专利汇可以提供一种磁场约束脉冲展宽成像系统专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本实用新型公开了一种 磁场 约束脉冲展宽成像系统。该系统的光电 阴极 将目标 辐射 的X光转换为 电子 ,电子在高速渐变 电场 作用下被色散调制并穿过前端栅网,在屏蔽壳内的等位漂移区中漂移,漂移中电子群的时间尺度被充分展宽,然后穿过后端栅网,经 微通道板 获得倍增后轰击 荧光 屏发光,将电 信号 重新转换为 光信号 ,整个过程电子均处在由磁壳包裹的磁线圈产生的均匀磁场中。该系统可显著改善线圈内磁场分布均匀性,从而最大限度降低电子群的空间弥散。该系统同时具备高时间分辨和高空间分辨能 力 ,有助于推动超高时间分辨二维成像诊断技术的发展,对提升激光 惯性约束聚变 诊断精密化 水 平具有重要意义。(ESM)同样的 发明 创造已同日 申请 发明 专利,下面是一种磁场约束脉冲展宽成像系统专利的具体信息内容。
1.一种磁场约束脉冲展宽成像系统,其特征在于,所述的成像系统包括由内至外同心分布的飞行管道、磁线圈(2)和磁壳(1);所述的飞行管道包括沿光路方向顺序排列的光电阴极(8)、前端栅网(9)、后端栅网(4)、微通道板(5)和荧光屏(6),前端栅网(9)和后端栅网(4)之间包裹有环形的屏蔽壳(7),前端栅网(9)、后端栅网(4)和屏蔽壳(7)内的空腔为电子的等位漂移区(10);所述的磁线圈(2)环绕在飞行管道外,磁线圈(2)的外表面和两端端面包覆有磁壳(1),磁线圈(2)的内表面位于飞行管道的前端和后端的位置有从外至内对称分布的楔形磁靴(3),楔形磁靴(3)的头端朝外,楔形磁靴(3)的尾端朝内。
2.根据权利要求1所述的磁场约束脉冲展宽成像系统,其特征在于,所述的磁壳(1)由电磁纯铁材料制作而成,磁壳(1)的最大磁导率大于0.015H/m,在线圈磁场为200A/m时,磁壳(1)的磁感应强度大于1.3T。
3.根据权利要求1所述的磁场约束脉冲展宽成像系统,其特征在于,所述的磁线圈(2)通过脉冲电流驱动。
4.根据权利要求1所述的磁场约束脉冲展宽成像系统,其特征在于,所述的楔形磁靴(3)的形状为线性渐变楔形。
5.根据权利要求1所述的磁场约束脉冲展宽成像系统,其特征在于,所述的飞行管道的各部件加有不同的直流偏压,光电阴极(8)相比前端栅网(9)为负偏压,前端栅网(9)、屏蔽壳(7)、后端栅网(4)等电位,微通道板(5)的输入面和微通道板(5)的输出面等电位,微通道板(5)的输出面相比荧光屏(6)为负偏压;光电阴极(8)和前端栅网(9)之间叠加有正高压脉冲,正高压脉冲上升沿线性渐变区对电子进行色散调制,微通道板(5)的输入面和微通道板(5)的输出面之间叠加有负高压脉冲。
6.根据权利要求5所述的磁场约束脉冲展宽成像系统,其特征在于,所述的光电阴极(8)、前端栅网(9)、屏蔽壳(7)、后端栅网(4)、微通道板(5)的输入面、微通道板(5)的输出面和荧光屏(6)的电位分别为-5000V、-3000V、-3000V、-3000V、0V、0V、4000V;所述的正高压脉冲幅值为2000V,上升沿线性区斜率在1V/ps~5V/ps范围内,所述的负高压脉冲幅值为-
2500V,脉宽200ps。
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