對稱電漿處理腔室
阅读：23发布：2021-06-07
专利汇可以提供對稱電漿處理腔室专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本發明提供一種對稱電漿處理腔室。本發明實施例提供允許極其對稱的電、熱和氣體傳導通過腔室的腔室設計。藉由提供這種對稱，形成在腔室內的電漿自然地在設置在腔室的處理區域中的 基板 的表面上具有改進的均勻性。此外，其他腔室的附加情況（諸如提供操縱上下電極之間以及在氣體入口和被處理的基板之間的間隙的能 力 ）相較於習知的系統允許對電漿處理和均勻性更好的控制。，下面是對稱電漿處理腔室专利的具体信息内容。
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