合膜，其特征在于所述的基体是金属材料，一般是机械活动部件。
3.如权利要求1所述的一种抗摩擦磨损性能优异的MoS2-Ti复合膜，其特征在于所述的超声波清洗时间一般为10-30min，具体视基体情况而定。
4.如权利要求1所述的一种抗摩擦磨损性能优异的MoS2-Ti复合膜，其特征在于所述的磁控溅射技术包括溅射技术的其他衍生技术如离子弧镀、封闭式非平衡磁控溅射、离子体浸没离子注入与沉积、高功率脉冲磁控溅射等技术。
5.如权利要求1所述的一种抗摩擦磨损性能优异的MoS2-Ti复合膜，其特征在于所述的过渡层为Ti、Al等金属及其合金薄膜过渡层，厚度一般在100-1000nm之间。
6.如权利要求1所述的一种抗摩擦磨损性能优异的MoS2-Ti复合膜，其特征在于所述的Ti靶功率，在沉积含Ti量低的MoS2-TiL薄膜时对应Ti靶功率低，沉积含Ti量高的MoS2-TiH薄膜时对应Ti靶功率高，具体功率值根据设备情况而定。
7.如权利要求1所述的一种抗摩擦磨损性能优异的MoS2-Ti复合膜，其特征在于所述的工作压强，根据不同设备及技术设定，一般在0.5-2Pa之间。
8.如权利要求1所述的一种抗摩擦磨损性能优异的MoS2-Ti复合膜，其特征在于所述的沉积温度可以是室温，也可以是高温 温度范围在20-600摄氏度之间。
9.如权利要求1所述的一种抗摩擦磨损性能优异的MoS2-Ti复合膜，其特征在于所述的纳米叠层复合膜中MoS2-TiL、MoS2-TiH的厚度及厚度比可以通过控制单层沉积时间来控制，复合膜的厚度由沉积时间控制，厚度一般在300-2000nm之间。
一种抗摩擦磨损性能优异的MoS2-Ti复合膜及其制备方法
技术领域
背景技术
发明内容
具体实施方式
120min，在不锈钢上制备出抗摩擦磨损性能优异的MoS2-TiL/MoS2-TiH纳米叠层复合膜。为了比较本发明制备的复合膜抗摩擦磨损性能，在Ti靶功率为50W、MoS2靶为100W的溅射功率下，制备了常规掺杂的MoS2-Ti复合膜，为了区别已失去润滑性能的含Ti量高的MoS2-TiH复合膜，将该类复合膜记为MoS2-TiL复合膜。本发明制备的复合膜表面形貌图见图2，本发明制备的复合膜与MoS2-TiL复合膜在相同测试条件下的摩擦系数测试数据见图3，本发明制备的复合膜与MoS2-TiL复合膜在相同测试条件下的磨损痕迹磨损痕迹见图4。
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