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一种用于真空自耗电弧炉的坩埚冷装置

阅读:627发布:2020-05-08

专利汇可以提供一种用于真空自耗电弧炉的坩埚冷装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 涉及一种用于 真空 自耗 电弧 炉的 坩埚 水 冷装置,该水冷装置 自上而下 依次包括上部水冷系统、坩埚以及下部水冷系统;坩埚的顶部与上部水冷系统连接,坩埚的底部与下部水冷系统连接;通过将一套水冷系统分为两套单独的水冷系统,改变了熔炼棒材的取出方式,由以前吊装取出改为直接从坩埚底部取出;坩埚熔炼完成并冷却后,通过下部快速 夹钳 将下部水冷系统与上部水冷系统分开,实现熔炼锭的快速卸料,即避免坩埚内部 冷却水 流出,又减少了操作时间。,下面是一种用于真空自耗电弧炉的坩埚冷装置专利的具体信息内容。

1.一种用于真空自耗电弧炉的坩埚冷装置,其特征在于,该水冷装置自上而下依次包括上部水冷系统、坩埚(2)以及下部水冷系统;
所述坩埚(2)的顶部与上部水冷系统连接,所述坩埚(2)的底部与下部水冷系统连接。
2.根据权利要求1所述的一种用于真空自耗电弧炉的坩埚水冷装置,其特征在于,所述上部水冷系统包括上水冷外壁(3)和导流管(5);
所述上水冷外壁(3)的下端面与导流管(5)的下端面抵接;
所述导流管(5)的上端通过螺钉与坩埚(2)固定连接;
所述坩埚(2)位于导流管(5)内部。
3.根据权利要求2所述的一种用于真空自耗电弧炉的坩埚水冷装置,其特征在于,所述上水冷外壁(3)的内部下端呈环形锥面。
4.根据权利要求2所述的一种用于真空自耗电弧炉的坩埚水冷装置,其特征在于,所述坩埚(2)的内壁呈圆锥形。
5.根据权利要求1或2所述的一种用于真空自耗电弧炉的坩埚水冷装置,其特征在于,所述上部水冷系统的下端通过螺钉连接有密封盖,所述密封盖与坩埚(2)的底部抵接。
6.根据权利要求1所述的一种用于真空自耗电弧炉的坩埚水冷装置,其特征在于,所述上部水冷系统外壁的上端安装有上端快速夹钳(4),所述上端快速夹钳(4)与设置在上部水冷系统上的第一钩爪(1)连接;
所述上部水冷系统外壁的下端安装有下端快速夹钳(6),所述下端快速夹钳(6)与位于下部水冷系统上的第二钩爪(7)连接;
所述坩埚(2)的底部位于下部水冷系统的上端通过螺钉固定连接。
7.根据权利要求3所述的一种用于真空自耗电弧炉的坩埚水冷装置,其特征在于,所述上部水冷系统的进水口位于水冷外壁的下侧面;
所述上部水冷系统的出水口位于水冷外壁的内部滑行锥面上部。
8.根据权利要求2所述的一种用于真空自耗电弧炉的坩埚水冷装置,其特征在于,所述下部水冷系统包括下水冷外壁(8),所述下水冷外壁(8)的内部上端呈锥形;
所述下水冷外壁(8)的锥形上端面与坩埚(2)的下端面抵接;
所述下水冷外壁(8)的侧面设置有出水孔,所述下部水冷系统冷却水的出水口位于下水冷外壁(8)的下侧面。

说明书全文

一种用于真空自耗电弧炉的坩埚冷装置

技术领域

[0001] 本发明属于有色金属熔炼设备领域,尤其涉及一种用于真空自耗电弧炉的坩埚水冷装置。

背景技术

[0002] 真空自耗电弧炉(VAR)作为有色金属熔炼的重要设备主要用来熔炼和锆等金属,其原理是在真空状态下依靠电源阳极阴极之间的放点电弧将作为阴极的金属电极不断的熔化并滴落到结晶器内进行冷却结晶的过程。
[0003] 在生产过程中,坩埚的冷却通常采用欧冠一套水冷系统,熔炼的棒料和坩埚需通过吊装形式从水冷系统中取出,比较费工时,而且吊装出的坩埚和棒料会将水冷系统中的水带出,使车间地面湿滑,容易发生事故。

发明内容

[0004] 本发明的目的在于提供一种用于自耗电弧炉的坩埚水冷装置,其解决了现有坩埚水冷比较费工时、污染车间环境的问题,具有操作方便、节省工时、能保证车间洁净的特点。
[0005] 本发明的目的是通过以下技术方案来解决的:
[0006] 一种用于真空自耗电弧炉的坩埚水冷装置,该水冷装置自上而下依次包括上部水冷系统、坩埚以及下部水冷系统;
[0007] 所述坩埚的顶部与上部水冷系统连接,所述坩埚的底部与下部水冷系统连接。
[0008] 进一步:所述上部水冷系统包括上水冷外壁和导流管
[0009] 所述上水冷外壁的下端面与导流管的下端面抵接;
[0010] 所述导流管的上端通过螺钉与坩埚固定连接;
[0011] 所述坩埚位于导流管内部。
[0012] 进一步:所述上水冷外壁的内部下端呈环形锥面。
[0013] 进一步:所述坩埚的内壁呈圆锥形。
[0014] 进一步:所述上部水冷系统的下端通过螺钉连接有密封盖,所述密封盖与坩埚的底部抵接。
[0015] 进一步:所述上部水冷系统外壁的上端安装有上端快速夹钳,所述上端快速夹钳与设置在上部水冷系统上的第一钩爪连接;
[0016] 所述上部水冷系统外壁的下端安装有下端快速夹钳,所述下端快速夹钳与位于下部水冷系统上的第二钩爪连接;
[0017] 所述坩埚的底部位于下部水冷系统的上端通过螺钉固定连接。
[0018] 进一步:所述上部水冷系统的进水口位于水冷外壁的下侧面;
[0019] 所述上部水冷系统的出水口位于水冷外壁的内部滑行锥面上部。
[0020] 进一步:所述下部水冷系统包括下水冷外壁,所述下水冷外壁的内部上端呈锥形;
[0021] 所述下水冷外壁的锥形上端面与坩埚的下端面抵接;
[0022] 所述下水冷外壁的侧面设置有出水孔,所述下部水冷系统冷却水的出水口位于下水冷外壁的下侧面。
[0023] 与现有技术相比,本申请所具有的有益效果是:通过一套水冷系统分为两套单独的水冷系统,改变了熔炼棒材的取出方式,由以前吊装取出改为直接从坩埚底部取出;具体效果如下:
[0024] 1)采用快速夹钳方式,方便上下水冷系统分开、坩埚与坩埚底部分开,避免采用吊装形式将坩埚连同坩埚底从冷却水中吊出,节省了工时;
[0025] 2)坩埚与坩埚底分别与上水冷系统和下水冷系统固定连接,避免了不必要的操作,并且冷却水不会从冷却系统中流出,保证了车间的干燥、洁净;
[0026] 本装置结构实现了真空自耗电弧炉棒料从坩埚底部取出的功能,便于操作,节省工时,可靠性高,提高了环境的洁净度和安全性。附图说明
[0027] 图1为本发明的快速夹钳使上下水冷系统加紧状态时的结构示意图;
[0028] 图2为本发明上下水冷系统冷却水的流通方向示意图。
[0029] 其中:1、第一钩爪;2、坩埚;3、上水冷外壁;4、上端快速夹钳;5、导流管;6、下端快速夹钳;7、第二钩爪;8、下水冷外壁;9、密封圈;10、上管件。

具体实施方式

[0030] 下面结合附图对本发明做进一步详细描述:
[0031] 如图1和图2所示,一种用于真空自耗电弧炉的坩埚2水冷装置,该水冷装置自上而下依次包括上部水冷系统、坩埚2以及下部水冷系统;
[0032] 坩埚2的顶部与上部水冷系统连接,坩埚2的底部与下部水冷系统连接。
[0033] 上部水冷系统冷却坩埚2外壁面,下部水冷系统冷却坩埚2底部;上下两部分坩埚2水冷结构分别是独立的水循环系统。
[0034] 上部水冷系统包括上水冷外壁3和导流管5。
[0035] 上水冷外壁3的下端面与导流管5的下端面抵接。
[0036] 导流管5的上端通过螺钉与坩埚2固定连接。
[0037] 坩埚2位于导流管5内部。
[0038] 上水冷外壁3的内部下端呈环形锥面。
[0039] 上部水冷系统的下端通过螺钉连接有密封盖,密封盖与坩埚2的底部抵接,密封盖用于防止漏水。
[0040] 上部水冷系统外壁的上端安装有上端快速夹钳4,上端快速夹钳4与设置在上部水冷系统上的第一钩爪1连接。
[0041] 上部水冷系统外壁的下端安装有下端快速夹钳6,下端快速夹钳6与位于下部水冷系统上的第二钩爪7连接。
[0042] 上部水冷系统的进水口位于水冷外壁的下侧面。
[0043] 上部水冷系统的出水口位于水冷外壁的内部滑行锥面上部。
[0044] 坩埚2的底部位于下部水冷系统的上端通过螺钉固定连接。
[0045] 下部水冷系统包括下水冷外壁8,下水冷外壁8的内部上端呈锥形。
[0046] 下水冷外壁8的锥形上端面与坩埚2的下端面抵接。
[0047] 下水冷外壁8的侧面设置有出水孔,下部水冷系统冷却水的出水口位于下水冷外壁8的下侧面。
[0048] 坩埚2的内壁面为圆锥面熔炼棒材从坩埚2的底部取出。
[0049] 坩埚2熔炼完成并冷却后,通过下部快速夹钳将下部水冷系统与上部水冷系统分开,实现熔炼锭的快速卸料,即避免坩埚2内部冷却水流出,又减少了操作时间。
[0050] 本装置结构实现了真空自耗电弧炉棒料从坩埚2底部取出的功能,便于操作,节省工时,可靠性高,提高了环境的洁净度和安全性。
[0051] 需要说明的是,诸如“第一”和“第二”等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
[0052] 以上所述仅是本申请的具体实施方式,使本领域技术人员能够理解或实现本申请。对这些实施例的多种修改对本领域的技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本申请的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本申请将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
[0053] 应当理解的是,本申请并不局限于上面已经描述的内容,并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本申请的范围仅由所附的权利要求来限制。
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