专利汇可以提供无源射频器件机器制作方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 属于射频无源器件领域,为提出一种新型无源 滤波器 结构,具有制作工艺简单,制作工艺与 半导体 制作工艺兼容的特点,使得无源器件易于与有源器件进行集成。在大规模集成 电路 的制作、SOC芯片高集成化生产以及射频单片集成电路等领域具有广泛的应用前景。为此,本发明采取的技术方案是,无源射频器件机器制作方法,首先通过 光刻 技术在 本征半导体 衬底上形成掺杂图形区域。然后,对该区域进行选择性高浓度掺杂,掺杂厚度为3-5微米。掺杂后对器件进行 退火 处理,完成新型无源射频器件的制备。本发明主要应用于射频无源器件设计制造场合。,下面是无源射频器件机器制作方法专利的具体信息内容。
1.一种无源射频器件机器制作方法,其特征是,首先通过光刻技术在本征半导体衬底上形成掺杂图形区域。然后,对该区域进行选择性高浓度掺杂,掺杂厚度为3-5微米。掺杂后对器件进行退火处理,完成新型无源射频器件的制备。
2.如权利要求1所述的无源射频器件机器制作方法,其特征是,具体的制作工艺如下:
a、选用本征半导体材料硅作为衬底,首先将硅放进盛有丙酮溶液的烧杯中,然后在超声波清洗器中清洗,随后使用异丙醇溶液将用丙酮清洗过的硅片在超声波清洗器中将丙酮清洗干净,得到较为清洁的衬底;
b、在硅片表面涂上正型光刻胶,并使用匀胶机,将光刻胶甩均匀,随后使用光刻机以及制作好的掩膜版进行光刻形成特定的掺杂区图案,随后采用离子注入的方式进行N型注入,参数为注入能量为50kev,剂量为1019cm-2,产生高浓度掺杂区,在950℃的温度条件下,快速热退火10s之后,在丙酮溶液中除去光刻胶,去胶之后,器件的制备完成。
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