一种图案化的方法、玻璃基板的制造方法及显示面板
阅读：1发布：2020-08-24
专利汇可以提供一种图案化的方法、玻璃基板的制造方法及显示面板专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 申请 实施例 提供一种 图案化 的方法、玻璃 基板 的制造方法及 显示面板 。本申请提供一种图案化的方法，包括步骤：将聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚 醋酸 酯中一种或两种与有机 聚合物 形成光阻剂；将所述光阻剂涂布在金属层上，使得光阻剂形成光阻层；使用 温度 集中的 探头 在所述光阻层上形成图案。本申请实施例可以减少黄光制程工序，避免光阻层蚀刻不均的问题。，下面是一种图案化的方法、玻璃基板的制造方法及显示面板专利的具体信息内容。
1.一种图案化的方法，其特征在于，包括步骤：
将聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯中一种或两种与有机聚合物形成光阻剂；
将所述光阻剂涂布在金属层上，使得光阻剂形成光阻层；
使用温度集中的探头在所述光阻层上形成图案。
2.根据权利要求1所述的图案化的方法，其特征在于，所述聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯固定含量在百分之十五至百分之二十之间。
3.根据权利要求1所述的图案化的方法，其特征在于，所述聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯中一种或两种与有机聚合物的配制粘度在二厘泊·秒至十厘泊·秒之间。
4.根据权利要求1所述的图案化的方法，其特征在于，所述光阻剂涂布在所述金属层的厚度为一百纳米至一百微米之间。
5.根据权利要求1所述的图案化的方法，其特征在于，所述将所述光阻剂涂布在金属层上之后还包括：
将所述光阻剂烘干以使得所述光阻剂形成光阻层。
6.根据权利要求1所述的图案化的方法，其特征在于，所述使用温度集中的探头在所述光阻层上形成图案包括：
利用自动化设备通过温度集中的探头在光阻层上形成预设的图案。
7.根据权利要求1至6任一项所述的图案化的方法，其特征在于，所述温度集中的探头的的温度在二百六十摄氏度至八百摄氏度之间。
8.一种玻璃基板的制造方法，其特征在于，包括：
提供一玻璃衬底，所述玻璃衬底包括相对设置的第一面以及第二面；
在所述第一面设置金属层；
将聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯中一种或两种与有机聚合物形成光阻剂；
将所述光阻剂涂布在金属层上，使得光阻剂形成光阻层；
使用温度集中的探头在所述光阻层上形成图案。
9.根据权利要求8所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯固定含量在百分之十五至百分之二十之间，所述聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯中一种或两种与有机聚合物的配制粘度在二厘泊·秒至十厘泊·秒之间。
10.一种显示面板，其特征在于，包括玻璃基板，所述玻璃基板采用如权利要求1至8任一项所述的图案化的方法制程。
一种图案化的方法、玻璃基板的制造方法及显示面板
技术领域
[0001] 本申请涉及面板制造技术领域，特别涉及一种图案化的方法、玻璃基板的制造方法及显示面板。
背景技术
[0002] 随着电子跟显示技术的不断发展。LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示器)等显示技术的日渐成熟，显示面板中的线路精细化要求逐渐升高。黄光工艺因其精度高，制程稳定等特点逐步得到研究、生产团队的青睐。同时成为一种应用最广泛的图形化技术。
[0003] 相关技术中，黄光在图案化过程中使用到的光阻层需要经过曝光、显影等复杂的工艺。不仅工艺复杂，而且光阻层会因基底材料的不同存在蚀刻不均等一些不可避免的问题。发明内容
[0004] 本申请实施例提供一种图案化的方法、玻璃基板的制造方法及显示面板。可以减少黄光制程的工序，避免光阻层蚀刻不均的问题。
[0005] 本申请实施例第一方面提供一种图案化的方法，包括步骤：
[0007] 将所述光阻剂涂布在金属层上，使得光阻剂形成光阻层；
[0009] 在一些实施例中，所述聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯固定含量在百分之十五至百分之二十之间。
[0010] 在一些实施例中，所述聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯中一种或两种与有机聚合物的配制粘度在二厘泊·秒至十厘泊·秒之间。
[0011] 在一些实施例中，所述光阻剂涂布在所述金属层的厚度为一百纳米至一百微米之间。
[0012] 在一些实施例中，所述将所述光阻剂涂布在金属层上之后还包括：将所述光阻剂烘干以使得所述光阻剂形成光阻层。
[0013] 在一些实施例中，所述使用温度集中的探头在所述光阻层上形成图案包括：利用自动化设备通过温度集中的探头在光阻层上形成预设的图案。
[0014] 在一些实施例中，所述温度集中的探头的的温度在二百六十摄氏度至八百摄氏度之间。
[0015] 本申请实施例第二面还提供一种玻璃基板的制造方法，包括：
[0016] 提供一玻璃衬底，所述玻璃衬底包括相对设置的第一面以及第二面；
[0017] 在所述第一面设置金属层；
[0018] 将聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯中一种或两种与有机聚合物形成光阻剂；
[0019] 将所述光阻剂涂布在金属层上，使得光阻剂形成光阻层；
[0020] 使用温度集中的探头在所述光阻层上形成图案。
[0021] 本申请实施例第三面还提供一种显示面板，包括玻璃基板，所述玻璃基板采用上述所述的图案化的方法制程
[0022] 本申请实施例中，利用聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯中一种或两种与有机聚合物形成的光阻剂具有良好的光或热敏感性，将光阻剂涂布在金属层上，使得光阻剂形成光阻层，通过温度集中的探头在光阻层上形成图案可以减少黄光制程工序中曝光和显影的工序，从而使得显示面板中图案化工序更加简单，使得光阻层不容易出现蚀刻不均的问题。附图说明
[0023] 为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
[0024] 图1为本申请实施例中提供的图案化的方法的流程示意图
[0025] 图2为本申请实施例中提供的玻璃基板的制造方法的流程示意图。
[0026] 图3为本申请实施例中提供的玻璃基板的主视图。
[0027] 图4为本申请实施例中提供的玻璃基板的俯视图。
具体实施方式
[0028] 下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0029] 本申请实施例提供一种图案化的方法、光阻剂组合物及玻璃基板的制造方法。以下对图案化的方法做进一步的介绍。
[0030] 请参阅图1，图1为本申请实施例中提供的图案化的方法的流程示意图。其中，本申请实施例中提供一种图案化的方法，包括步骤：
[0031] 101、将聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯中一种或两种与有机聚合物形成光阻剂。
[0032] 需要说明的是，有机聚合物可以为聚乙烯、环形胺、聚氯乙烯、酚醛树脂等。本申请实施例中可以选用其中一种有机聚合物或多种有机聚合物与聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯中一种或两种混合形成光阻剂。
[0033] 比如，通过聚邻苯二甲酰胺与聚乙烯、环形胺形成光阻层，其中，聚邻苯二甲酰胺的固定含量为百分之十五至百分之二十之间。具体的，聚邻苯二甲酰胺的固定含量可以为百分之十五，百分之十八，百分之二十等。又比如，通过聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯与聚乙烯、环形胺形成光阻剂。其中，聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯的固定含量为百分之十五，百分之十八，百分之二十等。本申请实施例中形成的光阻剂具有对光和热足够高的敏感性。
[0034] 可以理解的是，聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯材料本身具有良好的光和热的敏感性，因此，形成的光阻剂也具有良好的光和热的敏感性。
[0035] 102、将所述光阻剂涂布在金属层上，使得光阻剂形成光阻层。
[0036] 需要说明的是，将光阻剂均匀的涂布在金属层上。可以理解的是，可以采用涂布机将光阻剂涂布到金属层上。当然也可以通过手工将光阻剂涂布到金属层上。需要注意的是，在涂布的过程中，需要保证光阻剂是均匀的涂布在金属层上，这样才能保证光阻层形成后的厚度是均匀的。从而为显示面板提供良好的显示效果。当光阻剂涂布在金属层以后，一般采用烘干工艺使得光阻剂在金属层上形成光阻层。当然光阻剂涂布在金属层以后，还可以采用其他方法使得光阻剂形成光阻层。比如，采用风干的方法。本申请实施例中，将光阻剂形成光阻层的方法不限于此。
[0037] 103、使用温度集中的探头在所述光阻层上形成图案。
[0038] 需要说明的是，温度集中的探头可以是激光探头，也可以是高温探头。本申请实施例中温度集中的探头采用的具体结构不做过多赘述。具体的，形成的图案可以根据金属层具体需要的图案去设定。本申请实施例中，对图案的具体形状不做过多赘述。
[0039] 另外的，温度集中的探头是指能够聚焦于一条直线或者一个点持续发射具有稳定温度的探头，温度集中的探头的温度范围在260-800℃之间。
[0040] 其中，光阻层形成的图案化过程为，通过温度集中的探头在光阻层上按照预定轨迹运动，光阻层遇到温度集中的探头后，与探头对应的位置挥发，而没有与探头对应的位置留下金属层，从而使得光阻层在金属层上形成图案。
[0041] 本申请实施例中，利用聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯中一种或两种与有机聚合物形成的光阻剂，因为聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯材料本身具有良好的光和热的敏感性，使得所述的光阻剂也具有良好的光或热敏感性，从而光阻剂在受到光和热后，容易挥发，将光阻剂涂布在金属层上，使得光阻剂形成光阻层后，通过温度集中的探头照射所述光阻层，经过照射的地方会挥发，未经过照射的地方会留在金属层上。因此，在光阻层上形成预设图案，通过一次性在金属层上形成图案，可以减少黄光制程工序中曝光和显影的工序，从而使得显示面板中图案化工序更加简单，使得光阻层不容易出现蚀刻不均的问题。
[0042] 其中，所述聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯固定含量在百分之十五至百分之二十之间。
[0043] 可以理解的是，本申请实施例中，聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯的一种或两种固定含量为百分之十五，百分之十八，百分之二十等。本申请实施例中，聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯的一种或两种固定含量控制在百分之十五至百分之二十之间。这样能够保证光阻剂具有良好的光和热敏感性。也就是，后续在利用光或热的探头对光阻层形成图案时，能够使得光阻层很好的图案化，同时，也不会损害金属层。
[0044] 其中，所述聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯中一种或两种与有机聚合物的配制粘度在二厘泊·秒至十厘泊·秒之间。
[0045] 需要说明的是，所述聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯中一种或两种与有机聚合物的配制粘度可以为二厘泊·秒、四厘泊·秒、六厘泊·秒以及十厘泊·秒等。将所述聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯中一种或两种与有机聚合物的配制粘度控制在这个范围内，可以使得光阻剂能够顺利的涂布到金属层上，且不容易自由流动。从而确保形成光阻层时，能够保证均匀性。
[0046] 其中，所述光阻剂涂布在所述金属层的厚度为一百纳米至一百微米之间。
[0047] 需要说明的是，所述光阻剂涂布在所述金属层的厚度可以为一百纳米、二百纳米、五十微米以及一百微米等。可以理解的，本申请实施例中光阻剂涂布在金属层的厚度可以根据需要适当的进行改变。本申请实施例中对金属层具体的厚度设置不做过多赘述。
[0048] 其中，所述将所述光阻剂涂布在金属层上之后还包括：将所述光阻剂烘干以使得所述光阻剂形成光阻层。
[0049] 需要说明的是，将光阻剂烘干以使得光阻剂形成光阻层可以采用烘干设备，对光阻剂进行加热，从而形成光阻层。具体的，烘干的过程中的温度可以为200摄氏度至400摄氏度。当然，除了通过烘干将所述光阻剂形成光阻层。还可以采用其他方式将所述光阻剂形成光阻层。比如，采用风干的方法。本申请实施例中，将光阻剂形成光阻层的方法不限于此，在此，不做过多赘述。
[0050] 其中，所述使用温度集中的探头在所述光阻层上形成图案包括：利用自动化设备通过温度集中的探头在光阻层上形成预设的图案。
[0051] 需要说明的是，可以根据显示面板的需要，设计自动化设备的运行程序，通过运行程序控制温度集中的探头运动以在光阻层上形成图案。采用这种方式形成的图案，能够更加精准。具体的，温度集中的探头可以是激光探头，也可以是高温探头。本申请实施例中对温度集中的探头具体结构形式不做过多赘述。
[0052] 其中，所述温度集中的探头的温度在二百六十摄氏度至八百摄氏度之间。
[0053] 需要说明的是，所述温度集中的探头的温度可以为二百六十摄氏度、三六十摄氏度以及八百摄氏度等。将温度集中的探头的温度控制在二百六十摄氏度至八百摄氏度之间可以确保能够将光阻层蚀刻后的面比较平整。有利于显示面板的显示效果。
[0054] 本申请实施例中还提供一种光阻剂组合物，包括：聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯中一种或两种以及有机聚合物混合，所述聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯固定含量在百分之十五至百分之二十之间。
[0055] 需要说明的是，有机聚合物可以为聚乙烯、环形胺、聚氯乙烯、酚醛树脂等。本申请实施例中可以选用其中一种有机聚合物或多种有机聚合物与聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯中一种或两种混合形成光阻剂。
[0056] 比如，通过聚邻苯二甲酰胺与聚乙烯、环形胺形成光阻层，其中，聚邻苯二甲酰胺的固定含量为百分之十五至百分之二十之间。具体的，聚邻苯二甲酰胺的固定含量可以为百分之十五，百分之十八，百分之二十等。又比如，通过聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯与聚乙烯、环形胺形成光阻层。其中，聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯的固定含量为百分之十五，百分之十八，百分之二十等。本申请实施例中形成的光阻剂具有对光和热足够高的敏感性。
[0057] 其中，所述聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯中一种或两种与有机聚合物的配制粘度在二厘泊·秒至十厘泊·秒之间。
[0058] 需要说明的是，所述光阻剂涂布在所述金属层的厚度可以为一百纳米、二百纳米、五十微米以及一百微米等。可以理解的，本申请实施例中光阻剂涂布在金属层的厚度可以根据需要适当的进行改变。本申请实施例中对金属层具体的厚度设置不做过多赘述。
[0059] 需要说明的是，聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯材料本身具有良好的光和热的敏感性，因此，形成的光阻剂也具有良好的光和热的敏感性。
[0060] 请参阅图2，图2为本申请实施例中提供玻璃基板的制造方法的流程示意图。其中，本申请实施例提供的一种玻璃基板的制造方法包括：
[0061] 201、提供一玻璃衬底，所述玻璃衬底包括相对设置的第一面以及第二面。
[0062] 202、在所述第一面设置金属层。
[0063] 203、将聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯中一种或两种与有机聚合物形成光阻剂。
[0064] 需要说明的是，有机聚合物可以为聚乙烯、环形胺、聚氯乙烯、酚醛树脂等。本申请实施例中可以选用其中一种有机聚合物或多种有机聚合物与聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯中一种或两种混合形成光阻剂。
[0065] 比如，通过聚邻苯二甲酰胺与聚乙烯、环形胺形成光阻层，其中，聚邻苯二甲酰胺的固定含量为百分之十五至百分之二十之间。具体的，聚邻苯二甲酰胺的固定含量可以为百分之十五，百分之十八，百分之二十等。又比如，通过聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯与聚乙烯、环形胺形成光阻层。其中，聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯的固定含量为百分之十五，百分之十八，百分之二十等。本申请实施例中形成的光阻剂具有对光和热足够高的敏感性。
[0066] 204、将所述光阻层涂布在金属层上，使得光阻剂形成光阻层。
[0067] 需要说明的是，将光阻剂均匀的涂布在金属层上。可以理解的是，可以采用涂布机将光阻剂涂布到金属层上。当然也可以通过手工将光阻剂涂布到金属层上。需要注意的是，在涂布的过程中，需要保证光阻剂是均匀的涂布在金属层上，这样才能保证光阻层形成后的厚度是均匀的。从而为显示面板提供良好的显示效果。当光阻剂涂布在金属层以后，一般采用烘干工艺使得光阻剂在金属层上形成光阻层。当然光阻剂涂布在金属层以后，还可以采用其他方法使得光阻剂形成光阻层。比如，采用风干的方法。本申请实施例中，将光阻剂形成光阻层的方法在此，不做过多赘述。
[0068] 205、使用温度集中的探头在所述光阻层上形成图案。
[0069] 需要说明的是，温度集中的探头可以是激光探头，也可以是高温探头。本申请实施例中对温度集中的探头的具体结构不做过多赘述。具体的，形成的图案可以根据金属层具体需要的图案去设定。本申请实施例中，对图案的具体形状不做过多赘述。
[0070] 本申请实施例中，利用聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯中一种或两种与有机聚合物形成的光阻剂，因为聚邻苯二甲酰胺和丙二醇甲醚醋酸酯材料本身具有良好的光和热的敏感性，使得所述的光阻剂具有良好的光或热敏感性，从而光阻剂在受到光和热后，容易挥发，将光阻剂涂布在金属层上，使得光阻剂形成光阻层后，通过温度集中的探头照射所述光阻层，经过照射的地方会挥发，未经过照射的地方会留在金属层上。因此，在光阻层上形成预设图案，通过一次性在金属层上形成图案，可以减少黄光制程工序中曝光和显影的工序，从而使得显示面板中图案化工序更加简单，使得光阻层不容易出现蚀刻不均的问题。
[0071] 请参阅图3和图4，图3为本申请实施例中提供的玻璃基板的主视图。图4为本申请实施例中提供的玻璃基板的俯视图。
[0072] 其中，玻璃基板100包括玻璃衬底10、金属层20以及光阻层30。所述玻璃衬底10具有相对设置的第一面10a以及第二面10b，所述金属层20设置在所述第一面10a，所述光阻层30设置在所述金属层20远离所述玻璃衬底100的一面，所述光阻层30上形成有图案。
[0073] 本申请实施例还提供一种显示面板，所述显示面板包括玻璃基板，所述玻璃基板采用上述图案化方法制程。本申请实施例中图案化方法与上述实施例的图案化方法一样，因此，不做过多赘述。
[0074] 以上对本申请实施例提供的一种图案化的方法、玻璃基板的制造方法及显示面板进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请。同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。
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