技术领域
[0001] 本
发明涉及借助于
电子束对颗粒物料进行灭菌和/或消毒的设备和方法以及放入此设备中的盒。
背景技术
[0002] 颗粒物料在此处及下文中定义为尤其由谷粒和/或麦片组成的物料，从而颗粒可以呈球形、板形或棱
角形。它们还可以是
研磨颗粒。灭菌和/或消毒例如可以至少杀死大多数
微生物或至少致使其无害。尤其是，可以实现将微生物的损害降低至少一个、优选至少五个、更优选至少七个数量级。
[0003] 例如从EP1080623B1中知道了现有装置。该装置包含振动
输送机，利用
振动输送机可以将
种子分离成可透帘幕。该帘幕然后导向通过由电子
加速器产生的
电场，其例如可以对种子进行消毒。网格用于保持种子远离电子加速器的出射窗。但是，该网格没有为出射窗提供足够的保护，尤其是在由精细颗粒制成物料的情况下。另外，一些电子从种子流散射出去并因此不能发挥它们的实际作用。而且，网格难以清洁并且容易被电子束破坏，这是为何其仅具有较短的使用寿命的原因。
[0004] 从US5,801,387已知另一现有装置。在根据那个发明的装置中，颗粒形物料利用振动输送机被配量至
水平气流中并且接下来暴露至电子束。然后使用
真空泵和
过滤器来将物料分类。
[0005] DE102012209434A1公开了借助振动输送机和转动刷辊来分离和旋转自由流动产品的装置。然后颗粒自由地下落经过电场。但这个具有旋转刷辊的结构是结构复杂的且易失效。此外，振动输送机和刷辊不总是实现符合要求的分离。而且，刷辊不利于卫生，因为它仅能笨重地清扫装置操作期间累积的灰尘。还可能发生的是，在产品具有宽粒径分布的情况下，不是所有颗粒都
接触刷辊或者颗粒以不同方式进行加速。此外，刷辊会引起物料紊乱，从而引起单个颗粒撞击电子源并且污染或者甚至损坏它。
[0006] 在EP0513135B1中公开了一种装置，利用该装置，该种子借助于旋转
阀被引入垂直溜槽，种子在垂直溜槽中竖直下落时经受电子束。但是，即使这些旋转阀也不能总是保持符合要求的分离。此外，在真空中实施处理，这使得装置在设施方面昂贵并且容易发生故障，并且还导致高操作成本。此外，物料的速度由上旋转阀与电子源的距离决定并且不能改变。
[0007] 从EP0705531B1中知道了另一装置，其借助于非
指定配量装置将种子引入
处理室，在该处理室中种子竖直下落经过电子束。但是，即使采用这种方法，也无法获得足够的分离。
[0008] US6,486,481B1中公开的装置包含振动
台面，
聚合物物料在其上移动并暴露至电子束。但是，这并非为了消毒或灭菌目的而执行，而是用于降低聚合物物料的分子量。
发明内容
[0009] 因此，本发明的目的是克服
现有技术已知的缺点。尤其是，以高吞吐量并且尽可能简单的方式提供有效且可靠的对颗粒物料进行灭菌和/或消毒的设备和方法。尤其是，应当尽可能有效且可靠地移除电子束产生的臭
氧。此外，应当优选地保护设备(尤其是电子源的出射窗)免受种子的损坏并且易于清洁，并且用于分离的机构也应当容易清洁。
[0010] 这些和其它目的通过根据本发明用于对颗粒物料进行灭菌和/或消毒的设备来解决。该设备包括第一振动面、用于产生电子束的至少一个电子源和在第一振动面下游的处理区。在此及在下文中，术语“下游”和“上游”指的是在设备按预期运行时颗粒物料的流向。因此，当设备正确运行时，在物料先通过第二单元再通过第一单元时，第一单元被称为第二单元的下游。类似地，当设备按预期运行时，如果物料在经过第二单元之前经过第一单元，则第一单元称为第二单元的上游。
[0011] 第一振动面优选地水平取向。在此及在下文中，(大致)水平取向通常理解成表示在设备按预期安装时(大致)水平定向。设备可以被激励振动以促进并分离物料。在处理区中可借助于电子束对物料进行灭菌和/或消毒。
[0012] 根据本发明，第一振动面具有大量槽道，物料可以在其中被输送并分离。原则上，槽道可以在垂直于流向的截面中具有任何轮廓，条件是物料可以在其中被输送并分离。例如，它们可以具有弓形或折角轮廓。槽的轮廓可具有直的中间部段和从中间部段向上倾斜延伸的两个侧向部段。相邻槽道的侧向部段可以在边缘交汇。
[0013] 优选地至少一个槽道、优选地所有槽道大致平行于物料的流向延伸。至少一个槽道、优选所有槽道的宽度可从0.1毫米变至40毫米，优选为0.5毫米至30毫米，更优选为1毫米至20毫米。
[0014] 颗粒物料的颗粒可以在每个槽道中被输送并分离。通过将颗粒物料的颗粒划分到多个槽道中进行分离。
[0015] 优选地是，第一振动面被设计和布置成使得其可以被激励振动和/或可能的下游偏转面和/或可能的下游滑动面被设计和布置成使得可以对自由下落的物料进行灭菌和/或消毒。如果单个物料颗粒的轨迹仅由它们的速度、作用在它们上的重
力、(如果适用)包围物料的过程气体决定，则物料被称为“自由下落”。过程气体例如可以是空气。但是，还可以想到所用的过程气体是防止臭氧形成的气体如氮气。
[0016] 电子束不仅可以用于处理物料本身，还可以处理包围物料的任何过程气体和/或随物料流动的其它颗粒、比如灰尘。
[0017] 设备有利地在第一振动面的下游且在处理区的上游具有倾斜滑动面，其被设计和布置成使得物料可以在其上朝向处理区滑动。归因于下滑导致的加速，物料颗粒可被进一步分离。另外，物料可以以预定的方式尤其以预定速度和轨迹送入处理区。尤其是，通过选择滑道的长度和倾斜角度，可以在离开滑道之后调节物料的速度。
[0018] 滑动面优选具有至少一个槽道并且优选具有大量槽道，该通道被设计和布置成使得物料可以在其中滑动并分离。这允许进一步限定物料颗粒的速度和轨迹。特别有利的，滑动面的通道以以下方式适配于第一振动面的通道，即到达滑动面的颗粒从第一振动面的同一槽道到达滑动面的同一槽道。这可防止比如例如通过DE102012209434A1公开的刷辊可发生的颗粒的
湍流运动。在一些应用中，还可以实现防止物料旋转的优点。
[0019] 已经发现，滑动面相对于水平线以45°至85°范围内的角度向下倾斜是有利的，该角度优选为55°至75°，更优选为60°至70°(如果正确安装该设备)。对于许多物料，该区域内的角度足够大以在滑动面的容许长度上充分加速颗粒，并且足够小以防止它们飞离滑动面。
[0020] 原则上，滑动面的至少一个槽道在垂直于流向的截面中可以具有任意轮廓，条件是物料可以在其中滑动并且分离。例如，它可以具有弓形或折角轮廓。优选地，滑动面的至少一个槽道大致平行于物料流向延伸。滑动面的至少一个通道的宽度可以在40毫米至3300毫米范围内，优选200毫米至600毫米，更优选230毫米至400毫米。滑动面的通道轮廓可具有直的中间部段和从中间部段向上倾斜延伸的两个侧向部段。如果存在若干槽道，那么相邻槽道的侧向部段可在一个边缘处交汇。
[0021] 对于许多物料，已经证实当设备在第一振动面的下游及处理区的上游(尤其在滑动面的上游)具有偏转面是有用的，偏转面被设计和布置成使得物料可以在其上被偏转和/或从第一振动面滑至滑动面和/或朝向处理区滑动。尤其是，如果存在如上所述的滑动面，那么物料颗粒可以被逐渐且可控地送到滑动面的斜坡。如果滑动面、尤其是其至少一个槽道匹配物料和第一振动面以使颗粒沿抛物线路径(在其上，物料仅因重力作用下落)被导向，则是特别有利的。
[0022] 通过特殊的优点，偏转面还具有至少一个槽道、优选大量槽道，槽道被设计和布置成使得物料可以在其中滑动。这在此还具有使物料颗粒可以被可控的导向并且不会发生湍流以及尤其是可以防止颗粒旋转的效果。
[0023] 偏转面的至少一个槽道原则上在垂直于流向的截面中可以具有任意轮廓，条件是物料可以在其中滑动。例如，其可具有弓形或折角轮廓。偏转面的通道轮廓可具有直的中间部段和从中间部段向上倾斜延伸的两个侧向部段。如果存在若干个槽道，相邻的槽道的侧向部段可在一个边缘处交汇。优选地，偏转面的至少一个槽道大致平行于物料的流向延伸。偏转面的至少一个槽道的宽度可以在0.1毫米至40毫米范围内，优选0.5毫米至30毫米，更优选1毫米至20毫米。
[0024] 通过独特的优点，偏转面的槽道以如下方式适配于第一振动面的槽道，即到达偏转面的颗粒自第一振动面的同一槽道到达偏转面的同一槽道。另一独特的优点在于滑动面的槽道以如下方式适配于偏转面的槽道，即来自偏转面的同一槽道的颗粒到达滑动面的同一槽道。
[0025] 但是，在上述
实施例的变型中，如果滑动面和/或偏转面没有槽道或者如果这样的滑动面和/或偏转面根本不存在，那么对于某些物料而言也可以是有用的。例如，物料也可以从第一振动面直接导向至滑动面，或者它可以从偏转面直接导向至处理区。例如，如果物料由麦片组成，则偏转面会减速并且积聚麦片。为了防止这样，在麦片的情况下省去偏转面可能是有利的。例如，如果物料竖直落下经过处理区，则可以省略偏转面和滑动面。
[0026] 在第一振动面的上游，设备可具有大致平坦且优选大致水平取向的第二振动面，其可被激励振动。借助这样的第二振动面，物料的吞吐量可以是可控的并且预分离已经可以进行。
[0027] 在设备运行期间，激励第二振动面至第二振幅的振动是有用的，第二振幅小于将下游的第一振动表面激励振动的第一振幅。通过此种方式，物料的速度增加并且实现进一步分离。
[0028] (多个)振动表面和/或偏转面和/或滑动面例如可以由金属制成。
[0029] 至少一个电子源本身是已知的。设备可包括一个或多个电子源。如果存在若干电子源，则它们可以相对于物料的流向彼此相对布置或一个接一个地布置。
[0030] 此外，还可以想到在本发明的范围内，设备具有若干第一振动面和/或若干处理区。通过此种方式，可以实现甚至更有效的灭菌和/或消毒。或者，可以将物料多次导向通过同一处理区。
[0031] 在第二个独立方面，本发明涉及对颗粒物料进行灭菌和/或消毒的设备，其还包括用于产生电子束的至少一个电子源和处理区，在处理区中尤其自由下落的物料可借助电子束进行灭菌和/或消毒。根据第二方面，设备在处理区的区域中具有物料通道，在处理区中物料可借助于电子束进行灭菌和/或消毒。该设备还具有
流体可以流经的至少一个副通道，副通道在电子源和物料通道之间至少部分地延伸，并与物料通道流体隔离。
[0032] 流经副通道的流体可以用于冷却电子源并且尤其是电子源的出射窗。附加地或替代地，流体可以用于移除由电子束产生的臭氧。这种冷却和从副通道排出臭氧都不会对物料通道中流体流动产生任何影响。流体隔离被理解为表示没有来自副通道的流体可以进入物料通道，也没有物料和包围物料的任何过程气体可以从物料通道进入副通道。这防止物料对电子源尤其是电子源出射窗的损坏或污染。
[0033] 流体可以是液体或气体，比如空气。这例如克服了在EP1080623B1中描述的网格的缺点。
[0034] 有利的是在电子源和物料通道之间具有保护箔，其对电子束是至少部分可透的。这个保护箔优选地分离物料通道和副通道。副通道还优选地至少部分地在电子源和保护箔之间；因此其中的流体在设备运行期间暴露于电子束。保护箔优选地由金属，比如
钛、
铝、金、
银或
铜组成。金属也可以是
合金。在一些应用中，保护箔可以是涂覆的。或者，还可以想到在本发明的范围内，保护箔由塑料组成。
[0035] 特别有利地，设备包括用于保持盒的盒架，其中盒至少部分地界定物料通道和至少一个副通道，并且包括用于保持保护箔的箔
支架。电子源的另一优点是它可通过移动远离盒的方式相对于盒架移动，尤其是枢转和/或移位。这简化了接近盒并由此也接近保护箔。保护箔因此可以在如果已经被物料污染或损坏的情况下更容易地更换。保护箔可以可拆卸地从箔支架上取下或可以取下。
[0036] 还证明有用的是如果设备包含用于吸走包围物料的任何过程气体的抽吸装置。有利地，用于吸走过程气体的抽吸装置位于处理区的下游，优选地与处理区间隔50毫米至250毫米。这样，可以用过程气体尤其有效地移除臭氧，过程气体在经过处理区时由于电子束的冲击已经形成。
[0037] 但还可以想到的且在本发明范围内的是，一些物料在与物料流向相反的方向的过程气体中流经处理区，并且用于吸走过程气体的
抽取装置布置在处理区的上游。这对于受包围物料的过程气体影响较小的较重颗粒尤其有利。这确保了没有未处理的过程气体可透入处理区下游的清洁区，在处理区中物料应在设备正确操作期间进行灭菌和/或消毒。由此防止再污染。
[0038] 在处理区的下游，该设备还可包括分选装置，其包括测量单元和排出单元。测量单元和排出单元被设计成使得基于由测量单元测得的单个颗粒的至少一个性质，物料的单个颗粒可以借助于排出单元被排出。这样的分选装置本身是已知的，例如从WO2006/010873A1可知。一方面，它们可用于除去无法满足规定性质的单个颗粒。例如分选可基于超出指定容差范围的测量尺寸或
颜色。另一方面，测量单元可被设计成使得可以检测单个颗粒的重叠。这样的重叠可表示不是所有的颗粒在经过处理区时都充分暴露至电子束。为安全起见，然后可借助排出单元将这些重叠的颗粒排出。
[0039] 如果设备具有布置在处理区下游的用于将清洁气体吹到物料上的至少一个出气口，则也是有利的。这样，可以除去剩余的臭氧。或者，清洁气体也可以被引入处理区的上游，尤其在较重颗粒的情况下，其中轨迹受到清洁气流的影响较小。
[0040] 本发明的另一方面涉及一种用于放入用于对颗粒物料进行灭菌和/或消毒的设备的盒架的盒，该设备包含产生电子束以至少一个电子源。尤其是，它可以是如上所述的设备。盒包含限定面，其用于至少部分地界定设备的物料通道和至少一个副通道以及用于容纳保护箔的箔支架，保护箔对于电子束是至少部分可透的。盒可以此种方式放入盒架中，即在处理区的区域中，设备具有物料通道，物料可以在其中借助于电子束进行灭菌和/或消毒，并且因为设备具有流体可以流经的至少一个副通道，该副通道在电子源和物料通道之间至少部分的延伸并且与物料通道流体隔离。于是，盒的边界面至少部分地限定物料通道和至少一个副通道。
[0041] 本发明还包括具有如上所述盒架和放入其中的盒的如上所述的设备。
[0042] 在另一方面，本发明还涉及用于对颗粒物料进行灭菌和/或消毒的方法。尤其可以用如上所述的设备实施该方法。它包含以下步骤：
[0043] a)借助优选大致水平取向的第一振动面输送和分离物料，第一振动面被激励振动并具有多个槽道，物料在该槽道中被运送并借助槽道被分离，
[0044] b)产生电子束，
[0045] c)借助处理区中的电子束对物料、尤其是自由下落的物料进行灭菌和/或消毒。
[0046] 通过这些方法，可得到上文已经提及的优势。
[0047] 用于对颗粒物料进行灭菌和/或消毒的独立工艺包括以下步骤：
[0048] b)产生电子束，
[0049] c)借助处理区中的电子束对尤其自由下落的物料进行灭菌和/或消毒。
[0050] 物料在处理区的区域中流过物料通道，物料借助于电子束在其物料通道中进行灭菌和/或消毒。根据该独立方面，流体流过至少一个副通道，副通道在电子源和物料通道之间至少部分地延伸并且与物料通道流体隔离。
[0051] 如已经提到，用可以是液体或气体的这样流体可消散由电子束产生的臭氧。替代地或附加地，流体还可被用于冷却电子源，尤其是出射窗。流体可以流经与物料流向平行或相对的副通道。所用的流体可以是防止臭氧形成的气体，比如氮气。流经副通道的流体可以与物料通道中流动的过程气体相同或不同。但是，流体流动的其它方向也是可以想到的并且在本发明的范围内。
[0052] 对于许多物料，尤其是对于大量香料，已经证明有利的是如果物料以1米/秒至5米/秒、优选2米/秒至4米/秒、更优选2米/秒至3米/秒的范围内的速度移动经过处理区。物料速度由香料速度确定。例如可以通过上游滑动面的长度和倾斜角度来调节速度。物料速度越高，可获得的吞吐量越大。在自由下落中，速度与吞吐量无关，使得在100千克/小时至1000千克/小时范围内的吞吐量可以以相同的速度实现。吞吐量仅取决于(多个)振动面的振动和任一转向和滑动面的尺寸和定向。而且，随着物料速度的增加，颗粒撞击电子源或保护箔的可能性减小。另一方面，速度一定不能太高，以使物料在电子束中保留足够长时间来进行灭菌和/或消毒。
[0053] 电子束的电子应该优选地具有在80千电子伏特至300千电子伏特范围内的
能量，该能量优选140千电子伏特至280千电子伏特，特别优选180千电子伏特至260千电子伏特。较低电子能不会产生充分的灭菌和/或消毒。较高电子能不能实现显著更高程度的灭菌和/或消毒。
[0054] 有利地，物料暴露至电子束的处理时间在5毫秒至25毫秒范围内。为了充分进行灭菌和/或消毒，需要某个最短处理时间。太长的处理时间已经示出不会详述提高灭菌和/或消毒并且还会降低吞吐量。
[0055] 另一优点在于电子束将物料暴露至1千
戈瑞至45千戈瑞、优选8千戈瑞至30千戈瑞、特别优选10千戈瑞至16千戈瑞的范围内的
辐射剂量。
[0056] 处理区中的
电流密度优选在1015s-1·cm-2至2.77×1015s-1·cm-2范围内。
[0057] 已经显示，如果在灭菌和/或消毒之后抽出包围产品的过程气体，则是有利的。这允许在灭菌和/或消毒期间移除臭氧。
[0058] 产品可以是粮食，比如谷物如大豆、早餐麦片、零食、坚果如干椰子、杏仁、花生酱、可可豆、巧克力、巧克力液、巧克力粉、巧克力片、可可制品、豆类、咖啡、种子如南瓜子、香料(如姜黄，特别是切片)、茶混合物、干果、开心果、干蛋白制品、
烘焙制品、糖、
马铃薯制品、面食、婴儿食品、干蛋制品、大豆制品如黄豆、
增稠剂、
酵母、酵母菌、明胶或酶。
[0059] 或者，产品还可以是
宠物食品，比如丸粒、
反刍动物饲料、
家禽饲料、
水生动物(特别是鱼类)或
家畜饲料、或复合饲料。
[0060] 但也可以想到，在本发明的范围内，食品例如可以是塑料比如PET，例如以薄片或丸粒的形式。
[0061] 设备可具有在处理区下游的清洁区，在适当的情况下，在抽吸装置和/或分选装置和/或出气口的下游，在设备正常运行期间，物料在其中进行灭菌和/或消毒。
[0062] 有时，在电子源中会发生放电，这会损坏电子源。为了抵消这一影响，电子源可以形成使得在故障发生时自行关闭。但是，结果物料既不进行消毒也不进行灭菌，因此到达清洁区，甚至可能未被注意到。
[0063] 为了防止这样，该设备可以包含至少一个辐射
传感器，其可以用于检测电子束的强度。此种用于电子束的辐射传感器例如由US6,657,212或US7,592,613中已知。如果测得的强度下降到预定
阈值以下(这也可以表示
电击穿)，可以停止供给物料。替代地或另外地，如果需要，可在后一阶段排出物料以进行灭菌和/或消毒。为此，设备可具有附加的出口以用于在后一阶段对物料进行灭菌和/或消毒。如果排料使得既未灭菌和/或又未消毒的物料到达清洁区，则不必停止物料供给。
[0064] 一旦在停止物料供给和/或停止排出之后再次清洁该清洁区，可以再次将其它物料送入设备或可以停止排出。
附图说明
[0065] 以下，用某些实施例和若干附图来更详细说明本发明，其中：
[0066] 图1是根据本发明的设备的示意性侧视图；
[0067] 图2是根据本发明的设备的处理区的侧视图；
[0068] 图3是根据本发明的设备的盒的立体截面详图；
[0069] 图4是根据本发明的设备的处理区的立体图。
具体实施方式
[0070] 如图1所示的设备10旨在用于对颗粒物料(如香料、芝麻、杏仁或去皮的开心果)进行灭菌和/或消毒。它包括配量装置13，利用该配量装置可将物料投配到第二振动面14上。第二振动面14水平取向并且是平坦的(如果按预期安装好设备10)。它可以
频率f2和与水平面成角度α的振幅A2(如果正确安装好设备10)被激励振动。借助于第二振动面14，可以控制物料的吞吐量并且还可进行预分离。
[0071] 在第二振动面14的下游，设备10包含水平取向的第一振动面11，其可以频率f1和与水平面成角度β的振幅A】被激励振动。这允许进一步向下游输送并分离物料。第一振动面11的第一振幅f1大于第二振动面14的第二振幅f2，这有利于进一步分离。相比于第一振动面14，第一振动面11包含很多槽道12，物料可在其中输送并分离。这些槽道12在图1中作为插图被示出，其中示出了在垂直于流向的截面中的第一振动面11。槽道12的轮廓具有宽度为7.5毫米的直的中间部分和从中间部分以45°角向上倾斜延伸的两个侧向部分。相邻槽道
12的侧向部分在一个边缘处交汇。两个相邻的边缘间的距离为16.5毫米。
[0072] 在第一振动面11的下游，设备10具有偏转面15。偏转面被设计和布置成使得物料在其上被偏转并可以从第一振动面11滑动至下文描述的滑动面16。偏转面15还包含多个槽道17，其被设计和布置成使得物料可以在其中滑动。偏转面15及其槽道17与物料和第一振动面11被匹配成使得物料颗粒基本上沿抛物线路径朝下游被引导，物料颗粒沿该抛物线路径上也将仅由于重力作用下落。在偏转面15的上游端，在此处具有初始斜率γ。这允许导向和进一步分离物料颗粒。以另一插图示出的槽道17的轮廓也具有宽度为7.5毫米的直的中间部分和从中间部分以45°角向上倾斜延伸的两个侧向部分。相邻槽道17的侧向部分在一个边缘处交汇。两个相邻的边缘间的距离为16.5毫米。
[0073] 位于偏转面15下游的前述滑动面16相对于水平方向倾斜角度δ，该角度δ在香料的情况下有利地为60°。滑动面16还具有多个槽道18，其被设计和布置成使得物料可以在其中滑动。以另一插图示出的槽道18的轮廓还具有宽度为7.5毫米的直的中间部分和从中间部分以45°角向上倾斜延伸的两个侧向部分。相邻槽道17的侧向部分在一个边缘处交汇。两个相邻的边缘间的距离为16.5毫米。
[0074] 在更下游，设备10包括处理区19，在该处理区处借助于由两个相对的电子源20产生的电子束对自由下落的物料进行灭菌和/或消毒。
[0075] 设备10还包含抽吸装置25，利用抽吸装置可以从处理区19的下游吸走包围物料的过程气体。
[0076] 使用设备10执行对颗粒物料进行灭菌和/或消毒的以下步骤：
[0077] 借助于第二振动面14，控制物料的吞吐量并进行预分离。在一个步骤a)中，物料在第一振动面11的槽道12中被输送并分离。借助于电子源20，电子束在步骤b)中产生。在步骤c)中，借助于处理区19中的电子束，于是对自由下落的物料灭菌和/或消毒。
[0078] 在香料的情况下，物料有利地以2.5米/秒的速度通过处理区19移动。可以通过滑动面17的长度和倾斜角度来调节该速度。电子束的电子具有在80千电子伏特(keV)至300千电子伏特范围内的能量，例如250千电子伏特。在处理区19中，电子束具有在1015s-1·cm-2至2.77×1015s-1·cm-2范围内的平均电流密度。物料暴露于电子束的处理时间在5毫秒至25毫秒范围内，例如15毫秒。这使物料暴露在1千戈瑞(kGy)至45千戈瑞范围内(例如可以是2千戈瑞)的
辐射剂量。在处理区19中进行灭菌和/或消毒之后，借助于抽吸装置25以优选的抽吸速度吸走包围产品的过程气体，优选抽吸速度为在灭菌和/或消毒期间产品的速度的1至
1.5倍。
[0079] 图2示出处理区19的放大视图。在处理区19的区域中，设备10具有布置在电子源20的出射窗32之间的盒24，该盒24的部分更详细地示出在图3中。盒24被放入在盒架37中。盒24包含分别用于一个钛保护箔23的两个箔支架35，钛保护箔对于电子束是部分可透的。盒
24包含若干边界面38，其与保护箔23一起界定物料通道21，借助于电子束可在物料通道中对物料进行灭菌和/或消毒。此外，在处理区19的区域内，设备10包含两个副通道22。在图2示出的操作
位置，这些是由盒24的边界面38、保护箔23和电子源20的出射窗32(图3未示出)界定的，并且因此在物料通道21和电子源20之间延伸。物料通道21尤其通过保护箔23与副通道23流体隔离。
[0080] 可通过进入开口30引入空气，空气可流过平行于物料流向的副通道23。在下游，空气可再次从出口开口31逸出。一方面，气流能够移除由电子束产生的臭氧，另一方面，其能够冷却电子源20尤其是它们的出射窗32。
[0081] 图3示出盒24的又一放大剖视立体图，其中可看到物料通道21、两个副通道22和两个保护箔23。物料通道21通过两个保护箔23与副通道22流体隔离。保护箔23借助于对应的夹持件33被保持，夹持件形成箔支架35的一部分。在盒24背离物料通道21的每侧上形成凹槽34，其在设备10的操作位置通过电子源10的出射窗32被关闭，并且电子束可以穿过。
[0082] 图4示出具有电子源20和盒24的处理区19的一部分。在设备10安装好并连接至物料通道21时，在此未示出的滑动面17的下游端穿过开口36。电子源20布置成使得它们可以相对于盒架37旋转，可以移动远离盒24。这样，尤其是如果保护箔23变脏或损坏的话，则容易接近盒24。保护箔23能可拆卸地附接至箔支架35。
