专利汇可以提供Manufacture for semiconductor device专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且PURPOSE: To manufacture a n-channel junction type FET and a bipolar type transistor unifiedly with less dispersion in the threshold voltage and drain current for junction type FET with a comparatively simple manufacturing process.
COPYRIGHT: (C)1978,JPO&Japio,下面是Manufacture for semiconductor device专利的具体信息内容。
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