专利汇可以提供CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM FOR POLYCRYSTALLINE SILICON ROD PRODUCTION专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且Disclosed are processes and reactor apparatus for rapidly producing large diameter, high-purity polycrystalline silicon rods for semiconductor applications. A.C. current is provided to the rods by a power supply, having a fixed or variable high frequency in the range of about 2 kHz to 800 kHz, to concentrate at least 70 % of the current in an annular region that is the outer 15 % of a rod due to the "skin effect".,下面是CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM FOR POLYCRYSTALLINE SILICON ROD PRODUCTION专利的具体信息内容。
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