一种离子注入机清洗装置
专利汇可以提供一种离子注入机清洗装置专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本实用新型涉及 离子注入 机 技术领域，具体为一种离子注入机清洗装置，包括离子源反应室 外壳 体，离子源反应室外壳体的内腔 侧壁 上开设有控制槽，控制槽一侧的离子源反应室外壳体上开设有导 流管 ，控制槽中设置有控制盘，控制盘为圆台状，控制盘的圆台上底面中部开设有压 力 腔，压力腔中设置有圆板状的拦截板、控制杆和 弹簧 ，控制杆的一端和拦截板中部固定连接，控制杆的另一端与控制槽的凹槽底面固定连接，控制杆的外部活动套接有弹簧，本实用新型构造设计实现清洗气体在离子源反应室外壳体内腔中的均匀扩散，进而实现离子源反应室外壳体内壁上表面材料以及离子源反应室外壳体中的装置表面材料与清洗气体稳定发生反应，避免 沉积物 的产生。，下面是一种离子注入机清洗装置专利的具体信息内容。
1.一种离子注入机清洗装置，包括离子源反应室外壳体(1)，其特征在于：所述离子源反应室外壳体(1)的内腔侧壁上开设有控制槽(2)，所述控制槽(2)一侧的离子源反应室外壳体(1)上开设有导流管(3)，所述控制槽(2)中设置有控制盘(4)，所述控制盘(4)为圆台状，控制盘(4)的圆台上底面中部开设有压力腔(5)，所述压力腔(5)中设置有圆板状的拦截板(6)、控制杆(7)和弹簧(8)，所述控制杆(7)的一端和拦截板(6)中部固定连接，控制杆(7)的另一端与控制槽(2)的凹槽底面固定连接，控制杆(7)的外部活动套接有弹簧(8)，所述控制盘(4)的侧壁上环设有扩散环(9)，所述扩散环(9)位于控制盘(4)侧壁上开设的环状凹槽中，控制盘(4)的环状凹槽整体形状为梯形筒状，控制盘(4)上环设有若干均匀分布的导向管腔(10)，所述导向管腔(10)一端和控制盘(4)的下底面连通，导向管腔(10)的另一端和控制盘(4)的环状凹槽底面连通，所述控制杆(7)的一侧设置有定向柱(11)，所述扩散环(9)形状为梯形筒状，且扩散环(9)筒体侧壁上环设有若干均匀分布的斜板孔(12)。
2.根据权利要求1所述的一种离子注入机清洗装置，其特征在于：所述压力腔(5)形状为圆柱腔一端连通圆柱通孔，弹簧(8)和拦截板(6)位于压力腔(5)的圆柱腔中，控制杆(7)贯穿压力腔(5)的圆柱通孔。
3.根据权利要求1所述的一种离子注入机清洗装置，其特征在于：所述定向柱(11)一端和控制槽(2)的凹槽底面固定连接，定向柱(11)另一端延伸到控制盘(4)的底面上开设的柱状凹槽中，若干定向柱(11)均匀环设在压力腔(5)周围。
4.根据权利要求1所述的一种离子注入机清洗装置，其特征在于：所述导流管(3)形状为柱状管腔一端连通L型管腔，若干L型管腔均匀环设在柱状管腔周围，导流管(3)的L型管腔一端和控制槽(2)的凹槽底面连通。
一种离子注入机清洗装置
技术领域
背景技术
具体实施方式
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