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また、その開示の他の観点によれば、ダイパッドと、前記ダイパッドの裏面に形成された第1ディンプルと、前記第1ディンプルの横領域の前記ダイパッドの裏面に形成された第2ディンプルとを備えたリードフレームであって、前記第1ディンプルは、一方の対向する2辺に備えられ、深さ方向に傾斜する第1傾斜側面と、他方の対向する2辺に備えられ、深さ方向に垂直に起立する側面が前記第2ディンプルによって変形されて形成された、前記第1傾斜側面と逆方向の深さ方向に傾斜する逆傾斜側面とを有する横置き台形柱形状で形成され、前記第2ディンプルは、前記第1ディンプルの逆傾斜側面と対向して配置された第2傾斜側面を有し、前記ダイパッドの表面が半導体素子搭載面であるリードフレームが提供される。
2実施形態の変形例のリードフレームを示す平面図である。
図9(b)は図9(a)のダイパッド10の裏面の様子を示す拡大断面図である。 図9(b)に示すように、第1実施形態のリードフレーム1では、前述したようにダイパッド10の裏面に設けられた第1ディンプルD1が逆傾斜側面Sxを備えている。 これにより、樹脂部50は第1ディンプルD1の逆傾斜側面Sxに沿って側壁に食い込むように充填される。
さらに、第1ディンプルD1xの横領域のダイパッド10に第2ディンプルD2が形成されている。 第2ディンプルD2は、深さ方向に傾斜した第2傾斜側面S2を備え、その第2傾斜側面S2が第1ディンプルD1xの逆傾斜側面Sxと対向して配置されている。 そして、ダイパッド10の表面が半導体素子搭載面となっている。
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