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彩膜基板及其制备方法、显示面板

阅读：99发布：2022-10-01

专利汇可以提供彩膜基板及其制备方法、显示面板专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本申请公开了一种彩膜基板及其制备方法、显示面板，彩膜基板具有一显示区和位于显示区外围的非显示区，彩膜基板包括第一基板以及第一配向层；第一基板对应非显示区的部分设置有至少一第一环形凹槽；第一配向层位于彩膜基板的显示区和非显示区，且部分位于非显示区的第一配向层设置于第一环形凹槽中，以消除因配向层膜厚不均、配向层边缘不规则导致的显示亮度不均的问题。，下面是彩膜基板及其制备方法、显示面板专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板具有一显示区和位于所述显示区外围的非显示区，所述彩膜基板包括第一基板以及第一配向层，
所述第一基板对应所述非显示区的部分设置有至少一第一环形凹槽；
所述第一配向层位于所述彩膜基板的所述显示区和所述非显示区，且部分位于所述非显示区的第一配向层设置于第一环形凹槽中。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一基板包括第一衬底以及第一导电层，
所述第一导电层设置于所述第一衬底的表面且位于所述彩膜基板的显示区和所述非显示区，位于所述非显示区的所述第一导电层上设置有所述第一环形凹槽；
所述第一配向层形成于所述第一导电层远离所述第一衬底的表面。
3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一环形凹槽的深度小于所述第一导电层的厚度。
4.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一导电层的制备材料包括氧化铟锡、铟锌氧化物、氧化锌的至少一种。
5.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括第一衬底以及黑色矩阵层，
部分所述黑色矩阵层设置于所述第一衬底的表面且位于所述彩膜基板的非显示区，位于所述非显示区的所述黑色矩阵层上设置有所述第一环形凹槽，
在所述非显示区的所述第一配向层位于所述非显示区的所述黑色矩阵层远离所述第一衬底的表面。
6.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一环形凹槽的深度为大于0纳米且小于或等于100纳米，所述第一环形凹槽的宽度为大于或等于10微米且小于或等于100微米。
7.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
S10：提供第一基板，所述第一基板具有一显示区，以及位于所述显示区外围的非显示区；
S20:于所述第一基板对应所述非显示区的部分形成至少一第一环形凹槽；
S30:于所述第一基板的所述显示区和所述非显示区形成第一配向层，且位于所述非显示区的所述第一配向层形成于所述第一环形凹槽中。
8.根据权利要求7所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述步骤S30包括如下步骤：
S301：分别于所述第一基板对应所述显示区的部分和所述非显示区的部分滴加配向液液滴；
S302：利用风刀使所述配向液液滴在所述显示区和所述非显示区形成配向液膜，且使部分所述配向液膜位于所述第一环形凹槽中。
9.根据权利要求8所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，滴加至所述非显示区的配向液液滴的质量为滴加至所述显示区的配向液液滴质量的1.5倍～2倍。
10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括如权利要求1～6任一项所述的彩膜基板，以及与所述彩膜基板相对设置的阵列基板，所述阵列基板具有显示区和非显示区，所述阵列基板包括第二基板以及第二配向层，
所述第二基板对应所述阵列基板的所述非显示区的部分设置有至少一第二环形凹槽；
所述第二配向层位于所述阵列基板的所述显示区和所述非显示区，且部分位于所述非显示区的第二配向层设置于第二环形凹槽中。

说明书全文

彩膜基板及其制备方法、显示面板

技术领域

[0001] 本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制备方法、显示面板。

背景技术

[0002] 目前，彩膜基板的制程步骤逐渐减少，最终将只会保留沉积氧化铟锡膜层一道工序，因此地势平坦。在后续成盒制程中，涂布的聚酰亚胺(Polyimide， PI)会在基板上自由
扩散，容易产生咖啡环效应，使得PI层外围膜厚不均，PI 层外围形成形状不规则，直线性差
的区域，影响液晶的配向，进而使显示面板周边液晶配向不良，造成显示面板周边亮度不
均的问题。
发明内容

[0003] 本申请实施例提供一种彩膜基板及其制备方法、显示面板，以解决现有显示面板中因配向层膜厚不均、配向层边缘不规则造成的显示亮度不均的问题。

[0004] 本申请实施例提供一种彩膜基板，所述彩膜基板具有一显示区和位于所述显示区外围的非显示区，所述彩膜基板包括第一基板以及第一配向层，

[0005] 所述第一基板对应所述非显示区的部分设置有至少一第一环形凹槽；

[0006] 所述第一配向层位于所述彩膜基板的所述显示区和所述非显示区，且部分位于所述非显示区的第一配向层设置于第一环形凹槽中。

[0007] 在一些实施例中，所述第一基板包括第一衬底以及第一导电层，

[0008] 所述第一导电层设置于第一衬底的表面且位于所述彩膜基板的显示区和所述非显示区，位于所述非显示区的所述第一导电层上设置有所述第一环形凹槽；

[0009] 所述第一配向层形成于所述第一导电层远离所述第一衬底的表面。

[0010] 在一些实施例中，所述第一环形凹槽的深度小于所述第一导电层的厚度。

[0011] 在一些实施例中，所述第一导电层的制备材料包括氧化铟锡、铟锌氧化物、氧化锌的至少一种。

[0012] 在一些实施例中，所述彩膜基板包括第一衬底以及黑色矩阵层，

[0013] 部分所述黑色矩阵层设置于所述第一衬底的表面且位于所述彩膜基板的非显示区，位于所述非显示区的所述黑色矩阵层上设置有所述第一环形凹槽，

[0014] 在所述非显示区的所述第一配向层位于所述非显示区的所述黑色矩阵层远离所述第一衬底的表面。

[0015] 在一些实施例中，所述第一环形凹槽的深度为大于0纳米且小于或等于100 纳米，所述第一环形凹槽的宽度为大于或等于10微米且小于或等于100微米。

[0016] 本申请还提供一种彩膜基板的制备方法，所述制备方法包括：

[0017] S10：提供第一基板，所述第一基板具有一显示区，以及位于所述显示区外围的非显示区；

[0018] S20:于所述第一基板对应所述非显示区的部分形成至少一第一环形凹槽；

[0019] S30:于所述第一基板的所述显示区和所述非显示区形成第一配向层，且位于所述非显示区的所述第一配向层形成于所述第一环形凹槽中。

[0020] 在一些实施例中，所述步骤S30包括如下步骤：

[0021] S301：分别于所述第一基板对应所述显示区的部分和所述非显示区的部分滴加配向液液滴；

[0022] S302：利用风刀使所述配向液液滴在所述显示区和所述非显示区形成配向液膜，且使部分所述配向液膜位于所述第一环形凹槽中。

[0023] 在一些实施例中，滴加至所述非显示区的配向液液滴的质量为滴加至所述显示区的配向液液滴质量的1.5倍～2倍。

[0024] 本申请实施例提供一种显示面板，所述显示面板包括所述彩膜基板，以及与所述彩膜基板相对设置的阵列基板，所述阵列基板具有显示区和非显示区，所述阵列基板包括
第二基板以及第二配向层，

[0025] 所述第二基板对应所述阵列基板的所述非显示区的部分设置有至少一第二环形凹槽；

[0026] 所述第二配向层位于所述阵列基板的所述显示区和所述非显示区，且部分位于所述非显示区的第二配向层设置于第二环形凹槽中。

[0027] 本申请实施例提供的彩膜基板及其制备方法、显示面板，所述彩膜基板具有一显示区和位于所述显示区外围的非显示区，所述彩膜基板包括第一基板以及第一配向层；所
述第一基板对应所述非显示区的部分设置有至少一第一环形凹槽；所述第一配向层位于
所述彩膜基板的所述显示区和所述非显示区，且部分位于所述非显示区的第一配向层设
置于第一环形凹槽中，以降低所述第一配向层在边缘区域的膜层厚度，使所述第一配向层
的边界具有直线性。在制备过程时采用风刀设备使配向液液滴向所述第一环形凹槽扩散，
形成边缘具有直线性的第一配向层。通过成盒制程将所述彩膜基板与阵列基板组合构成
显示面板，消除因配向层膜厚不均、配向层边缘不规则导致的显示亮度不均的问题。
附图说明

[0028] 下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。

[0029] 图1A为本申请第一实施例彩膜基板的结构示意图；

[0030] 图1B为沿图1A所示彩膜基板A-A’线剖切的剖视图；

[0031] 图2A为本申请第二实施例彩膜基板的结构示意图；

[0032] 图2B为沿图2A所示彩膜基板B-B’线剖切的剖视图；

[0033] 图3A为本申请第三实施例彩膜基板的结构示意图；

[0034] 图3B为沿图3A所示彩膜基板C-C’线剖切的剖视图；

[0035] 图4A为本申请第四实施例彩膜基板的结构示意图；

[0036] 图4B为沿图4A所示彩膜基板D-D’线剖切的剖视图；

[0037] 图5A为本申请第五实施例彩膜基板的结构示意图；

[0038] 图5B为沿图5A所示彩膜基板E-E’线剖切的剖视图；

[0039] 图6A为本申请第六实施例彩膜基板的结构示意图；

[0040] 图6B为沿图6A所示彩膜基板F-F’线剖切的剖视图；

[0041] 图7为本申请实施例提供的彩膜基板的制备流程图；

[0042] 图8为本申请实施例提供的配向液液滴在显示区与非显示区的比例示意图；

[0043] 图9A～图9D为本申请实施例提供的采用风刀设备辅助配向液液滴扩散的截面示意图；

[0044] 图10为风刀设备的结构示意图；

[0045] 图11为本申请实施例提供的风刀设备与机台的位置示意图；

[0046] 图12为本申请第一实施例显示面板的结构示意图；

[0047] 图13为本申请第二实施例显示面板的结构示意图；

[0048] 图14为本申请第三实施例显示面板的结构示意图；

[0049] 图15为本申请第四实施例显示面板的结构示意图；

[0050] 图16为本申请第五实施例显示面板的结构示意图。

具体实施方式

[0051] 下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于
本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实
施例，都属于本申请保护的范围。

[0052] 在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、 “宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、 “底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为
了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方
位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第
二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特
征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个
所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限
定。

[0053] 在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连
接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间
媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普
通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

[0054] 在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过
它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第
一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特
征在第二特征“之下”、“下方”和“下面” 包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅
表示第一特征水平高度小于第二特征。

[0055] 下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，
并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字
母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之
间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人
员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

[0056] 具体的，请参阅图1A，其为本申请第一实施例彩膜基板100的结构示意图。所述彩膜基板100具有一显示区和位于所述显示区外围的非显示区，其中100a 表示所述显示区的
边界，100b表示所述非显示区的边界。

[0057] 请参阅图1B，其为沿图1A所示彩膜基板的A-A’线剖切的剖视图，所述彩膜基板100包括：

[0058] 第一基板101以及第一配向层102，

[0059] 所述第一基板101对应所述非显示区的部分设置有至少一第一环形凹槽 1001；

[0060] 所述第一配向层102位于所述彩膜基板100的所述显示区和所述非显示区，且部分位于所述非显示区的第一配向层102设置于第一环形凹槽1001中,以降低所述第一配向
层102在边缘区域的膜层厚度，使所述第一配向层102的膜层厚度具有均一性，还可使所述
第一配向层102的边界102a形成与所述第一环形凹槽1001形状相同的规则的环形，使所述
第一配向层102的边界102a具有直线性。

[0061] 具体地，所述第一环形凹槽1001由一底壁1001a和位于所述底壁1001a相对两侧的内侧壁1001b与外侧壁1001c围合而成，所述第一配向层102在所述非显示区的边界102a
与所述外侧壁1001c相接触。

[0062] 请参阅图2A，其为本申请第二实施例彩膜基板的结构示意图；如图2B所示，其为沿图2A所示彩膜基板B-B’线剖切的剖视图，所述第一基板101包括第一衬底1011以及第一
导电层1012，

[0063] 所述第一导电层1012设置于第一衬底1011的表面且位于所述彩膜基板 100的显示区和所述非显示区，位于所述非显示区的所述第一导电层1012上设置有所述第一环形
凹槽1001；

[0064] 所述第一配向层102形成于所述第一导电层1012远离所述第一衬底1011 的表面。

[0065] 所述第一环形凹槽1001的深度小于所述第一导电层1012的厚度；具体地，所述第一环形凹槽1001的深度为大于0纳米且小于或等于100纳米，所述第一环形凹槽1001的宽
度为大于或等于10微米且小于或等于100微米。

[0066] 所述第一导电层1012的制备材料包括氧化铟锡、铟锌氧化物、氧化锌的至少一种。所述第一配向层102的制备材料为聚酰亚胺。

[0067] 请参阅图3A，其为本申请第三实施例彩膜基板的结构示意图；如图3B所示，其为沿图3A所示彩膜基板C-C’线剖切的剖视图，所述彩膜基板100包括第一衬底1011以及黑色
矩阵层103，

[0068] 部分所述黑色矩阵层103设置于所述第一衬底1011的表面且位于所述彩膜基板100的非显示区，位于所述非显示区的所述黑色矩阵层103上设置有所述第一环形凹槽
1001，

[0069] 在所述非显示区的所述第一配向层102位于所述非显示区的所述黑色矩阵层103远离所述第一衬底1011的表面。

[0070] 所述黑色矩阵层103在所述非显示区的边界为103a。

[0071] 请参阅图4A，其为本申请第四实施例彩膜基板的结构示意图；如图4B所示，其为沿图4A所示彩膜基板D-D’线剖切的剖视图，所述彩膜基板100还包括彩膜层104，所述彩膜
层104位于所述第一衬底1011的一侧表面，所述彩膜层104包括多个色块，所述色块与所述
黑色矩阵层103上的黑矩阵间隔设置；

[0072] 所述第一导电层1012在远离所述第一衬底1011的一侧表面且对应所述非显示区的部分具有所述第一环形凹槽1001；所述第一配向层102在所述非显示区的边界102a位于
所述第一环形凹槽1001内，以降低所述第一配向层102在边缘区域的膜层厚度，使所述第
一配向层102的边界102a具有直线性。

[0073] 请参阅图5A，其为本申请第五实施例彩膜基板的结构示意图；如图5B所示，其为沿图5A所示彩膜基板E-E’线剖切的剖视图，对应所述非显示区的所述黑色矩阵层103至少
部分未被所述第一导电层1012覆盖，所述黑色矩阵层 103在未被所述第一导电层1012覆盖
的区域设置有所述第一环形凹槽1001。

[0074] 在所述非显示区中，所述第一导电层1012的边界1012a位于所述黑色矩阵层103的边界103a内，即所述第一导电层1012的边界1012a相对于所述黑色矩阵层103的边界
103a更靠近所述显示区的边界100a，所述第一环形凹槽1001 设置在所述黑色矩阵层103未
被所述第一导电层1012覆盖的区域。相应地，所述第一环形凹槽1001的深度小于所述黑色
矩阵层103的厚度。所述黑色矩阵层 103上包括多个黑矩阵，所述彩膜层104包括多个RGB色
块，所述黑矩阵与各所述色块间隔设置。

[0075] 请参阅图6A，其为本申请第六实施例彩膜基板的结构示意图；如图6B所示，其为沿图6A所示彩膜基板F-F’线剖切的剖视图，所述彩膜基板100还包括位于所述第一导电层
1012靠近所述黑色矩阵层103与所述彩膜层104一侧的第一保护层105；在所述非显示区，
所述第一导电层1012的边界1012a位于所述第一保护层105的边界内，所述第一环形凹槽
1001设置在所述第一保护层 105未被所述第一导电层1012覆盖的区域，相应地，所述第一
环形凹槽1001 的深度小于所述第一保护层105的厚度。

[0076] 请参阅图7，其为本申请实施例提供的彩膜基板的制备流程图；所述制备方法包括：

[0077] S10：提供第一基板，所述第一基板具有一显示区，以及位于所述显示区外围的非显示区；

[0078] S20:于所述第一基板对应所述非显示区的部分形成至少一第一环形凹槽；

[0079] S30:于所述第一基板的所述显示区和所述非显示区形成第一配向层，且位于所述非显示区的所述第一配向层形成于所述第一环形凹槽中。

[0080] 所述第一导电层采用物理气相沉积、化学气相沉积、原子层沉积、蒸发、溅射的其中一种制备在所述第一基板上，所述第一环形凹槽通过黄光工艺或激光蚀刻得到。具体
地，当采用黄光工艺制备所述第一环形凹槽时，所述步骤S20 还包括：

[0081] S201：在所述第一导电层表面涂布光阻层；

[0082] S202：采用半色调光罩对所述光阻层进行曝光；

[0083] S203：对所述光阻层进行显影；

[0084] S204：蚀刻所述第一导电层，得到所述第一环形凹槽；

[0085] S205：剥离所述光阻层。

[0086] 所述半色调光罩包括保留部及半保留部，对应所述保留部的所述第一导电层在蚀刻后被全部保留，对应所述半保留部的所述第一导电层在蚀刻后被部分保留。

[0087] 所述步骤S30包括如下步骤：

[0088] S301：分别于所述第一基板对应所述显示区的部分和所述非显示区的部分滴加配向液液滴；

[0089] S302：利用风刀使所述配向液液滴在所述显示区和所述非显示区形成配向液膜，且使部分所述配向液膜位于所述第一环形凹槽中。

[0090] 所述第一环形凹槽的纵截面为矩形、弧形或倒梯形中的一种，以便于所述配向液液滴向所述第一环形凹槽扩散。

[0091] 所述配向液膜需进行固化处理以形成所述配向层；为使所述配向层具有较好的膜厚均一性及边缘直线性，对对应所述显示区及所述非显示区的所述配向液液滴的滴下
量进行控制，并采用风刀设备辅助所述配向液液滴的扩散。

[0092] 具体地，请参阅图8所示，其为本申请实施例提供的所述配向液液滴在显示区与非显示区的比例示意图，滴加至所述非显示区的配向液液滴1021b的质量为滴加至所述显
示区的配向液液滴1021a质量的1.5倍～2倍。

[0093] 请参阅图9A～图9D，其为本申请实施例提供的采用风刀设备辅助配向液液滴扩散的截面示意图，即沿图8中的G-G’剖切得到的剖面图的基础上，采用风刀设备辅助配向
液液滴1021b扩散；所述步骤S302包括：

[0094] S3021：所述风刀设备开始工作，内风刀1061位于所述显示区边界100a 处，外风刀1062位于所述第一环形凹槽1001的内侧壁1001b处，请参阅图9A；

[0095] S3022：向所述非显示区均匀移动所述内风刀1061及所述外风刀1062，使所述配向液液滴1021b向所述第一环形凹槽1001扩散，请参阅图9B；

[0096] S3023：所述外风刀1062移动至所述第一环形凹槽1001的外侧壁1001c 时停止移动，所述内风刀1061继续向所述第一环形凹槽1001的外侧壁1001c 移动，请参阅图9C；

[0097] S3024：所述内风刀1061移动至所述第一环形凹槽1001的外侧壁1001c 时停止移动，在所述配向液液滴1021b流平后关闭所述风刀设备，请参阅图9D。

[0098] 若对应所述非显示区的配向液液滴1031b与所述第一环形凹槽1001的内侧壁1001b具有距离，则所述步骤S3022包括：

[0099] S30221：向所述非显示区均匀移动所述内风刀1061，保持所述外风刀1062 不动；

[0100] S30222：在所述配向液液滴1021b扩散至所述第一环形凹槽1001的内侧壁 1001b时，继续均匀移动所述内风刀1061，并使所述外风刀1062向所述外侧壁 1001c均匀移动。

[0101] 请参阅图10，其为风刀设备的结构示意图，所述风刀设备包括风刀301、位移控制杆302，所述位移控制杆302的两侧设置有控制所述风刀301移动的控制装置(图中未示
出)，所述控制装置为电动机。

[0102] 所述风刀设备的出风口位于所述风刀301远离所述位移控制杆302的一侧，所述风刀301的长度大于或等于放置在机台载台上的基板的长度。

[0103] 请参阅图11，其为本申请实施例提供的风刀设备与机台的位置示意图；所述机台至少包括一载台401以及导轨403，所述位移控制杆402的两端位于所述导轨403上，以使所
述风刀设备可沿所述导轨403移动，辅助所述配向液液滴向所述第一环形凹槽内扩散。所
述机台为配向液涂布机台(即PIP机台)。

[0104] 为提高制备效率，可设置两对风刀，即第一风刀和第二风刀，第一风刀与第二风刀相互垂直设置，且位于不同的平面；具体地，所述导轨403具有第一导轨4031与第二导轨
4032，所述第一导轨4031与所述第二导轨4032相互垂直设置，所述第一风刀的两端位于所
述第一导轨4031上，所述第二风刀的两端位于所述第二导轨4032上，所述第一导轨4011与
所述第二导轨4012的设置高度不同。

[0105] 在所述第一风刀(第二风刀)工作时，所述第二风刀(第一风刀)位于机台的制备区域外侧，以防止所述第一风刀与所述第二风刀之间相互影响。

[0106] 请参阅图12，其为本申请第一实施例显示面板的结构示意图，所述显示面板包括所述彩膜基板100，以及与所述彩膜基板100相对设置的阵列基板200，所述阵列基板200具
有显示区和非显示区，所述阵列基板200包括第二基板201 以及第二配向层202，

[0107] 所述第二基板201对应所述阵列基板200的所述非显示区的部分设置有至少一第二环形凹槽2001；

[0108] 所述第二配向层202位于所述阵列基板200的所述显示区和所述非显示区，且部分位于所述非显示区的第二配向层202设置于第二环形凹槽2001中。

[0109] 所述显示面板还包括位于所述彩膜基板100与所述阵列基板200之间的液晶分子107及框胶108。

[0110] 请参阅图13，其为本申请第二实施例显示面板的结构示意图，所述第二基板201包括第二衬底2011及第二导电层2012；所述第二导电层2012设置于所述第二衬底2011的
表面且位于所述阵列基板200的显示区和非显示区，位于所述非显示区的所述第二导电层
2012上设置有所述第二环形凹槽2001，所述第二配向层202位于所述第二导电层2012远离
所述第二基板2011的一侧表面，所述第二配向层202在所述非显示区的边界位于所述第二
环形凹槽2001内，所述第二环形凹槽2001的深度小于所述第二导电层2012的厚度。

[0111] 请参阅图14，其为本申请第三实施例显示面板的结构示意图，所述阵列基板200还包括第二保护层203，所述第二保护层203位于所述第二导电层2012 与所述第二配向层
202之间，所述第二保护层203对应所述非显示区的区域设置有所述第二环形凹槽2001，所
述第二环形凹槽2001的深度小于所述第二保护层203的厚度。

[0112] 请参阅图15，其为本申请第四实施例显示面板的结构示意图，所述彩膜层 104设置在所述阵列基板200侧，具体地，所述彩膜层104设置在所述第二保护层203远离所述第
二配向层202的一侧。

[0113] 请参阅图16，其为本申请第五实施例显示面板的结构示意图，所述阵列基板200上未设置所述第二环形凹槽2001。

[0114] 本申请实施例中的彩膜基板及其制备方法、显示面板只以所述第一基板或所述第一导电层或所述第一保护层或所述黑色矩阵层或第二基板或第二导电层或第二保护层
上设置一个凹槽的方式进行说明，但这并不用于限制本发明，本领域的相关技术人员可根
据实际情况，设置多个凹槽，多个凹槽可设置在同一膜层上，也可设置在不同的膜层上；同
样地，由于结构的不同，各彩膜基板或显示面板的方式也不仅局限于本申请实施例中所涉
及的结构，故本领域的相关技术人员可根据实际情况将凹槽设置于不同的膜层，如设置在
黑矩阵与间隔垫相结合的膜层(BPS)上，以确保在涂布聚酰亚胺层时，具有较好的膜厚均
一性及边缘直线性；由于设置方式与在本申请的实施例相似，在此不再进行赘述。

[0115] 本申请实施例提供的彩膜基板及其制备方法、显示面板，所述彩膜基板具有一显示区和位于所述显示区外围的非显示区，所述彩膜基板包括第一基板以及第一配向层；所
述第一基板对应所述非显示区的部分设置有至少一第一环形凹槽；所述第一配向层位于
所述彩膜基板的所述显示区和所述非显示区，且部分位于所述非显示区的第一配向层设
置于第一环形凹槽中，以降低所述第一配向层在边缘区域的膜层厚度，使所述第一配向层
的边界具有直线性。在制备过程时采用风刀设备使配向液液滴向所述第一环形凹槽扩散，
形成边缘具有直线性的第一配向层。通过成盒制程将所述彩膜基板与阵列基板组合构成
显示面板，消除因配向层膜厚不均、配向层边缘不规则导致的显示亮度不均的问题。

[0116] 在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

[0117] 以上对本申请实施例所提供的一种彩膜基板及其制备方法、显示面板进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说
明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：
其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行
等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术
方案的范围。

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彩膜基板及其制备方法、显示面板

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