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一种多芯片三维混合封装结构及其制备方法

阅读：903发布：2023-02-20

专利汇可以提供一种多芯片三维混合封装结构及其制备方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明公开了一种多芯片三维混合封装结构及其制备方法，主要由下层芯片、芯片凸点、下层塑封体、电路层、粘片胶、上层芯片、焊线、上层塑封体和电极组成；所述下层塑封体包封下层芯片，下层芯片正面朝上，下层芯片带有的芯片凸点露出下层塑封体的表面；下层塑封体表面布线形成有电路层，电路层的走线区域通过粘片胶粘贴有上层芯片，焊线连接上层芯片与电路层，上层塑封体包封上层芯片、电路层和焊线；下层塑封体有通孔，通孔上部是电路层的电极金属，通孔填充有金属，形成电极。本发明工艺简单，封装集成度高，高可靠性，上下塑封体的结构可有效改善产品翘曲，可以大幅度提升了表面贴装良率。，下面是一种多芯片三维混合封装结构及其制备方法专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种多芯片三维混合封装结构，其特征在于，主要由下层芯片(3)、芯片凸点(4)、下层塑封体(5)、电路层(6)、粘片胶(7)、上层芯片(8)、焊线(9)、上层塑封体(10)和电极(12)组成；所述下层塑封体(5)包封下层芯片(3)，下层芯片(3)正面朝上，下层芯片(3)带有的芯片凸点(4)露出下层塑封体(5)的表面；下层塑封体(5)表面布线形成有电路层(6)，电路层(6)的走线区域通过粘片胶(7)粘贴有上层芯片(8)，焊线(9)连接上层芯片(8)与电路层(6)，上层塑封体(10)包封上层芯片(8)、电路层(6)和焊线(9)；下层塑封体(5)有通孔(11)，通孔(11)上部是电路层(6)的电极金属，通孔(11)填充有金属，形成电极(12)。
2.根据权利要求1所述的一种多芯片三维混合封装结构，其特征在于，下层芯片(3)的上表面和芯片凸点(4)之间由下层塑封体(5)包封，芯片凸点(4)通过贴膜塑封的方式露出下层塑封体(5)表面10um。
3.根据权利要求1所述的一种多芯片三维混合封装结构，其特征在于，下层芯片(3)是一个或多个相同厚度的芯片。
4.根据权利要求1所述的一种多芯片三维混合封装结构，其特征在于，上层芯片(8)是一个或多个正装芯片打线焊接。
5.一种多芯片三维混合封装结构的制备方法，其特征在于，其按照以下步骤进行：
步骤一：在载具(1)上涂贴片胶层(2)，将带有芯片凸点(4)的下层芯片(3)正面朝上贴于载具(1)上；
步骤二：将下层芯片(3)塑封于下层塑封体(5)中，下层芯片(3)的芯片凸点(4)露出下层塑封体(5)表面；
步骤三：在下层塑封体(5)表面布线，可以选用电镀、溅射或直接印刷铜箔方式形成中间电路层(6)；
步骤四：在电路层(6)的走线区域涂粘片胶(7)，将上层芯片(8)贴于粘片胶(7)上，通过焊线(9)完成上层芯片(8)与电路层(6)的电气连接；
步骤五：将上层芯片(8)、电路层(6)及焊线(9)包封于上层塑封体(10)中，同时通过研磨或蚀刻方式去除下层载具(1)和贴片胶层(2)；
步骤六：在下层塑封体(5)的相应位置开通孔(11)，露出中间电路层(6)的电极金属区域；
步骤七：在通孔(11)通过注入金属，引出相应电极(12)。
6.根据权利要求5所述的一种多芯片三维混合封装结构的制备方法，其特征在于，所述步骤一的载具(1)是长方形或者圆形；载具(1)材质为玻璃、有机胶膜、硅片或金属。
7.根据权利要求5或者6所述的一种多芯片三维混合封装结构的制备方法，其特征在于，所述步骤五的载具(1)若选用金属，载具(1)可作为散热片保留。
8.根据权利要求5所述的一种多芯片三维混合封装结构的制备方法，其特征在于，所述步骤六的开通孔(11)方式为机械开孔或激光开孔。
9.根据权利要求5所述的一种多芯片三维混合封装结构的制备方法，其特征在于，所述步骤七通过植球、锡膏印刷、电镀、化学镀或溅射铜方式引出电极(12)。

说明书全文

一种多芯片三维混合封装结构及其制备方法

技术领域

[0001] 本发明涉及集成电路封装领域，具体是一种多芯片三维混合封装结构及其制备方法。

背景技术

[0002] 随着IC封装集成度越来越高，多芯片混合封装是提高IC封装高密度化的主要途径之一。目前主流的FC+WB及POP等封装，由于塑封料、树脂基板、芯片的热膨胀系数的不匹配，会存在封装体的翘曲及可靠性不足的问题。

发明内容

[0003] 对于上述现有技术存在的问题，本发明提供了一种多芯片三维混合封装结构及其制备方法，其包括上下两次塑封的塑封体及中间电路层，实现了多芯片三维混合封装，实现工艺简单，封装集成度高，高可靠性，上下塑封体的结构可有效改善产品翘曲，可以大幅度提升了表面贴装良率。

[0004] 一种多芯片三维混合封装结构，主要由下层芯片、芯片凸点、下层塑封体、电路层、粘片胶、上层芯片、焊线、上层塑封体和电极组成；所述下层塑封体包封下层芯片，下层芯片正面朝上，下层芯片带有的芯片凸点露出下层塑封体的表面；下层塑封体表面布线形成有电路层，电路层的走线区域通过粘片胶粘贴有上层芯片，焊线连接上层芯片与电路层，上层塑封体包封上层芯片、电路层和焊线；下层塑封体有通孔，通孔上部是电路层的电极金属，通孔填充有金属，形成电极。

[0005] 下层芯片的上表面和芯片凸点之间由下层塑封体包封，芯片凸点通过贴膜塑封的方式露出下层塑封体表面10um。

[0006] 下层芯片可以是一个或多个相同厚度的芯片。

[0007] 上层芯片可以是一个或多个正装打线焊接，也可以是倒装热压焊键合或倒装回流焊键合。

[0008] 一种多芯片三维混合封装结构的制备方法，其按照以下步骤进行：

[0009] 步骤一：在载具上涂贴片胶层，将带有芯片凸点的下层芯片正面朝上贴于载具上；

[0010] 载具可以是长方形，也可以是圆形，在结膜后可以加研磨工艺，进一步减小塑封体厚度；载具材质可以为玻璃、有机胶膜(不需要粘片胶)、硅片或金属片(二次塑封后不剔除，切割后可以直接做散热片)。

[0011] 步骤二：将下层芯片塑封于下层塑封体中，下层芯片的芯片凸点露出下层塑封体表面；

[0012] 步骤三：在下层塑封体表面布线，可以选用电镀、溅射或直接印刷铜箔等方式形成中间电路层；

[0013] 步骤四：在电路层的走线区域涂粘片胶，将上层芯片贴于粘片胶上，通过焊线完成上层芯片与电路层的电气连接；

[0014] 上层芯片也可以是倒装芯片键合。

[0015] 步骤五：将上层芯片、电路层及焊线包封于上层塑封体中，同时通过研磨或蚀刻方式去除下层载具和贴片胶层；

[0016] 若载具为金属，也可以作为散热片保留。

[0017] 步骤六：在下层塑封体的相应位置开通孔，露出中间电路层的电极金属区域；

[0018] 开孔方式可以为机械开孔或激光开孔。

[0019] 步骤七：在通孔通过注入金属，引出相应电极；

[0020] 通过植球、锡膏印刷、电镀、化学镀或溅射铜等方式引出电极。附图说明

[0021] 图1为载具贴片图；

[0022] 图2为一次塑封图；

[0023] 图3为塑封体表面布线图；

[0024] 图4为上层芯片键合图；

[0025] 图5为二次塑封并去除载具图；

[0026] 图6为激光开孔图；

[0027] 图7为引出电极图；

[0028] 1—载具，2—贴片胶层，3—下层芯片，4—芯片凸点(Bump)，5—下层塑封体，6—电路层，7—粘片胶，8—上层芯片，9—焊线，10—上层塑封体，11—通孔，12—电极。

具体实施方式

[0029] 下面结合附图对本发明做一详细描述。

[0030] 一种多芯片三维混合封装结构，主要由下层芯片3、芯片凸点4、下层塑封体5、电路层6、粘片胶7、上层芯片8、焊线9、上层塑封体10和电极12组成；所述下层塑封体5包封下层芯片3，下层芯片3正面朝上，下层芯片3带有的芯片凸点4露出下层塑封体5的表面；下层塑封体5表面布线形成有电路层6，电路层6的走线区域通过粘片胶7粘贴有上层芯片8，焊线9连接上层芯片8与电路层6，上层塑封体10包封上层芯片8、电路层6和焊线9；下层塑封体5有通孔11，通孔11上部是电路层6的电极金属，通孔11填充有金属，形成电极12。

[0031] 下层芯片3的上表面和芯片凸点4之间由下层塑封体5包封，芯片凸点4通过贴膜塑封的方式露出下层塑封体5表面10um。

[0032] 下层芯片3可以是一个或多个相同厚度的芯片。

[0033] 上层芯片8可以是一个或多个正装芯片打线焊接，也可以是倒装芯片热压焊键合或倒装回流焊键合。

[0034] 一种多芯片三维混合封装结构的制备方法，其按照以下步骤进行：

[0035] 步骤一：在载具1上涂贴片胶层2，将带有芯片凸点4的下层芯片3正面朝上贴于载具1上，如图1所示；

[0036] 载具1可以是长方形，也可以是圆形，在结膜后可以加研磨工艺，进一步减小塑封体厚度；载具1材质可以为玻璃、有机胶膜(不需要粘片胶)、硅片或金属片(二次塑封后不剔除，切割后可以直接做散热片)。

[0037] 步骤二：将下层芯片3塑封于下层塑封体5中，下层芯片3的芯片凸点4露出下层塑封体5表面，如图2所示；

[0038] 步骤三：在下层塑封体5表面布线，可以选用电镀、溅射或直接印刷铜箔等方式形成中间电路层6，如图3所示；

[0039] 步骤四：在电路层6的走线区域涂粘片胶7，将上层芯片8贴于粘片胶7上，通过焊线9完成上层芯片8与电路层6的电气连接，如图4所示；

[0040] 上层芯片也可以是倒装芯片键合。

[0041] 步骤五：将上层芯片8、电路层6及焊线9包封于上层塑封体10中，同时通过研磨或蚀刻方式去除下层载具1和贴片胶层2，如图5所示；

[0042] 若载具1为金属，也可以作为散热片保留。

[0043] 步骤六：在下层塑封体5的相应位置开通孔11，露出中间电路层6的电极金属区域，如6所示；

[0044] 开孔方式可以为机械开孔或激光开孔。

[0045] 步骤七：在通孔11通过注入金属，引出相应电极12，如图7所示；

[0046] 通过植球、锡膏印刷、电镀、化学镀或溅射铜等方式引出电极。

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