专利汇可以提供一种成像光学系统像差现场测量方法及装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 提供一种成像光学系统像差现场测量方法及装置,通过测量特定掩模标记所成的 光刻 机投影物镜空间像,通过对 光刻机 投影物镜空间像进行分析得到投影物镜像差。本方法相对于现有方法可大幅提高测量速度,克服 现有技术 存在的像差的测定时间长的缺点。,下面是一种成像光学系统像差现场测量方法及装置专利的具体信息内容。
1、一种成像光学系统像差现场测量方法,其特征在于,包括以下步骤:将 光源发出的光束经过照明系统调整后,照射于掩模;所述掩模选择性地透过一 部分光线;这样透过的光线经过成像光学系统将所述掩模上的图案成像;利用 空间像传感器获得投影物镜空间像;利用获得的空间像与仿真计算得出的特定 条件下的空间像进行匹配,并根据匹配结果计算得到投影物镜波像差。
2、根据权利要求1所述的成像光学系统像差现场测量方法,其特征在于, 所述掩模是二元掩模或相移掩模。
3、根据权利要求2所述的成像光学系统像差现场测量方法,其特征在于, 所述相移掩模是交替相移掩模、衰减相移掩模或无铬相移掩模。
4、根据权利要求1所述的成像光学系统像差现场测量方法,其特征在于, 所述图案由一个或数个三线线条、双线线条、多线线条或者接触孔构成。
5、根据权利要求1所述的成像光学系统像差现场测量方法,其特征在于, 所述光源是汞灯或者是准分子激光器。
6、根据权利要求1所述的成像光学系统像差现场测量方法,其特征在于, 所述光源是紫外光源或深紫外光源或极紫外光源。
7、根据权利要求1所述的成像光学系统像差现场测量方法,其特征在于, 所述波像差包括彗差、球差、像散、三波差中的一种或几种。
8、根据权利要求1所述的成像光学系统像差现场测量方法,其特征在于, 所述利用获得的空间像与仿真计算得出的特定条件下的空间像进行匹配,并根 据匹配结果计算得到投影物镜波像差的方法,可以是测量成像光学系统不同出 瞳面处的光强分布下的空间像,分别与仿真计算得出的相应条件下的空间像进 行匹配,并根据匹配结果计算得到投影物镜波像差。
9、根据权利要求8所述的成像光学系统像差现场测量方法,其特征在于, 所述成像光学系统出瞳面处的光强分布,可以使用包括不同特征尺寸与形状的 标记的掩模作为所述掩模来实现。
10、根据权利要求9所述的成像光学系统像差现场测量方法,其特征在于, 所述特征尺寸包括标记中各组成部分的大小、间距。
11、根据权利要求8所述的成像光学系统像差现场测量方法,其特征在于, 所述成像光学系统出瞳面处的光强分布,通过改变物镜数值孔径来实现。
12、根据权利要求8所述的成像光学系统像差现场测量方法,其特征在于, 所述成像光学系统出瞳面处的光强分布,通过改变照明部分相干因子或照明方 式来实现。
13、权利要求12所述的成像光学系统像差现场测量方法,其特征在于,所 述照明方式是传统照明、环形照明、二级照明或四级照明。
14、一种成像光学系统像差测量装置,其特征在于,包括:
产生投影光束的光源;
用于调整所述光源发出的光束的光强分布的照明系统;
用于将掩模图案成像的成像光学系统;
承载所述掩模并精确定位的掩模台;
能精确定位的工件台;
可测量成像光学系统空间像的像传感器;
所述光源发出的光束经过所述照明系统调整后,照射于所述掩模;所述掩 模选择性地透过一部分光线;透过的光线经过所述成像光学系统将所述掩模上 的图案成像;所述像传感器获得投影物镜空间像。
15、根据权利要求14所述的成像光学系统像差测量装置,其特征在于,所 述掩模是二元掩模或相移掩模。
16、根据权利要求15所述的成像光学系统像差测量装置,其特征在于,所 述相移掩模是交替相移掩模、衰减相移掩模或无铬相移掩模。
17、根据权利要求14所述的成像光学系统像差测量装置,其特征在于,所 述图案由一个或数个三线线条、双线线条、多线线条或接触孔构成。
18、根据权利要求14所述的成像光学系统像差测量装置,其特征在于,所 述光源是汞灯,或者是准分子激光器。
19、根据权利要求14所述的成像光学系统像差测量装置,其特征在于,所 述光源是紫外光源、深紫外光源或极紫外光源。
20、根据权利要求14所述的成像光学系统像差测量装置,其特征在于,所 述波像差包括彗差、球差、像散、三波差中的一种或几种。
21、根据权利要求14所述的成像光学系统像差测量装置,其特征在于,所 述装置的照明方式是传统照明、环形照明、二级照明或四级照明。
本发明涉及成像光学系统像差的现场测量方法,特别是涉及光刻机成像光 学系统像差现场测量方法。
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