一种渐变色手机后盖PVD渐变色镀膜工艺
专利汇可以提供一种渐变色手机后盖PVD渐变色镀膜工艺专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种渐变色手机后盖PVD渐变色 镀 膜 工艺，其包括如下步骤1)对底材进行裁切加工成基材；2）在基材上用 真空 镀膜 工艺镀制第一PVD膜，并进行 喷砂 、 拉丝 或 抛光 处理；3)在第一PVD膜上涂覆漆膜；4)在漆膜上雕刻图案，雕刻深度大于漆膜厚度；5)在雕刻出来的图案上用 真空镀膜 工艺镀制第二PVD膜；6)去除漆膜；7）进行浸染加工；8）强化处理加工。本发明双色真空镀膜工艺可以得到边缘清晰度高的平面图案或凹陷的立体图案，图案 颜色 丰富，且可采用现有任意的PVD颜色，不局限于Ti、Zr靶材的颜色，提高双色真空镀膜层的多样化，保证渐变色手机后盖的外观效果，保证手机后盖的渐变色镀膜，保证美观度。，下面是一种渐变色手机后盖PVD渐变色镀膜工艺专利的具体信息内容。
1.一种渐变色手机后盖PVD渐变色镀膜工艺，其特征在于，其包括如下步骤：
1)通过对底材进行裁切加工成基材，底材为金属底材或陶瓷底材；
2）在基材上用真空镀膜工艺镀制第一PVD膜：基材的表面进行喷砂、拉丝或抛光处理；
3)在第一PVD膜上涂覆漆膜：涂覆漆膜采用电泳、喷涂、浸涂、滚涂或刷涂工艺；
4)在漆膜上雕刻图案，雕刻深度大于漆膜厚度：用镭雕机在漆膜上镭雕所述的图案，镭雕后的图案是凹陷的立体的图案；
5)在雕刻出来的图案上用真空镀膜工艺镀制第二PVD膜；
6)去除漆膜：用碱性脱漆水脱除漆膜，得到双色真空镀膜层，双色真空镀膜层的底色为第一次真空镀膜镀制，图案为第二次真空镀膜镀制；
7）进行浸染加工：用色彩油墨对图案层进行浸染，形成渐变色层，浸染温度为80-90℃；
8）强化处理加工：在渐变色层上喷淋硬化液，固化形成硬化膜，PVD渐变色镀膜工艺完成，得到渐变色手机后盖。
2.根据权利要求1所述的渐变色手机后盖PVD渐变色镀膜工艺，其特征在于：所述硬化膜的附着力百格测试≥5B，硬度≥3H。
3.根据权利要求1所述的渐变色手机后盖PVD渐变色镀膜工艺，其特征在于：步骤3）中所述漆膜固化后耐温180℃，所述漆膜材料采用丙烯酸树脂或醇酸树脂。
4.根据权利要求3所述的渐变色手机后盖PVD渐变色镀膜工艺，其特征在于：所述碱性脱漆水按以下重量份数计，所述碱性脱漆水由原料制成：乙二醇醚90-110份、甲乙酮95-115份、硅酸镁铝130-150份、水玻璃40-60份、碳酸氢钠5-15份，水90-110份。
5.根据权利要求4所述的渐变色手机后盖PVD渐变色镀膜工艺，其特征在于：所述碱性脱漆水制备方法包括如下步骤：在玻璃容器中加入水，加入乙二醇醚搅拌溶解，再依次分别加入甲乙酮、碳酸氢钠和水玻璃搅拌溶解，最后加入硅酸镁铝搅拌3-4小时。
一种渐变色手机后盖PVD渐变色镀膜工艺
技术领域
背景技术
发明内容
1)通过对底材进行裁切加工成基材，底材为金属底材或陶瓷底材；
2）在基材上用真空镀膜工艺镀制第一PVD膜：基材的表面进行喷砂、拉丝或抛光处理；
3)在第一PVD膜上涂覆漆膜：涂覆漆膜采用电泳、喷涂、浸涂、滚涂或刷涂工艺；
4)在漆膜上雕刻图案，雕刻深度大于漆膜厚度：用镭雕机在漆膜上镭雕所述的图案，镭雕后的图案是凹陷的立体的图案；
5)在雕刻出来的图案上用真空镀膜工艺镀制第二PVD膜；
6)去除漆膜：用碱性脱漆水脱除漆膜，得到双色真空镀膜层，双色真空镀膜层的底色为第一次真空镀膜镀制，图案为第二次真空镀膜镀制；
7）进行浸染加工：用色彩油墨对图案层进行浸染，形成渐变色层，浸染温度为80-90℃；
8）强化处理加工：在渐变色层上喷淋硬化液，固化形成硬化膜，PVD渐变色镀膜工艺完成，得到渐变色手机后盖。
附图说明
具体实施方式
2）在基材上用真空镀膜工艺镀制第一PVD膜：基材的表面进行喷砂、拉丝或抛光处理；
3)在第一PVD膜上涂覆漆膜：涂覆漆膜采用电泳、喷涂、浸涂、滚涂或刷涂工艺；
4)在漆膜上雕刻图案，雕刻深度大于漆膜厚度：用镭雕机在漆膜上镭雕所述的图案，镭雕后的图案是凹陷的立体的图案；
5)在雕刻出来的图案上用真空镀膜工艺镀制第二PVD膜；
6)去除漆膜：用碱性脱漆水脱除漆膜，得到双色真空镀膜层，双色真空镀膜层的底色为第一次真空镀膜镀制，图案为第二次真空镀膜镀制；
7）进行浸染加工：用色彩油墨对图案层进行浸染，形成渐变色层，浸染温度为80-90℃；
8）强化处理加工：在渐变色层上喷淋硬化液，固化形成硬化膜，PVD渐变色镀膜工艺完成，得到渐变色手机后盖。
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