Bipyridine compound, transition metal complex, and method for producing conjugated aromatic compound using the complex

本発明は、ビピリジン化合物、遷移金属錯体及び該錯体を用いる共役芳香族化合物の製造方法に関する。

ビピリジン化合物は種々の遷移金属に配位し錯体を形成し、その錯体が種々の有機反応の触媒として作用することが知られている。 ビピリジン化合物又はその類縁体が錯形成する遷移金属の例としては、コバルト、ニッケル、銅、ロジウム、パラジウム、イリジウム、白金が知られている。 錯体を触媒として利用できる有機反応としては、脱ハロゲンカップリングやクロスカップリングが知られている（例えば、非特許文献１参照）。
しかしながら前記の錯体の触媒活性は低い場合があり、中でも特に脱ハロゲンカップリングにおいて、高活性な触媒活性を発現する配位子の開発が強く望まれていた。
Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１９９２，２５，１２１４−１２２３

かかる状況において、本発明者らは、有用な配位子を開発すべく鋭意検討したところ、置換基を有するビピリジン化合物が良好な結果を与えることを見出し、本発明に至った。

本発明は、
＜１＞：式（１）

^１ 、Ｒ

^２及びＲ

^３は独立して、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数１〜５のアルコキシ基又は置換されていてもよい炭素数６〜１０のアリール基を表わし、Ｒ

^４ 、Ｒ

^５ 、Ｒ

^６ 、Ｒ

^７及びＲ

^８は独立して、水素原子又は置換されていてもよい炭素数１〜３のアルキル基を表わす。）

で示されるビピリジン化合物（以下、ビピリジン化合物（１）と略記することもある）；

＜２＞：Ｒ

^１ 、Ｒ

^２及びＲ

^３が独立して、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、４−メチルフェニル基、メトキシ基又はエトキシ基を表わす＜１＞に記載のビピリジン化合物；

＜３＞：Ｒ

^１ 、Ｒ

^２及びＲ

^３がメチル基である＜１＞に記載のビピリジン化合物；

＜４＞：Ｒ

^１がメチル基であり、Ｒ

^２及びＲ

^３がフェニル基である＜１＞に記載のビピリジン化合物；

＜５＞：Ｒ

^１及びＲ

^２がメチル基であり、Ｒ

^３がフェニル基である＜１＞に記載のビピリジン化合物；

＜６＞：Ｒ

^１及びＲ

^２がメチル基であり、Ｒ

^３がシクロヘキシル基である＜１＞に記載のビピリジン化合物；

＜７＞：Ｒ

^１及びＲ

^２がメチル基であり、Ｒ

^３がｔｅｒｔ−ブチル基である＜１＞に記載のビピリジン化合物；

＜８＞：Ｒ

^１ 、Ｒ

^２及びＲ

^３がフェニル基である＜１＞に記載のビピリジン化合物；

＜９＞：Ｒ

^４ 、Ｒ

^５ 、Ｒ

^６ 、Ｒ

^７及びＲ

^８が水素原子である＜１＞〜＜８＞のいずれかに記載のビピリジン化合物；

＜１０＞：式（１）

（式中、Ｒ

^１ 、Ｒ

^２及びＲ

^３は独立して、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数１〜５のアルコキシ基又は置換されていてもよい炭素数６〜１０のアリール基を表わし、Ｒ

^４ 、Ｒ

^５ 、Ｒ

^６ 、Ｒ

^７及びＲ

^８は独立して、水素原子又は置換されていてもよい炭素数１〜３のアルキル基を表わす。）

で示されるビピリジン化合物と、第９族、第１０族又は第１１族遷移金属化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；

＜１１＞：式（１）で示されるビピリジン化合物と第１０族遷移金属化合物とを接触させて得られる＜１０＞に記載の遷移金属錯体；

＜１２＞：第１０族遷移金属化合物が、ニッケル化合物である＜１１＞に記載の遷移金属錯体；

＜１３＞：Ｒ

^１ 、Ｒ

^２及びＲ

^３が独立して、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、４−メチルフェニル基、メトキシ基又はエトキシ基を表わす＜１０＞〜＜１２＞のいずれかに記載の遷移金属錯体；

＜１４＞：Ｒ

^１ 、Ｒ

^２及びＲ

^３がメチル基である＜１０＞〜＜１２＞のいずれかに記載の遷移金属錯体；

＜１５＞：Ｒ

^１がメチル基であり、Ｒ

^２及びＲ

^３がフェニル基である＜１０＞〜＜１２＞のいずれかに記載の遷移金属錯体；

＜１６＞：Ｒ

^１及びＲ

^２がメチル基であり、Ｒ

^３がフェニル基である＜１０＞〜＜１２＞のいずれかに記載の遷移金属錯体；

＜１７＞：Ｒ

^１及びＲ

^２がメチル基であり、Ｒ

^３がシクロヘキシル基である＜１０＞〜＜１２＞のいずれかに記載の遷移金属錯体；

＜１８＞：Ｒ

^１及びＲ

^２がメチル基であり、Ｒ

^３がｔｅｒｔ−ブチル基である＜１０＞〜＜１２＞のいずれかに記載の遷移金属錯体；

＜１９＞：Ｒ

^１ 、Ｒ

^２及びＲ

^３がフェニル基である＜１０＞〜＜１２＞のいずれかに記載の遷移金属錯体；

＜２０＞：Ｒ

^４ 、Ｒ

^５ 、Ｒ

^６ 、Ｒ

^７及びＲ

^８が水素原子である＜１０＞〜＜１９＞のいずれかに記載の遷移金属錯体；

＜２１＞：式（２）

（式中、Ｒ

^４ 、Ｒ

^５及びＲ

^６は独立して、水素原子又は置換されていてもよい炭素数１〜３のアルキル基を表わし、Ｘ

^１はハロゲン原子を表わす。）

で示されるピリジン化合物と式（３）

（式中、Ｒ

^１ 、Ｒ

^２及びＲ

^３は独立して、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数１〜５のアルコキシ基又は置換されていてもよい炭素数６〜１０のアリール基を表わし、Ｒ

^７及びＲ

^８は独立して、水素原子又は置換されていてもよい炭素数１〜３のアルキル基を表わし、Ｘ

^２は、ハロゲン原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基又はメタンスルホニルオキシ基を表わす。）

で示されるピリジン化合物とを、パラジウム触媒の存在下に反応させることを特徴とする式（１）

（式中、Ｒ

^１ 、Ｒ

^２ 、Ｒ

^３ 、Ｒ

^４ 、Ｒ

^５ 、Ｒ

^６ 、Ｒ

^７及びＲ

^８は上記と同一の意味を表わす。）

で示されるビピリジン化合物の製造方法；

＜２２＞：式（１）

（式中、Ｒ

^１ 、Ｒ

^２及びＲ

^３は独立して、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数１〜５のアルコキシ基又は置換されていてもよい炭素数６〜１０のアリール基を表わし、Ｒ

^４ 、Ｒ

^５ 、Ｒ

^６ 、Ｒ

^７及びＲ

^８は独立して、水素原子又は置換されていてもよい炭素数１〜３のアルキル基を表わす。）

で示されるビピリジン化合物と、第９族、第１０族又は第１１族遷移金属化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体の存在下に、１個又は２個の脱離基が芳香環に結合している芳香族化合物（Ａ）と、これと同一の構造を有する芳香族化合物（Ａ）又は前記芳香族化合物（Ａ）とは構造的に異なる１個又は２個の脱離基が芳香環に結合している芳香族化合物（Ｂ）とを反応させることを特徴とする共役芳香族化合物の製造方法；

＜２３＞：芳香族化合物（Ａ）及び芳香族化合物（Ｂ）の芳香環が独立して、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、フルオレン環、アントラセン環、フェナントレン環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、イソキノリン環又はキノキサリン環であり、且つ、該芳香環が、少なくとも１つの反応に関与しない基で置換されていてもよい＜２２＞に記載の共役芳香族化合物の製造方法；

＜２４＞：遷移金属錯体が、式（１）で示されるビピリジン化合物と第１０族遷移金属化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体である＜２２＞又は＜２３＞に記載の共役芳香族化合物の製造方法；

＜２５＞：第１０族遷移金属化合物が、ニッケル化合物である＜２４＞に記載の共役芳香族化合物の製造方法；

＜２６＞：芳香族化合物（Ａ）と、これと同一の構造を有する芳香族化合物（Ａ）とを反応させる＜２２＞〜＜２５＞のいずれかに記載の共役芳香族化合物の製造方法；

＜２７＞：芳香族化合物（Ａ）が、式（４）：

（式中、Ａｒ

^１はｎ価の芳香族基を表わし、前記芳香族基を構成する芳香環は、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、フルオレン環、アントラセン環、フェナントレン環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、イソキノリン環又はキノキサリン環であり、且つ、少なくとも１つの反応に関与しない基で置換されていてもよく、Ｘ

^３は脱離基を表わし、ｎは１又は２を表わす。ｎが２のとき、Ｘ

^３は同一であってもよいし、異なっていてもよい。）

で示される芳香族化合物である＜２６＞に記載の共役芳香族化合物の製造方法；

＜２８＞：芳香族化合物（Ａ）が、式（５）：

（式中、Ａ

^１は、１つもしくは２つの炭化水素基で置換され、該炭化水素基の炭素数の合計が３〜２０であるアミノ基又は炭素数３〜２０のアルコキシ基を表わす。ここで、前記炭化水素基及びアルコキシ基は、フッ素原子、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数２〜２０のアシル基及びシアノ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの基で置換されていてもよい。

Ｒ

^９は、水素原子、フッ素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数２〜２０のアシル基又はシアノ基を表わし、前記炭素数１〜２０のアルキル基、前記炭素数１〜２０のアルコキシ基、前記炭素数６〜２０のアリール基、前記炭素数６〜２０のアリールオキシ基及び前記炭素数２〜２０のアシル基は、フッ素原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基及び炭素数６〜２０のアリールオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい。 Ｒ

^９が複数の場合、Ｒ

^９は同一の基であってもよいし、異なる基であってもよい。 また、隣接する２つのＲ

^９が結合して環を形成していてもよい。 Ｘ

^４は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表わす。 ｍは１又は２を表わし、ｋは４−ｍを表わす。 ）

で示される芳香族化合物である＜２６＞に記載の共役芳香族化合物の製造方法；

＜２９＞：芳香族化合物が、式（６）：

（式中、Ａ

^２は、１つもしくは２つの炭素数１〜２０の炭化水素基で置換され、該炭化水素基の炭素数の合計が３〜２０であるアミノ基又は炭素数３〜２０のアルコキシ基を表わす。ここで、前記炭化水素基及びアルコキシ基は、フッ素原子、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数２〜２０のアシル基及びシアノ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの基で置換されていてもよい。

Ｒ

^１０は、フッ素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数２〜２０のアシル基又はシアノ基を表わし、前記炭素数１〜２０のアルキル基、前記炭素数１〜２０のアルコキシ基、前記炭素数６〜２０のアリール基、前記炭素数６〜２０のアリールオキシ基及び前記炭素数２〜２０のアシル基は、フッ素原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基及び炭素数６〜２０のアリールオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい。 Ｒ

^１０が複数の場合、Ｒ

^１０は同一の基であってもよいし、異なる基であっていてもよい。 また、隣接する２つのＲ

^１０が結合して環を形成していてもよい。

Ｘ

^５は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表わす。 ｊは０〜３の整数を表わす。 ）

で示される芳香族化合物である＜２６＞に記載の共役芳香族化合物の製造方法；

＜３０＞：芳香族化合物（Ａ）と、該芳香族化合物（Ａ）とは構造的に異なる芳香族化合物（Ｂ）とを反応させる＜２２＞〜＜２５＞のいずれかに記載の共役芳香族化合物の製造方法；

＜３１＞：芳香族化合物（Ａ）として、式（４）：

（式中、Ａｒ

^１ 、Ｘ

^３及びｎは、＜２７＞で定義したと同一の意味を表わす。）

で示される芳香族化合物を用い、芳香族化合物（Ｂ）として、芳香族化合物（Ａ）とは構造的に異なる式（４）で示される芳香族化合物、式（５）：

（式中、Ａ

^１ 、Ｒ

^９ 、Ｘ

^４ 、ｍ及びｋは＜２８＞で定義したと同一の意味を表わす。）

で示される芳香族化合物、式（６）：

（式中、Ａ

^２ 、Ｒ

^１０ 、Ｘ

^５及びｊは＜２９＞で定義したと同一の意味を表わす。）

で示される芳香族化合物又は式（７）：

（式中、ａ、ｂ及びｃは独立して、０又は１を表わし、ｈは５以上の整数を表わす。

Ａｒ

^２ 、Ａｒ

^３ 、Ａｒ

^４及びＡｒ

^５は独立して、２価の芳香族基を表わす。 ここで、２価の芳香族基は、下記（ａ２）〜（ｅ２）からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい。

（ａ２）フッ素原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基及び炭素数６〜２０のアリールオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基；

（ｂ２）フッ素原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基及び炭素数６〜２０のアリールオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルコキシ基；

（ｃ２）フッ素原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基及び炭素数６〜１０のアリールオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基；

（ｄ２）フッ素原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基及び炭素数６〜２０のアリールオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリールオキシ基；及び、

（ｅ２）フッ素原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基及び炭素数６〜２０のアリールオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい炭素数２〜２０のアシル基；

Ｙ

^１及びＹ

^２は独立して、単結合、−ＣＯ−、−ＳＯ

₂ −、−Ｃ（ＣＨ

₃ ）

₂ −、−Ｃ（ＣＦ

₃ ）

₂ −又はフルオレン−９，９−ジイル基を表わす。

Ｚ

^１及びＺ

^２は独立して、−Ｏ−又はＳ−を表わす。 Ｘ

^６は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表わす。 ）

で示される芳香族化合物を用いる＜３０＞に記載の共役芳香族化合物の製造方法；

＜３２＞：芳香族化合物（Ａ）として、式（５）

（式中、Ａ

^１ 、Ｒ

^９ 、Ｘ

^４ 、ｍ及びｋは＜２８＞で定義したと同一の意味を表わす。）

で示される芳香族化合物を用い、芳香族化合物（Ｂ）として、芳香族化合物（Ａ）とは構造的に異なる式（５）で示される芳香族化合物又は式（７）

（式中、ａ、ｂ、ｃ、ｈ、Ａｒ

^２ 、Ａｒ

^３ 、Ａｒ

^４ 、Ａｒ

^５ 、Ｙ

^１ 、Ｙ

^２ 、Ｚ

^１ 、Ｚ

^２及びＸ

^６は＜３１＞で定義したと同一の意味を表わす。）

で示される芳香族化合物を用いる＜３０＞に記載の共役芳香族化合物の製造方法；

＜３３＞：芳香族化合物（Ａ）として、式（６）

（式中、Ａ

^２ 、Ｒ

^１０ 、Ｘ

^５及びｊは＜２９＞で定義したと同一の意味を表わす。）

で示される芳香族化合物を用い、芳香族化合物（Ｂ）として、芳香族化合物（Ａ）とは構造的に異なる式（６）で示される芳香族化合物又は式（７）

（式中、ａ、ｂ、ｃ、ｈ、Ａｒ

^２ 、Ａｒ

^３ 、Ａｒ

^４ 、Ａｒ

^５ 、Ｙ

^１ 、Ｙ

^２ 、Ｚ

^１ 、Ｚ

^２及びＸ

^６は＜３１＞で定義したと同一の意味を表わす。）

で示される芳香族化合物を用いる＜３０＞に記載の共役芳香族化合物の製造方法；

＜３４＞：脱離基が、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメチルスルホニルオキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルホニルオキシ基又は炭素数６〜１０のアリールスルホニルオキシ基である＜２２＞〜＜３３＞のいずれかに記載の共役芳香族化合物の製造方法；等を提供するものである。

本発明によれば、新規なビピリジン化合物、それと遷移金属化合物を接触させることにより得られる遷移金属錯体、該遷移金属錯体を用いた脱ハロゲンカップリングによる共役芳香族化合物の製造方法を提供することができる。

ビピリジン化合物（１）の式中、Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３は独立して、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数１〜５のアルコキシ基又は置換されていてもよい炭素数６〜１０のアリール基を表わし、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８は独立して、水素原子又は置換されていてもよい炭素数１〜３のアルキル基を表わす。
炭素数１〜１０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−へキシル基、ｎ−ノニル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、シクロヘキシル基等の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキル基が挙げられ、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基及びシクロヘキシル基が好ましい。 かかるアルキル基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、フェニル基等が挙げられる。 置換基を有するアルキル基としては、ベンジル基等が挙げられる。

炭素数１〜５のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、２，２−ジメチルプロポキシ基等が挙げられる。 かかるアルコキシ基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、フェニル基等が挙げられる。 置換基を有するアルコキシ基としては、ベンジルオキシ基等が挙げられる。

炭素数６〜１０のアリール基としては、フェニル基、４−メチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、１−ナフチル基等が挙げられ、フェニル基が好ましい。 かかるアリール基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、前記炭素数１〜５のアルコキシ基、ジメチルアミノ基等の炭素数２〜１０のジアルキルアミノ基、トリフルオロメチル基等の炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基、アセチル基等の炭素数２〜１０のアシル基等が挙げられる。 置換基を有するアリール基としては、２−ジメチルアミノフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、４−アセチルフェニル基等が挙げられる。

炭素数１〜３のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基が挙げられる。
Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であることが好ましい。

好ましいビピリジン化合物（１）としては、
Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３が独立して、炭素数１〜１０のアルキル基であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１及びＲ ^２が独立して、炭素数１〜１０のアルキル基であり、Ｒ ^３が炭素数６〜１０のアリール基であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１が炭素数１〜１０のアルキル基であり、Ｒ ^２及びＲ ^３が独立して、炭素数６〜１０のアリール基であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３が独立して、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、４−メチルフェニル基、メトキシ基又はエトキシ基であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３がメチル基であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１及びＲ ^２がメチル基であり、Ｒ ^３がｔｅｒｔ−ブチル基であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１及びＲ ^２がメチル基であり、Ｒ ^３がシクロヘキシル基であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１及びＲ ^２がメチル基であり、Ｒ ^３がフェニル基であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１がメチル基であり、Ｒ ^２及びＲ ^３がフェニル基であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３が独立して、炭素数６〜１０のアリール基であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３がフェニル基であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３が独立して、炭素数１〜１０のアルキル基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１及びＲ ^２が独立して、炭素数１〜１０のアルキル基であり、Ｒ ^３が炭素数６〜１０のアリール基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１が炭素数１〜１０のアルキル基であり、Ｒ ^２及びＲ ^３が独立して、炭素数６〜１０のアリール基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３が独立して、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、４−メチルフェニル基、メトキシ基又はエトキシ基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３がメチル基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１及びＲ ^２がメチル基であり、Ｒ ^３がｔｅｒｔ−ブチル基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１及びＲ ^２がメチル基であり、Ｒ ^３がシクロヘキシル基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１及びＲ ^２がメチル基であり、Ｒ ^３がフェニル基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１がメチル基であり、Ｒ ^２及びＲ ^３がフェニル基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３が独立して、炭素数６〜１０のアリール基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）；
Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３がフェニル基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）；
等が挙げられる。

かかるビピリジン化合物（１）は、式（２）

^４ 、Ｒ

^５及びＲ

^６は前記と同一の意味を表わし、Ｘ

^１はハロゲン原子を表わす。）

で示されるピリジン化合物（以下、ピリジン化合物（２）と略記する。）と式（３）

（式中、Ｒ

^１ 、Ｒ

^２ 、Ｒ

^３ 、Ｒ

^７及びＲ

^８は前記と同一の意味を表わし、Ｘ

^２は、ハロゲン原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基又はメタンスルホニルオキシ基を表わす。）

で示されるピリジン化合物（以下、ピリジン化合物（３）と略記する。）とを、パラジウム触媒の存在下に反応させることにより製造することができる。

ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
ピリジン化合物（２）としては、２−ピリジルジンククロリド、２−ピリジルジンクブロミド、２−ピリジルジンクヨーダイド等が挙げられる。
ピリジン化合物（３）は、Ｊ． Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ． Ｃｈｅｍ． ，２０００，６１２，１１７−１２４に記載された方法に従って製造することができる。 具体的には、下記スキーム（Ａ）：

前記式（３'）で示されるピリジン化合物としては、２，５−ジクロロピリジン、２，５−ジブロモピリジン、２，５−ジヨードピリジン、２−クロロ−５−ブロモピリジン、２−（５−ブロモピリジル）−ｐ−トルエンスルホネート、２−（５−ブロモピリジル）−トリフルオロメタンスルホネート等が挙げられ、２，５−ジブロモピリジンが好ましい。 前記シラン化合物としては、トリメチルクロロシラン、トリエチルクロロシラン、トリプロピルクロロシラン、トリへキシルクロロシラン、トリイソプロピルクロロシラン、トリフェニルクロロシラン、ｔｅｒｔ―ブチルジメチルクロロシラン、ジメチルシクロヘキシルクロロシラン、ベンジルジメチルクロロシラン、ジメチルフェニルクロロシラン、メチルジフェニルクロロシラン、４−メチルフェニルジメチルクロロシラン、トリメトキシクロロシラン、トリエトキシクロロシラン、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート、ジメチルフェニルシリルトリフルオロメタンスルホネート、メチルジフェニルシリルトリフルオロメタンスルホネート等が挙げられる。

スキーム（Ａ）に示される２つの反応は、通常、有機溶媒の存在下に実施される。 有機溶媒の使用量は限定されない。 有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル溶媒が挙げられ、エーテル溶媒が好ましく、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル及びｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルがより好ましい。
反応温度は、それぞれ、通常、−７８〜１２０℃であり、反応時間は、それぞれ、通常、１〜９６時間である。

シラン化合物との反応の終了後、例えば、得られたピリジン化合物（３）を含む反応混合物と水とを混合し、必要に応じて水に不溶の有機溶媒を加えて、抽出処理し、得られた有機層を濃縮することにより、ピリジン化合物（３）を取り出すことができる。 取り出したピリジン化合物（３）は、カラムクロマトグラフィー、蒸留、再結晶等の通常の精製手段により、さらに精製してもよい。

ピリジン化合物（３）としては、２−ブロモ−５−トリメチルシリルピリジン、２−ブロモ−５−（ジメチルシクロヘキシルシリル）ピリジン、２−ブロモ−５−（ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリル）ピリジン、２−ブロモ−５−（ジメチルフェニルシリル）ピリジン、２−ブロモ−５−（メチルジフェニルシリル）ピリジン、２−ブロモ−５−トリフェニルシリルピリジン等が挙げられる。

ピリジン化合物（２）とピリジン化合物（３）との反応は、Ｊ． Ｏｒｇ． Ｃｈｅｍ． ，１９７７，４２，１８２１−１８２３に記載の方法に従って行なうことができる。 具体的には、下記スキーム（Ｂ）：

パラジウム触媒としては、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウムクロロホルム付加体、ビス（１，２−ビス（ジフェニルホスフィノエタン））パラジウム、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム、酢酸パラジウム、トリフルオロ酢酸パラジウム、塩化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウム、パラジウムシアニド、アリルパラジウムクロライドダイマー、クロチルパラジウムクロライドダイマー、２−メチルアリルパラジウムクロライドダイマー、パラジウムアセチルアセトナート、ジクロロ（１，５−シクロオクタジエン）パラジウム、ジクロロビス（アセトニトリル）パラジウム、ジクロロビス（ベンゾニトリル）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリス−ｏ−トリルホスフィン）パラジウム、ジクロロビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム、ジクロロ（１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン）パラジウム等が挙げられ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムが好ましい。
パラジウム触媒の使用量は、ピリジン化合物（３）１モルに対して、パラジウム金属換算で、通常、０．０００５〜０．５モルである。

必要に応じて、配位子を用いてもよく、配位子としては、ホスフィン配位子が好ましい。 具体的には、トリフェニルホスフィン、トリス（２−メチルフェニル）ホスフィン、トリス（３−メチルフェニル）ホスフィン、トリス（４−メチルフェニル）ホスフィン、トリス（ペンタフルオロフェニル）ホスフィン、トリス（４−フルオロフェニル）ホスフィン、トリス（２−メトキシフェニル）ホスフィン、トリス（３−メトキシフェニル）ホスフィン、トリス（４−メトキシフェニル）ホスフィン、トリス（２，４，６−トリメトキシフェニル）ホスフィン、トリ（３−クロロフェニル）ホスフィン、トリ（４−クロロフェニル）ホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、１，２−ジフェニルホスフィノエタン、１，３−ジフェニルホスフィノプロパン、１，４−ジフェニルホスフィノブタン、１，２−ジシクロヘキシルホスフィノエタン、１，３−ジシクロヘキシルホスフィノプロパン、１，４−ジシクロヘキシルホスフィノブタン、１，２−ジメチルホスフィノエタン、１，３−ジメチルホスフィノプロパン、１，４−ジメチルホスフィノブタン、１，２−ジエチルホスフィノエタン、１，３−ジエチルホスフィノプロパン、１，４−ジエチルホスフィノブタン、１，２−ジイソプロピルホスフィノエタン、１，３−ジイソプロピルホスフィノプロパン、１，４−ジイソプロピルホスフィノブタン、トリ−２−フリルホスフィン、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）ビフェニル、２−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）ビフェニル、２−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ−２'−メチルビフェニル、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ−２'，６'−ジメトキシ−１，１'−ビフェニル、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）−２'−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２'−メチル−ビフェニル、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）−２'，４'，６'−トリ−イソプロピル−１，１'−ビフェニル、１，１'−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、１，１'−ビス（ジ−イソプロピルホスフィノ）フェロセン等が挙げられる。
配位子の使用量は、パラジウム触媒１モルに対して、通常、１〜１０モルであり、好ましくは１〜５モルである。

ピリジン化合物（２）とピリジン化合物（３）との反応は、通常、有機溶媒の存在下に実施され、その使用量は限定されない。 有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ―ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル溶媒が挙げられ、エーテル溶媒が好ましく、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル及びｔｅｒｔ―ブチルメチルエーテルがより好ましい。

反応温度は、通常、０〜１５０℃である。 反応時間は、通常、２０分〜９６時間である。
反応終了後、例えば、反応混合物とアンモニア水とを混合し、必要に応じて水に不溶の有機溶媒を加えて、抽出処理し、得られた有機層を濃縮することにより、ビピリジン化合物（１）を取り出すことができる。 取り出したビピリジン化合物（１）は、カラムクロマトグラフィー、蒸留、再結晶等の通常の精製手段により、さらに精製してもよい。

ビピリジン化合物（１）と、第９族、第１０族又は第１１族遷移金属化合物とを接触させることにより、遷移金属錯体を製造することができる。
第９族、第１０族及び第１１族遷移金属化合物としては、コバルト化合物、ニッケル化合物、銅化合物、ロジウム化合物、パラジウム化合物、イリジウム化合物、白金化合物等が挙げられる。 なかでも、第１０族遷移金属化合物が好ましく、ニッケル化合物がより好ましい。

ニッケル化合物としては、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）；フッ化ニッケル、塩化ニッケル、臭化ニッケル、ヨウ化ニッケル等のハロゲン化ニッケル；ギ酸ニッケル、酢酸ニッケル、２−エチルヘキサン酸ニッケル、シクロブタン酸ニッケル、シュウ酸ニッケル、ステアリン酸ニッケル、ナフテン酸ニッケル、クエン酸ニッケル等のニッケルカルボン酸塩；次亜リン酸ニッケル；硫酸ニッケル；炭酸ニッケル；硝酸ニッケル；ニッケルアセチルアセトナート等が挙げられる。 かかるニッケル化合物の中には、１，２−ジメトキシエタンや２−メトキシエチルエーテル等のエーテル化合物が配位したニッケル化合物や水和物が存在するが、かかるエーテル化合物が配位したニッケル化合物や水和物を用いてもよい。
なかでも、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）、フッ化ニッケル（ＩＩ）、塩化ニッケル（ＩＩ）、臭化ニッケル（ＩＩ）、ヨウ化ニッケル（ＩＩ）、酢酸ニッケル（ＩＩ）及び硝酸ニッケル（ＩＩ）が好ましい。

第９族、第１０族又は第１１族遷移金属化合物とビピリジン化合物（１）との接触は、通常、溶媒中で、両者を混合することにより実施される。 溶媒としては、水、有機溶媒及び水と有機溶媒の混合溶媒が挙げられる。 有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ―ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のアミド溶媒；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド溶媒等が挙げられる。
接触温度は、通常、−７８〜２００℃である。

第９族、第１０族又は第１１族遷移金属化合物とビピリジン化合物（１）とを、適当な添加物（例えば還元剤など）の存在下に接触させてもよい。
遷移金属錯体は、例えば、第９族、第１０族又は第１１族遷移金属化合物とビピリジン化合物（１）とを接触させて得られる混合物を濃縮することにより、取り出すことができる。 取り出した遷移金属錯体は、再結晶等の通常の精製手段により、さらに精製してもよい。 また、得られた遷移金属錯体を含む混合物を、そのまま、後述する共役芳香族化合物の製造方法に用いてもよい。

かくして得られる遷移金属錯体としては、
Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３が独立して、炭素数１〜１０のアルキル基であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１及びＲ ^２が独立して、炭素数１〜１０のアルキル基であり、Ｒ ^３が炭素数６〜１０のアリール基であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１が炭素数１〜１０のアルキル基であり、Ｒ ^２及びＲ ^３が独立して、炭素数６〜１０のアリール基であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３が独立して、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、４−メチルフェニル基、メトキシ基又はエトキシ基であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３がメチル基であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１及びＲ ^２がメチル基であり、Ｒ ^３がｔｅｒｔ−ブチル基であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１及びＲ ^２がメチル基であり、Ｒ ^３がシクロヘキシル基であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１及びＲ ^２がメチル基であり、Ｒ ^３がフェニル基であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１がメチル基であり、Ｒ ^２及びＲ ^３がフェニル基であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３が独立して、炭素数６〜１０のアリール基であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３がフェニル基であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３が独立して、炭素数１〜１０のアルキル基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１及びＲ ^２が独立して、炭素数１〜１０のアルキル基であり、Ｒ ^３が炭素数６〜１０のアリール基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１が炭素数１〜１０のアルキル基であり、Ｒ ^２及びＲ ^３が独立して、炭素数６〜１０のアリール基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３が独立して、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、４−メチルフェニル基、メトキシ基又はエトキシ基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３がメチル基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１及びＲ ^２がメチル基であり、Ｒ ^３がｔｅｒｔ−ブチル基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１及びＲ ^２がメチル基であり、Ｒ ^３がシクロヘキシル基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１及びＲ ^２がメチル基であり、Ｒ ^３がフェニル基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１がメチル基であり、Ｒ ^２及びＲ ^３がフェニル基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３が独立して、炭素数６〜１０のアリール基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
Ｒ ^１ 、Ｒ ^２及びＲ ^３がフェニル基であり、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７及びＲ ^８が水素原子であるビピリジン化合物（１）とニッケル化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体；
等が挙げられる。

続いて、かかる遷移金属錯体の存在下に、１個又は２個の脱離基が芳香環に結合している芳香族化合物（Ａ）と、これと同一の構造を有する芳香族化合物（Ａ）又は前記芳香族化合物（Ａ）とは構造的に異なる１個又は２個の脱離基が芳香環に結合している芳香族化合物（Ｂ）とを反応させて、共役芳香族化合物を製造する方法について説明する。
芳香族化合物（Ａ）及び芳香族化合物（Ｂ）は、少なくとも１つの芳香環を有し、１個又は２個の脱離基が芳香環に結合している化合物である。
芳香族化合物（Ｂ）は、芳香族化合物（Ａ）と構造的に異なっている。

芳香環としては、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、フルオレン環、アントラセン環、フェナントレン環等の芳香族炭化水素環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、イソキノリン環、キノキサリン環等の芳香族複素環が挙げられる。

かかる芳香環は、少なくとも１つの反応に関与しない基で置換されていてもよく、反応に関与しない基の具体例としては、下記（ａ１）〜（ｇ１）が挙げられる。
（ａ１）フッ素原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基及び炭素数６〜２０のアリールオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基；
（ｂ１）フッ素原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基及び炭素数６〜２０のアリールオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルコキシ基；
（ｃ１）フッ素原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基及び炭素数６〜２０のアリールオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基；
（ｄ１）フッ素原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基及び炭素数６〜２０のアリールオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリールオキシ基；
（ｅ１）フッ素原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基及び炭素数６〜２０のアリールオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい炭素数２〜２０のアシル基；
（ｆ１）フッ素原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基及び炭素数６〜２０のアリールオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい炭素数２〜２０のアシルオキシ基；
（ｇ１）フッ素原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基及び炭素数６〜２０のアリールオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリールスルホニル基；
（ｈ１）下記式：

で示される基；

（ｉ１）シアノ基；

（ｊ１）フッ素原子。

前記（ａ１）〜（ｈ１）における炭素数１〜２０のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、２，２−ジメチルプロポキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−トリデシルオキシ基、ｎ−テトラデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ｎ−ヘキサデシルオキシ基、ｎ−ヘプタデシルオキシ基、ｎ−オクタデシルオキシ基、ｎ−ノナデシルオキシ基、ｎ−イコシルオキシ基等が挙げられ、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましい。

前記（ａ１）〜（ｈ１）における炭素数６〜２０のアリール基としては、フェニル基、４−メチルフェニル基、２−メチルフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、３−フェナントリル基、２−アントリル基等が挙げられる。

前記（ａ１）〜（ｈ１）における炭素数６〜２０のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、３−フェナントリルオキシ基、２−アントリルオキシ基等の前記炭素数６〜２０のアリール基と酸素原子とから構成されるものが挙げられる。

前記（ａ１）における炭素数１〜２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２，２−ジメチルプロピル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、２−メチルペンチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−イコシル基等が挙げられる。

前記（ｅ１）及び（ｈ１）における炭素数２〜２０のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ベンゾイル基、１−ナフトイル基、２−ナフトイル基等の炭素数２〜２０の脂肪族もしくは芳香族アシル基が挙げられる。

前記（ｆ１）における炭素数２〜２０のアシルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、１−ナフトイルオキシ基、２−ナフトイルオキシ基等の前記炭素数２〜２０のアシル基と酸素原子とから構成されるものが挙げられる。

前記（ｇ１）における炭素数６〜２０のアリールスルホニル基としては、フェニルスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基等が挙げられる。
前記（ｈ１）における炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−イコシル基、フェニル基、１，３−ブタジエン−１，４−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ビフェニル−２，２'−ジイル基、ｏ−キシリレン基等が挙げられる。

かかる１つもしくは２つの炭化水素基で置換され、該炭化水素基の炭素数の合計が３〜２０であるアミノ基としては、ジエチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ｎ−ペンチルアミノ基、２，２−ジメチルプロピルアミノ基、ｎ−ヘキシルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ｎ−ヘプチルアミノ基、ｎ−オクチルアミノ基、ｎ−ノニルアミノ基、ｎ−デシルアミノ基、ｎ−ウンデシルアミノ基、ｎ−ドデシルアミノ基、ｎ−トリデシルアミノ基、ｎ−テトラデシルアミノ基、ｎ−ペンタデシルアミノ基、ｎ−ヘキサデシルアミノ基、ｎ−ヘプタデシルアミノ基、ｎ−オクタデシルアミノ基、ｎ−ノナデシルアミノ基、ｎ−イコシルアミノ基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、カルバゾリル基、ジヒドロインドリル基、ジヒドロイソインドリル基等が挙げられる。

（ａ１）としては、炭素数１〜２０の無置換アルキル基、トリフルオロメチル基等の１又は２以上のフッ素原子で置換された炭素数１〜２０のアルキル基、メトキシメチル基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基で置換された炭素数１〜２０のアルキル基、シアノメチル基等のシアノ基で置換された炭素数１〜２０のアルキル基が好ましい。
（ｂ１）としては、炭素数１〜２０の無置換アルコキシ基、メトキシメトキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基で置換された炭素数１〜２０のアルコキシ基が好ましい。
（ｃ１）としては、炭素数６〜２０の無置換アリール基が好ましい。
（ｄ１）としては、炭素数６〜２０の無置換アリールオキシ基が好ましい。
（ｅ１）としては、炭素数２〜２０の無置換アシル基、フェノキシベンゾイル基等の炭素数６〜２０のアリールオキシ基で置換された炭素数２〜２０のアシル基が好ましい。
（ｆ１）としては、炭素数２〜２０の無置換アシルオキシ基、フェノキシベンゾイルオキシ基等の炭素数６〜２０のアリールオキシ基で置換された炭素数２〜２０のアシルオキシ基が好ましい。
（ｇ１）としては、炭素数６〜２０の無置換アリールスルホニル基が好ましい。
（ｈ１）としては、Ａが、イソプロポキシ基、２，２−ジメチルプロポキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ジエチルアミノ基又はｎ−ドデシルアミノ基である基が好ましく、Ａが、イソプロポキシ基、２，２−ジメチルプロポキシ基又はシクロヘキシルオキシ基である基がより好ましい。
かかる反応に関与しない基としては、前記（ａ１）、（ｂ１）、（ｅ１）及び（ｈ１）が好ましい。

脱離基としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメチルスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、エチルスルホニルオキシ基等の炭素数１〜６のアルキルスルホニルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルオキシ基等の炭素数６〜１０のアリールスルホニルオキシ基等が挙げられ、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、塩素原子、臭素原子がより好ましい。

芳香族化合物の具体例としては、式（４）：

式（４）中、Ａｒ

^１はｎ価の芳香族基を表わし、前記芳香族基を構成する芳香環は、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、フルオレン環、アントラセン環、フェナントレン環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、イソキノリン環又はキノキサリン環であり、且つ、少なくとも１つの反応に関与しない基で置換されていてもよい芳香環である。 また、Ｘ

^３は脱離基を表わし、ｎは１又は２を表わす。 ｎが２のとき、Ｘ

^３は同一であってもよいし、異なっていてもよい。

反応に関与しない基としては、上記したものと同様のものが挙げられる。

脱離基としては、上記したものと同様のものが挙げられ、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、塩素原子、臭素原子がより好ましい。

芳香族化合物（４）としては、
クロロベンゼン、ブロモベンゼン、ヨードベンゼン、４−クロロフルオロベンゼン、３−クロロフルオロベンゼン、２−クロロフルオロベンゼン、４−クロロベンゾニトリル、３−クロロベンゾニトリル、２−クロロトルエン、２，５−ジメチルクロロベンゼン、２−エチルクロロベンゼン、３−ｎ−プロピルクロロベンゼン、４−イソプロピルクロロベンゼン、５−ｎ−ブチルクロロベンゼン、２−イソブチルクロロベンゼン、３−ｓｅｃ−ブチルクロロベンゼン、４−ｔｅｒｔ−ブチルクロロベンゼン、５−（２，２−ジメチルプロピル）クロロベンゼン、２−ｎ−ヘキシルクロロベンゼン、４−シクロヘキシルクロロベンゼン、４−クロロビフェニル、２−クロロビフェニル、４−ベンジルクロロベンゼン、４−クロロベンゾトリフルオリド、２−クロロベンゾトリフルオリド、４−クロロベンゾトリクロリド、３−クロロベンゾトリクロリド、２−クロロベンゾトリクロリド、（４−クロロフェニル）アセトニトリル、
４−クロロアニソール、２，３−ジメトキシクロロベンゼン、２，４−ジメトキシクロロベンゼン、２，５−ジメトキシクロロベンゼン、２−エトキシクロロベンゼン、３−ｎ−プロポキシクロロベンゼン、４−イソプロポキシクロロベンゼン、５−ｎ−ブトキシクロロベンゼン、４−ｔｅｒｔ−ブトキシクロロベンゼン、４−フェノキシクロロベンゼン、４−ベンジルオキシクロロベンゼン、４−（メトキシメチル）クロロベンゼン、４−（ｎ−ブトキシメチル）クロロベンゼン、４−（メトキシメトキシ）クロロベンゼン、４−（ベンジルオキシメトキシ）クロロベンゼン、４−｛２−（ｎ−ブトキシ）エトキシ｝クロロベンゼン、
３−クロロアセトフェノン、２−クロロアセトフェノン、４−クロロプロピオフェノン、１−（４−クロロフェニル）−２，２−ジメチルプロパノン、（４−クロロベンゾイル）シクロヘキサン、４−クロロベンゾフェノン、４−クロロベンザルアセトン、１−（４−クロロフェニル）−３−フェニル−２−プロペン−１−オン、３−（４−クロロフェニル）−１−フェニル−２−プロペン−１−オン、４−クロロ安息香酸メチル、２−クロロ安息香酸メチル、３−クロロ安息香酸エチル、４−クロロ安息香酸（ｎ−プロピル）、３−クロロ安息香酸（ｎ−ブチル）、２−クロロ安息香酸（２，２−ジメチルプロピル）、４−クロロ安息香酸フェニル、ｐ−クロロフェニル酢酸メチル、３−（４−クロロフェニル）プロピオン酸メチル、ｐ−クロロケイ皮酸メチル、酢酸（４−クロロフェニル）、酢酸（２−クロロフェニル）、プロピオン酸（４−クロロフェニル）、ピバリン酸（４−クロロフェニル）、４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）クロロベンゼン、酢酸（４−クロロベンジル）、（４−クロロフェニル）メチルスルホキシド、（４−クロロフェニル）フェニルスルホキシド、（４−クロロフェニル）エチルスルホン、４−クロロベンゼンスルホン酸メチル、３−クロロベンゼンスルホン酸メチル、２−クロロベンゼンスルホン酸メチル、４−クロロベンゼンスルホン酸エチル、４−クロロベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、３−クロロベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、２−クロロベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、４−クロロベンゼンスルホン酸フェニル、３−クロロベンゼンスルホン酸フェニル、２−クロロベンゼンスルホン酸フェニル、メタンスルホン酸（４−クロロフェニル）、メタンスルホン酸（２−クロロフェニル）、ベンゼンスルホン酸（４−クロロフェニル）、ｐ−トルエンスルホン酸（３−クロロフェニル）、

２−（４−クロロフェニル）ピリジン、３−（４−クロロフェニル）ピリジン、４−（４−クロロフェニル）ピリジン、１−（４−クロロフェニル）ピロール、２−（４−クロロフェニル）ピロール、３−（４−クロロフェニル）ピロール、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−クロロベンジルアミン、Ｎ−（４−クロロフェニル）アセトアミド、Ｎ−（４−クロロフェニル）−Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ−（４−クロロフェニル）−Ｎ−フェニルアセトアミド、安息香酸（４−クロロフェニル）アミド、Ｎ−（４−クロロフェニル）カルバミン酸（ｔｅｒｔ−ブチル）、Ｎ−（４−クロロベンジル）アセトアミド、
４−クロロベンゼンスルホンアミド、４−クロロベンゼンスルホン酸ジメチルアミド、メタンスルホン酸（４−クロロアニリド）、ｐ−トルエンスルホン酸（４−ベンジルアミド）、１−クロロ−４−（トリメチルシリル）ベンゼン、１−クロロ−４−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）ベンゼン、１−クロロ−４−（トリメチルシリルオキシ）ベンゼン、１−クロロ−４−（トリエチルシリルオキシ）ベンゼン、１−クロロ−４−（トリイソプロピルシリルオキシ）ベンゼン、１−クロロ−４−（トリフェニルシリルオキシ）ベンゼン、１−クロロ−４−（フェニルジメチルシリルオキシ）ベンゼン、

４−クロロインダン、４−クロロインデン、１−クロロナフタレン、２−ブロモチオフェン、５−ブロモ−３−ヘキシルチオフェン、２−ブロモ−３−ドデシルチオフェン、５−ブルモ−２，２'−ビチオフェン、５−ブロモ−３−シクロヘキシルチオフェン、２−クロロ−３−オクチルチオフェン、５−クロロ−３−フェニルチオフェン、１−メチル−５−クロロピロール、１−ヘキシル−２−ブロモピロール、１−オクチル−５−クロロピロール、２−クロロピリジン、３−クロロピリジン、５−ブロモピリジン、３−メチル−２−クロロピリジン、３−ヘキシル−５−クロロピリジン、５−クロロ−２，２'−ビピリジン、３，３'−ジメチル−５−クロロ−２，２'−ビピリジン、３，３'−ジオクチル−５−ブロモ−２，２'−ビピリジン、２−クロロピリミジン、５−クロロピリミジン、２−ブロモピリミジン、５−クロロキノリン、８−ブロモキノリン、２−クロロキノリン、１−クロロイソキノリン、４−クロロイソキノリン、８−ブロモイソキノリン、５−ブロモイソキノリン、４−ブロモ−２，１，３−ベンゾチアジアゾール、７−クロロベンゾイミダゾール、４−クロロベンゾイミダゾール、５−クロロキノキサリン、５−クロロ−２，３−ジフェニルキノキサリン、２−ブロモキノキサリン、６−ブロモキノキサリン、１，３−ジクロロベンゼン、１，４−ジブロモベンゼン、１，４−ジヨードベンゼン、２，４−ジクロロトルエン、３，５−ジブロモトルエン、２，５−ジヨードトルエン、１，３−ジクロロ−４−メトキシベンゼン、１，４−ジブロモ−３−メトキシベンゼン、１，４−ジヨード−３−メトキシベンゼン、１，３−ジクロロ−４−アセトキシベンゼン、１，４−ジブロモ−３−アセトキシベンゼン、１，３−ジヨード−４−アセトキシベンゼン、２，５−ジクロロ−４'−フェノキシベンゾフェノン、１，４−ジブロモ−２−エチルベンゼン、１，４−ジブロモ−２−メトキシベンゼン、ジメチル ２，５−ジブロモテレフタレート、１，４−ジブロモナフタレン、１，１'−ジブロモ−４，４'−ビフェニル、１，４−ジブロモ−２，５−ジヘキシルオキシベンゼン、１−ブロモ−４−クロロベンゼン、１−ブロモ−４−クロロトルエン、１−ブロモ−４−クロロ−２−プロピルベンゼン、２，５−ジブロモ−４'−フェノキシベンゾフェノン、２，５−ジブロモチオフェン、２，５−ジブロモ−３−ヘキシルチオフェン、２，５−ジブロモ−３−ドデシルチオフェン、５，５'−ジブルモ−２，２'−ビチオフェン、２，５−ジブロモ−３−シクロヘキシルチオフェン、２，５−ジクロロ−３−オクチルチオフェン、２，５−クロロ−３−フェニルチオフェン、１−メチル−２，５−ジクロロピロール、１−ヘキシル−２，５−ジブロモピロール、１−オクチル−２，５−ジクロロピロール、２，５−ジクロロピリジン、３，５−ジクロロピリジン、２，５−ジブロモピリジン、３−メチル−２，５−ジクロロピリジン、３−ヘキシル−２，５−ジクロロピリジン、５，５'−ジクロロ−２，２'−ビピリジン、３，３'−ジメチル−５，５'−ジクロロ−２，２'−ビピリジン、３，３'−ジオクチル−５，５'−ジブロモ−２，２'−ビピリジン、２，５−ジクロロピリミジン、２，５−ジブロモピリミジン、５，８−ジクロロキノリン、５，８−ジブロモキノリン、２，６−ジクロロキノリン、１，４−ジクロロイソキノリン、５，８−ジブロモイソキノリン、４，７−ジブロモ−２，１，３−ベンゾチアジアゾール、４，７−ジクロロベンゾイミダゾール、５，８−ジクロロキノキサリン、５，８−ジクロロ−２，３−ジフェニルキノキサリン、２，６−ジブロモキノキサリン、

２，７−ジブロモ−９，９−ジヘキシル−９Ｈ−フルオレン、２，７−ジブロモ−９，９−ジオクチル−９Ｈ−フルオレン、２，７−ジブロモ−９，９−ジドデシル−９Ｈ−フルオレン、２，７−ジクロロ−９，９−ジヘキシル−９Ｈ−フルオレン、２，７−ジクロロ−９，９−ジオクチル−９Ｈ−フルオレン、２，７−ジクロロ−９，９−ジドデシル−９Ｈ−フルオレン、２−ブロモ−７−クロロ−９，９−ジヘキシル−９Ｈ−フルオレン、２−ブロモ−７−クロロ−９，９−ジオクチル−９Ｈ−フルオレン、２−ブロモ−７−クロロ−９，９−ジドデシル−９Ｈ−フルオレン等が挙げられる。

芳香族化合物の具体例としては、式（５）：

式（５）中、Ａ

^１としては、炭素数３〜２０の無置換アルコキシ基が好ましく、イソプロピル基、イソブトキシ基、２，２−ジメチルプロポキシ基及びシクロヘキシルオキシ基がより好ましい。

Ｒ ^９における炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基及び炭素数２〜２０のアシル基としては、それぞれ前記したものと同様のものが挙げられる。 Ｒ ^９としては、水素原子、炭素数１〜２０の無置換アルキル基、炭素数１〜２０の無置換アルコキシ基が好ましく、水素原子がより好ましい。
Ｘ ^４としては、塩素原子、臭素原子が好ましく、ｍは１であることが好ましい。

芳香族化合物（５）としては、２，５−ジクロロベンゼンスルホン酸イソプロピル、２，５−ジクロロベンゼンスルホン酸イソブチル、２，５−ジクロロベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、２，５−ジクロロベンゼンスルホン酸シクロヘキシル、２，５−ジクロロベンゼンスルホン酸ｎ−オクチル、２，５−ジクロロベンゼンスルホン酸ｎ−ペンタデシル、２，５−ジクロロベンゼンスルホン酸ｎ−イコシル、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２，５−ジクロロベンゼンスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−２，５−ジクロロベンゼンスルホンアミド、Ｎ−（２，２−ジメチルプロピル）−２，５−ジクロロベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ドデシル−２，５−ジクロロベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−イコシル−２，５−ジクロロベンゼンスルホンアミド、３，５−ジクロロベンゼンスルホン酸イソプロピル、３，５−ジクロロベンゼンスルホン酸イソブチル、３，５−ジクロロベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、３，５−ジクロロベンゼンスルホン酸シクロヘキシル、３，５−ジクロロベンゼンスルホン酸ｎ−オクチル、３，５−ジクロロベンゼンスルホン酸ｎ−ペンタデシル、３，５−ジクロロベンゼンスルホン酸ｎ−イコシル、Ｎ，Ｎ−ジエチル−３，５−ジクロロベンゼンスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−３，５−ジクロロベンゼンスルホンアミド、Ｎ−（２，２−ジメチルプロピル）−３，５−ジクロロベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ドデシル−３，５−ジクロロベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−イコシル−３，５−ジクロロベンゼンスルホンアミド、
２，５−ジブロモベンゼンスルホン酸イソプロピル、２，５−ジブロモベンゼンスルホン酸イソブチル、２，５−ジブロモベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、２，５−ジブロモベンゼンスルホン酸シクロヘキシル、２，５−ジブロモベンゼンスルホン酸ｎ−オクチル、２，５−ジブロモベンゼンスルホン酸ｎ−ペンタデシル、２，５−ジブロモベンゼンスルホン酸ｎ−イコシル、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２，５−ジブロモベンゼンスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−２，５−ジブロモベンゼンスルホンアミド、Ｎ−（２，２−ジメチルプロピル）−２，５−ジブロモベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ドデシル−２，５−ジブロモベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−イコシル−２，５−ジブロモベンゼンスルホンアミド、３，５−ジブロモベンゼンスルホン酸イソプロピル、３，５−ジブロモベンゼンスルホン酸イソブチル、３，５−ジブロモベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、３，５−ジブロモベンゼンスルホン酸シクロヘキシル、３，５−ジブロモベンゼンスルホン酸ｎ−オクチル、３，５−ジブロモベンゼンスルホン酸ｎ−ペンタデシル、３，５−ジブロモベンゼンスルホン酸ｎ−イコシル、Ｎ，Ｎ−ジエチル−３，５−ジブロモベンゼンスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−３，５−ジブロモベンゼンスルホンアミド、Ｎ−（２，２−ジメチルプロピル）−３，５−ジブロモベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ドデシル−３，５−ジブロモベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−イコシル−３，５−ジブロモベンゼンスルホンアミド、

２，５−ジヨードベンゼンスルホン酸イソプロピル、２，５−ジヨードベンゼンスルホン酸イソブチル、２，５−ジヨードベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、２，５−ジヨードベンゼンスルホン酸シクロヘキシル、２，５−ジヨードベンゼンスルホン酸ｎ−オクチル、２，５−ジヨードベンゼンスルホン酸ｎ−ペンタデシル、２，５−ジヨードベンゼンスルホン酸ｎ−イコシル、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２，５−ジヨードベンゼンスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−２，５−ジヨードベンゼンスルホンアミド、Ｎ−（２，２−ジメチルプロピル）−２，５−ジヨードベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ドデシル−２，５−ジヨードベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−イコシル−２，５−ジヨードベンゼンスルホンアミド、３，５−ジヨードベンゼンスルホン酸イソプロピル、３，５−ジヨードベンゼンスルホン酸イソブチル、３，５−ジヨードベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、３，５−ジヨードベンゼンスルホン酸シクロヘキシル、３，５−ジヨードベンゼンスルホン酸ｎ−オクチル、３，５−ジヨードベンゼンスルホン酸ｎ−ペンタデシル、３，５−ジヨードベンゼンスルホン酸ｎ−イコシル、Ｎ，Ｎ−ジエチル−３，５−ジヨードベンゼンスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−３，５−ジヨードベンゼンスルホンアミド、Ｎ−（２，２−ジメチルプロピル）−３，５−ジヨードベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ドデシル−３，５−ジヨードベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−イコシル−３，５−ジヨードベンゼンスルホンアミド、

２，４−ジクロロベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、２，４−ジブロモベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、２，４−ジヨードベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、２，４−ジクロロ−５−メチルベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、２，５−ジクロロ−４−メチルベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、２，４−ジブロモ−５−メチルベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、２，５−ジブロモ−４−メチルベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、２，４−ジヨード−５−メチルベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、２，５−ジヨード−４−メチルベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、２，４−ジクロロ−５−メトキシベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、２，５−ジクロロ−４−メトキシベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、２，４−ジブロモ−５−メトキシベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、２，５−ジブロモ−４−メトキシベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、２，４−ジヨード−５−メトキシベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、２，５−ジヨード−４−メトキシベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、１−（２，５−ジクロロベンゼンスルホニル）ピロリジン等が挙げられる。

なかでも、２，５−ジクロロベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、２，５−ジクロロベンゼンスルホン酸イソブチル、２，５−ジクロロベンゼンスルホン酸シクロヘキシル、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２，５−ジクロロベンゼンスルホンアミド及びＮ−ｎ−ドデシル−２，５−ジクロロベンゼンスルホンアミド、２，５−ジブロモベンゼンスルホン酸（２，２−ジメチルプロピル）、２，５−ジブロモベンゼンスルホン酸イソブチル、２，５−ジブロモベンゼンスルホン酸シクロヘキシル、Ｎ，Ｎ−ジエチル−２，５−ジブロモベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ドデシル−２，５−ジブロモベンゼンスルホンアミドが好ましい。

芳香族化合物の具体例としては、式（６）：

式（６）中、Ａ

^２としては、前記Ａ

^１と同様のものが挙げられ、炭素数３〜２０の無置換アルコキシ基が好ましく、イソプロピル基、イソブトキシ基、２，２−ジメチルプロポキシ基及びシクロヘキシルオキシ基がより好ましい。

Ｒ

^１０における炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基及び炭素数２〜２０のアシル基としては、それぞれ前記したものと同様のものが挙げられる。 Ｒ

^１０としては、炭素数１〜２０の無置換アルキル基、炭素数１〜２０の無置換アルコキシ基が好ましい。

Ｘ

^５としては、塩素原子、臭素原子が好ましく、ｊは０であることが好ましい。

芳香族化合物（６）としては、４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（ｎ−プロピル）、４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジイソプロピル、４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（ｎ−ブチル）、４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジイソブチル、４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（２，２−ジメチルプロピル）、４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジシクロヘキシル、４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（ｎ−オクチル）、４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（ｎ−ペンタデシル）、４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（ｎ−イコシル）、

Ｎ，Ｎ−ジエチル−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−プロピル）−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−ブチル）−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソブチル−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホンアミド、Ｎ−ジ（２，２−ジメチルプロピル）−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホンアミド、Ｎ−ジ（ｎ−オクチル）−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホンアミド、Ｎ−ジ（ｎ−ドデシル）−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホンアミド、Ｎ−ジ（ｎ−イコシル）−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジフェニル−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホンアミド、

３，３'−ジメチル−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（２，２−ジメチルプロピル）、５，５'−ジメチル−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（２，２−ジメチルプロピル）、６，６'−ジメチル−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（２，２−ジメチルプロピル）、３，３'−ジメトキシ−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（２，２−ジメチルプロピル）、５，５'−ジメトキシ−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（２，２−ジメチルプロピル）、６，６'−ジメトキシ−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（２，２−ジメチルプロピル）、３，３'−ジフェニル−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（２，２−ジメチルプロピル）、３，３'−ジアセチル−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（２，２−ジメチルプロピル）、５，５'−ジアセチル−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（２，２−ジメチルプロピル）、

４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（ｎ−プロピル）、４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジイソプロピル、４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（ｎ−ブチル）、４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジイソブチル、４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（２，２−ジメチルプロピル）、４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジシクロヘキシル、４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（ｎ−オクチル）、４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（ｎ−ペンタデシル）、４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（ｎ−イコシル）、

Ｎ，Ｎ−ジエチル−４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−プロピル）−４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル−４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ｎ−ブチル）−４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソブチル−４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホンアミド、Ｎ−ジ（２，２−ジメチルプロピル）−４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホンアミド、Ｎ−ジ（ｎ−オクチル）−４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホンアミド、Ｎ−ジ（ｎ−ドデシル）−４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホンアミド、Ｎ−ジ（ｎ−イコシル）−４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジフェニル−４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホンアミド等が挙げられる。

なかでも、４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジイソプロピル、４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（２，２−ジメチルプロピル）、４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジイソプロピル及び４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（２，２−ジメチルプロピル）が好ましい。

芳香族化合物（４）としては、市販のものを用いてもよいし、公知の方法に準じて製造したものを用いてもよい。
芳香族化合物（５）は、ＷＯ０７／０４３２７４に記載の方法に従い、第３級アミン化合物又はピリジン化合物の存在下に、式（１０）：

^９ 、Ｘ

^４ 、ｍ及びｋは上記と同一の意味を表わす。）

で示される化合物（以下、化合物（１０）と略記する。）と式（１１）：

（式中、Ａ

^１は、上記と同一の意味を表わす。）

で示される化合物（以下、化合物（１１）と略記する。）とを反応させることにより製造することができる。

化合物（１０）としては、２，５−ジクロロベンゼンスルホン酸クロリド、３，５−ジクロロベンゼンスルホン酸クロリド、２，５−ジブロモベンゼンスルホン酸クロリド、３，５−ジブロモベンゼンスルホン酸クロリド等が挙げられる。 かかる化合物（１０）としては、通常市販されているものが用いられる。
化合物（１１）としては、イソプロパノール、イソブタノール、２，２−ジメチルプロパノール、シクロヘキサノール、ｎ−オクタノール、ｎ−ペンタデカノール、ｎ−イコサノール、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、２，２−ジメチルプロピルアミン、ｎ−ドデシルアミン、ｎ−イコシルアミン等が挙げられる。 かかる化合物（１１）としては、通常市販されているものが用いられる。

化合物（１１）の使用量は、化合物（１０）中の−ＳＯ _２ Ｃｌで示される基１モルに対して、通常０．２モル以上であり、その上限は特になく、化合物（１１）が反応温度において液体である場合には、反応溶媒を兼ねて大過剰量用いてもよい。 実用的な化合物（１１）の使用量は、化合物（１０）中の−ＳＯ _２ Ｃｌで示される基１モルに対して、０．５〜２モルである。

第３級アミン化合物としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ（ｎ−プロピル）アミン、トリ（ｎ−ブチル）アミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ（ｎ−オクチル）アミン、トリ（ｎ−デシル）アミン、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ−メチルピロリジン等が挙げられる。 第３級アミン化合物は、通常、市販されているものが用いられる。 第３級アミン化合物の使用量は、化合物（１０）中の−ＳＯ _２ Ｃｌで示される基１モルに対して、通常１モル以上であり、その上限は特になく、第３級アミン化合物が反応温度において液体である場合には、反応溶媒を兼ねて大過剰量用いてもよい。 実用的な第３級アミン化合物の使用量は、化合物（１０）中の−ＳＯ _２ Ｃｌで示される基１モルに対して、１〜３０モル、好ましくは１〜２０モル、さらに好ましくは１〜１０モルである。

ピリジン化合物としては、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。 ピリジン化合物は、通常市販されているものが用いられる。 ピリジン化合物の使用量は、化合物（１０）中の−ＳＯ _２ Ｃｌで示される基１モルに対して、通常１モル以上であり、その上限は特になく、ピリジン化合物が反応温度において液体である場合には、反応溶媒を兼ねて大過剰量用いてもよい。 実用的なピリジン化合物の使用量は、化合物（１０）中の−ＳＯ _２ Ｃｌで示される基１モルに対して、１〜３０モル、好ましくは１〜２０モル、さらに好ましくは１〜１０モルである。

化合物（１０）と化合物（１１）との反応は、通常、溶媒の存在下に、化合物（１０）と化合物（１１）と第３級アミン化合物もしくはピリジン化合物とを混合することにより実施される。 混合順序は特に制限されない。
溶媒としては、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル溶媒；ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等の非プロトン性極性溶媒；ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒等が挙げられる。 また、上記したとおり、化合物（１１）、第３級アミン化合物もしくはピリジン化合物が、反応温度において液体である場合には、これらを反応溶媒として用いてもよい。 かかる溶媒は単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。 溶媒の使用量は特に制限されない。

化合物（１０）と化合物（１１）との反応温度は、通常−３０〜１５０℃、好ましくは−１０〜７０℃である。 反応時間は、通常０．５〜２４時間である。
反応終了後、例えば、反応混合物に、水もしくは酸の水溶液、及び、必要に応じて、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒；酢酸エチル等のエステル溶媒等の水に不溶の有機溶媒を加えて、抽出処理することにより、芳香族化合物（５）を含む有機層を得ることができる。 得られた有機層を、必要に応じて、水、アルカリ水溶液等で洗浄した後、濃縮することにより、芳香族化合物（５）を取り出すことができる。

芳香族化合物（６）は、前記芳香族化合物（５）の製造方法において、化合物（１０）に代えて、式（１２）：

^１０ 、Ｘ

^５及びｊは上記と同一の意味を表わす。）

で示される化合物（以下、化合物（１２）と略記する。）を用い、化合物（１１）に代えて、式（１３）：

（式中、Ａ

^２は、上記と同一の意味を表わす。）

で示される化合物（以下、化合物（１３）と略記する。）を用い、同様に実施することにより製造することができる。

化合物（１２）としては、４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジクロリド、４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジクロリド、３，３'−ジメチル−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジクロリド、５，５'−ジメチル−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジクロリド、６，６'−ジメチル４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジクロリド、３，３'−ジメトキシ−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジクロリド、５，５'−ジメトキシ−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジクロリド、６，６'−ジメトキシ−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジクロリド、３，３'−ジフェニル−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジクロリド、３，３'−ジアセチル−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジクロリド、５，５'−ジアセチル−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジクロリド、６，６'−ジアセチル−４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジクロリド等が挙げられ、４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジクロリド及び４，４'−ジブロモビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジクロリドが好ましい。 かかる化合物（１２）としては、市販されているものを用いてもよいし、例えば、Ｂｕｌｌ． Ｓｏｃ． Ｃｈｉｍ． Ｆｒ． ，４，４９（１９３１），１０４７−１０４９等に記載の公知の方法に準じて製造したものを用いてもよい。
化合物（１３）としては、化合物（１１）と同様のものが挙げられ、通常市販されているものが用いられる。

芳香族化合物の具体例としては、式（７）：

式（７）中、ｈは５以上の整数であることが好ましく、１０以上の整数であることがより好ましい。

Ａｒ

^２ 、Ａｒ

^３ 、Ａｒ

^４及びＡｒ

^５における２価の芳香族基としては、１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、４，４'−ビフェニル−１，１'−ジイル基等の２価の単環状芳香族基；ナフタレン−１，３−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−１，７−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−２，７−ジイル基、９Ｈ−フルオレン−２，７−ジイル基等の２価の縮合芳香族基；ピリジン−２，５−ジイル基、ピリジン−２，６−ジイル基、キノキサリン−２，６−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基、２，２'−ビチオフェン−５，５'−ジイル基、ピロール−２，５−ジイル基、２，２'−ビピリジン−５，５'−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、キノリン−５，８−ジイル基、キノリン−２，６−ジイル基、イソキノリン−１，４−ジイル基、イソキノリン−５，８−ジイル基、２，１，３−ベンゾチアジアゾール−４，７−ジイル基、ベンゾイミダゾール−４，７−ジイル基、キノキサリン−５，８−ジイル基、キノキサリン−２，６−ジイル基等の２価の複素芳香族基；等が挙げられる。 なかでも、２価の単環状芳香族基及び２価の縮合芳香族基が好ましく、１，４−フェニレン基、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基及びナフタレン−２，７−ジイル基がより好ましい。

かかる２価の芳香族基は、下記（ａ２）〜（ｅ２）からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい。

（ａ２）フッ素原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基及び炭素数６〜２０のアリールオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基；

（ｂ２）フッ素原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基及び炭素数６〜２０のアリールオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルコキシ基；

（ｃ２）フッ素原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基及び炭素数６〜１０のアリールオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基；

（ｄ２）フッ素原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基及び炭素数６〜２０のアリールオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリールオキシ基；及び、

（ｅ２）フッ素原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基及び炭素数６〜２０のアリールオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい炭素数２〜２０のアシル基。

（ａ２）〜（ｅ２）における炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数１〜２０のアルキル基及び炭素数２〜２０のアシル基としては、前記したものと同様のものが挙げられる。

（ａ２）としては、前記（ａ１）と同様のものが挙げられる。 （ｂ２）としては、前記（ｂ１）と同様のものが挙げられる。 （ｃ２）としては、前記（ｃ１）と同様のものが挙げられる。 （ｄ２）としては、前記（ｄ１）と同様のものが挙げられる。 （ｅ２）としては、前記（ｅ１）と同様のものが挙げられる。

Ｘ

^６としては、塩素原子、臭素原子が好ましい。

芳香族化合物（７）の具体例としては、下記に示す化合物、下記に示す化合物の両末端の塩素原子が臭素原子に代わった化合物等が挙げられる。 なお、下記式中、ｈは上記と同一の意味を表わす。

芳香族化合物（７）としては、日本国特許第２，７４５，７２７号公報等の公知の方法に準じて製造したものを用いてもよいし、市販されているものを用いてもよい。 市販されているものとしては、例えば、住友化学株式会社製スミカエクセルＰＥＳ等が挙げられる。
芳香族化合物（７）としては、そのポリスチレン換算の重量平均分子量が２，０００以上のものを用いることが好ましく、３，０００以上であるものがより好ましい。
本願発明の共役芳香族化合物の製造方法は、芳香族化合物（Ａ）と、これと同一の構造を有する芳香族化合物（Ａ）又は前記芳香族化合物（Ａ）とは構造的に異なる芳香族化合物（Ｂ）とを反応させるものである。
本明細書において、共役芳香族化合物とは、少なくとも１つの芳香環を有し、その分子の一部又は全部に、非局在化したπ−電子系を有する化合物を意味する。

芳香族化合物（Ａ）と、これと同一の構造を有する芳香族化合物（Ａ）とを反応させる場合の具体例としては、
芳香族化合物（Ａ）として、芳香族化合物（４）を用いる場合；
芳香族化合物（Ａ）として、芳香族化合物（５）を用いる場合；
芳香族化合物（Ａ）として、芳香族化合物（６）を用いる場合；等が挙げられる。
芳香族化合物（Ａ）と、該芳香族化合物（Ａ）とは構造的に異なる芳香族化合物（Ｂ）とを反応させる場合の具体例としては、
芳香族化合物（Ａ）として、芳香族化合物（４）を用い、芳香族化合物（Ｂ）として、芳香族化合物（Ａ）とは構造的に異なる芳香族化合物（４）を用いる場合；
芳香族化合物（Ａ）として、芳香族化合物（４）を用い、芳香族化合物（Ｂ）として、芳香族化合物（Ａ）とは構造的に異なる芳香族化合物（５）を用いる場合；
芳香族化合物（Ａ）として、芳香族化合物（４）を用い、芳香族化合物（Ｂ）として、芳香族化合物（Ａ）とは構造的に異なる芳香族化合物（６）を用いる場合；
芳香族化合物（Ａ）として、芳香族化合物（４）を用い、芳香族化合物（Ｂ）として、芳香族化合物（Ａ）とは構造的に異なる芳香族化合物（７）を用いる場合；
芳香族化合物（Ａ）として、芳香族化合物（５）を用い、芳香族化合物（Ｂ）として、芳香族化合物（Ａ）とは構造的に異なる芳香族化合物（４）を用いる場合；
芳香族化合物（Ａ）として、芳香族化合物（５）を用い、芳香族化合物（Ｂ）として、芳香族化合物（Ａ）とは構造的に異なる芳香族化合物（５）を用いる場合；
芳香族化合物（Ａ）として、芳香族化合物（５）を用い、芳香族化合物（Ｂ）として、芳香族化合物（Ａ）とは構造的に異なる芳香族化合物（６）を用いる場合；
芳香族化合物（Ａ）として、芳香族化合物（５）を用い、芳香族化合物（Ｂ）として、芳香族化合物（Ａ）とは構造的に異なる芳香族化合物（７）を用いる場合；
芳香族化合物（Ａ）として、芳香族化合物（６）を用い、芳香族化合物（Ｂ）として、芳香族化合物（Ａ）とは構造的に異なる芳香族化合物（４）を用いる場合；
芳香族化合物（Ａ）として、芳香族化合物（６）を用い、芳香族化合物（Ｂ）として、芳香族化合物（Ａ）とは構造的に異なる芳香族化合物（５）を用いる場合；
芳香族化合物（Ａ）として、芳香族化合物（６）を用い、芳香族化合物（Ｂ）として、芳香族化合物（Ａ）とは構造的に異なる芳香族化合物（６）を用いる場合；
芳香族化合物（Ａ）として、芳香族化合物（６）を用い、芳香族化合物（Ｂ）として、芳香族化合物（Ａ）とは構造的に異なる芳香族化合物（７）を用いる場合；等が挙げられる。
用いる遷移金属錯体は、第９族、第１０族又は第１１族遷移金属化合物とビピリジン化合物（１）とを接触させて得られる遷移金属錯体であり、第１０族遷移金属化合物とビピリジン化合物（１）とを接触させて得られる遷移金属錯体が好ましく、ニッケル化合物とピリジン化合物（１）とを接触させて得られる遷移金属錯体がより好ましい。
遷移金属錯体の使用量が少なすぎると、分子量の小さい共役芳香族化合物が得られる、あるいは、共役芳香族化合物の収率が低い傾向があり、遷移金属錯体の使用量が多すぎると、分子量の大きい共役芳香族化合物が得られる、あるいは、共役芳香族化合物の収率が高い傾向があるものの、反応終了後の後処理が煩雑になるため、遷移金属錯体の実用的な使用量は、遷移金属換算で、用いる全ての芳香族化合物１モルに対して、０．００１〜１モルである。

必要に応じて、還元剤を用いてもよく、還元剤の種類と使用量は、用いる遷移金属錯体や芳香族化合物の種類や使用量に応じて、適宜選択される。 還元剤としては、亜鉛、マグネシウム、マンガン、アルミニウム、ナトリウム等の金属が挙げられ、亜鉛、マグネシウム及びマンガンが好ましい。 還元剤を用いる場合の使用量は、用いる全ての芳香族化合物１モルに対して、通常１〜１０モルであり、好ましくは、１〜５モルである。
反応は、通常、溶媒の存在下に実施される。 溶媒としては、用いる芳香族化合物及び生成する共役芳香族化合物が溶解し得る溶媒であればよい。 かかる溶媒の具体例としては、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル溶媒；ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等の非プロトン性極性溶媒；ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素溶媒等が挙げられる。 かかる溶媒は、単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。 なかでも、エーテル溶媒及び非プロトン性極性溶媒が好ましく、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドがより好ましい。 溶媒の使用量は、多すぎると、分子量の小さな共役芳香族化合物が得られる、あるいは、共役芳香族化合物の収率が低い傾向があり、溶媒の使用量が少なすぎると、反応混合物の性状が悪くなりやすいため、実用的な溶媒の使用量は、用いる全ての芳香族化合物１重量部に対して、１〜２００重量部、好ましくは５〜１００重量部である。

反応は、通常、窒素ガス等の不活性ガスの雰囲気下で、溶媒、芳香族化合物、遷移金属錯体及び必要に応じて還元剤を混合することにより実施される。 溶媒、芳香族化合物、第９族、第１０族又は第１１族遷移金属化合物及びビピリジン化合物（１）を混合し、遷移金属錯体の調製とともに、反応を実施してもよい。
反応温度は、通常０〜２５０℃であり、好ましくは３０〜１００℃である。 反応時間は、通常０．５〜４８時間である。

生成した共役芳香族化合物が重合体である場合には、例えば、反応終了後、生成した共役芳香族化合物を溶解しない溶媒もしくは溶解しにくい溶媒と反応混合物とを混合することにより、共役芳香族化合物を析出させ、次いで、濾過することにより、析出した共役芳香族化合物を反応混合物から分離することができる。 生成した共役芳香族化合物を溶解しない溶媒もしくは溶解しにくい溶媒と反応混合物とを混合した後、塩酸等の酸の水溶液を加え、析出した共役芳香族化合物を濾過により、反応混合物から分離してもよい。 得られた共役芳香族化合物の分子量や構造は、ゲル浸透クロマトグラフィー、ＮＭＲ等の通常の分析手段により分析することができる。 生成した共役芳香族化合物を溶解しない溶媒もしくは溶解しにくい溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、アセトニトリル等が挙げられ、水及びメタノールが好ましい。
生成した共役芳香族化合物が重合体でない場合には、例えば、反応終了後、反応混合物を濃縮することにより、生成した共役芳香族化合物を取り出すことができる。 取り出した共役芳香族化合物は、カラムクロマトグラフィー、蒸留、再結晶等の通常の精製手段によりさらに精製してもよい。

得られる共役芳香族化合物の具体例を以下に示す。
芳香族化合物（Ａ）と、これと同一の構造を有する芳香族化合物（Ａ）とを反応させる場合であって、芳香族化合物（Ａ）としてｎが１である芳香族化合物（４）を用いた場合には、下記式（２０）：

^１は上記と同一の意味を表わす。）

で示される共役芳香族化合物が得られる。

かかる式（２０）で示される共役芳香族化合物としては、

ビフェニル、４，４'−ジフルオロビフェニル、３，３'−ジフルオロビフェニル、２，２'−ジフルオロビフェニル、２，２'−ジメチルビフェニル、２，２'，５，５'−テトラメチルビフェニル、２，２'−ジエチルビフェニル、３，３'−ジ−ｎ−プロピルビフェニル、４，４'−ジイソプロピルビフェニル、５，５'−ジ−ｎ−ブチルビフェニル、２，２'−ジイソブチルビフェニル、３，３'−ジ−ｓｅｃ−ブチルビフェニル、４，４'−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルビフェニル、５，５'−ビス（２，２−ジメチルプロピル）ビフェニル、２，２'−ジ−ｎ−ヘキシルビフェニル、４，４'−ジシクロヘキシルビフェニル、４，４'−ジベンジルビフェニル、４，４'−ジシアノビフェニル、４，４'−ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、２，２'−ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、４，４'−ビス（シアノメチル）ビフェニル、

３，３'−ジメトキシビフェニル、４，４'−ジメトキシビフェニル、２，２'，３，３'−テトラメトキシビフェニル、２，２'，４，４'−テトラメトキシビフェニル、２，２'，５，５'−テトラメトキシビフェニル、２，２'−ジエトキシビフェニル、３，３'−ジ−ｎ−プロポキシビフェニル、４，４'−ジイソプロポキシビフェニル、５，５'−ジ−ｎ−ブトキシビフェニル、４，４'−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシビフェニル、４，４'−ジフェノキシビフェニル、４，４'−ジベンジルオキシビフェニル、４，４'−ビス（メトキシメチル）ビフェニル、４，４'−ビス（ｎ−ブトキシメチル）ビフェニル、４，４'−ビス（メトキシメトキシ）ビフェニル、４，４'−ビス（ベンジルオキシメトキシ）ビフェニル、４，４'−ビス｛２−（ｎ−ブトキシ）エトキシ｝ビフェニル、

４，４'−ジアセチルビフェニル、４，４'−ジベンゾイルビフェニル、４，４'−ビス（フェニルスルホニル）ビフェニル、ビフェニル−４，４'−ジスルホン酸ジメチル、ビフェニル−４，４'−ジスルホン酸ジエチル、ビフェニル−４，４'−ジスルホン酸ジ（２，２−ジメチルプロピル）、ビフェニル−３，３'−ジスルホン酸ジ（２，２−ジメチルプロピル）、１，１'−ビナフタレン、２，２'−ビチオフェン、３，３'−ジヘキシル−５，５'−ビチオフェン、１，１'−ジメチル−５，５'−ビピロール、２，２'−ビピリジン、３，３'−ジメチル−２，２'−ビピリジン、３，３'−ジヘキシル−５，５'−ビピリジン、２，２'−ビピリミジン、５，５'−ビキノリン、１，１'−ビイソキノリン、４，４'−ビス（２，１，３−ベンゾチアジアゾール）、７，７'−ビス（ベンゾイミダゾール）等が挙げられる。

芳香族化合物（Ａ）と、これと同一の構造を有する芳香族化合物（Ａ）とを反応させる場合であって、芳香族化合物（Ａ）としてｎが２である芳香族化合物（４）を用いた場合には、下記式（２１）：

^１は上記と同一の意味を表わす。）

で示される繰り返し単位を有する共役芳香族化合物が得られる。 かかる共役芳香族化合物は、通常２〜１０，０００個の式（２１）で示される繰り返し単位を含んでおり、そのポリスチレン換算の重量平均分子量は、通常５００〜３，０００，０００である。

かかる式（２１）で示される繰り返し単位の具体例としては、下記式（２１ａ）〜（２１ｄ）で示される繰り返し単位が挙げられる。

芳香族化合物（Ａ）と、これと同一の構造を有する芳香族化合物（Ａ）とを反応させる場合であって、芳香族化合物（Ａ）として芳香族化合物（５）を用いた場合には、下記式（２２）：

^１ 、Ｒ

^９ 、ｋ及びｍは上記と同一の意味を表わす。）

で示される繰り返し単位を有する共役芳香族化合物が得られる。 かかる共役芳香族化合物は、通常２〜１０，０００個の式（２２）で示される繰り返し単位を含んでおり、そのポリスチレン換算の重量平均分子量は、通常５００〜３，０００，０００である。

式（２２）で示される繰り返し単位の具体例としては、下記式（２２ａ）〜（２２ｅ）で示される繰り返し単位が挙げられる。

芳香族化合物（Ａ）と、これと同一の構造を有する芳香族化合物（Ａ）とを反応させる場合であって、芳香族化合物（Ａ）として芳香族化合物（６）を用いた場合には、下記式（２３）：

式（２３）で示される繰り返し単位の具体例としては、下記式（２３ａ）〜（２３ｄ）で示される繰り返し単位が挙げられる。

芳香族化合物（Ａ）と、これと構造的に異なる芳香族化合物（Ｂ）とを反応させる場合であって、芳香族化合物（Ａ）として、ｎが２である芳香族化合物（４）を用い、芳香族化合物（Ｂ）として、芳香族化合物（７）を用いた場合には、前記式（２１）で示される繰り返し単位と下記式（２４）：

式（２４）で示されるセグメントの具体例としては、下記式（２４ａ）〜（２４ｘ）で示されるセグメントが挙げられる。 なお、下記式中、ｈは上記と同一の意味を表わし、好ましくは５以上の整数であり、より好ましくは１０以上の整数である。

式（２１）で示される繰り返し単位と式（２４）で示されるセグメントを含む共役芳香族化合物としては、前記式（２１ａ）〜（２１ｄ）で示される繰り返し単位のうちのいずれか一つの繰り返し単位と前記式（２４ａ）〜（２４ｘ）で示されるセグメントのうちのいずれか一つのセグメントとを含む共役芳香族化合物が挙げられる。 具体的には、下記（Ｉ−１）〜（Ｉ−１６）で示される共役芳香族化合物が挙げられる。 ここで、下記式中、ｈは上記と同一の意味を表わし、ｐは２以上の整数を表わす。

芳香族化合物（Ａ）と、これと構造的に異なる芳香族化合物（Ｂ）とを反応させる場合であって、芳香族化合物（Ａ）として芳香族化合物（５）を用い、芳香族化合物（Ｂ）として、芳香族化合物（７）を用いた場合には、前記式（２２）で示される繰り返し単位と前記式（２４）で示されるセグメントを含む共役芳香族化合物が得られる。
該共役芳香族化合物のポリスチレン換算の重量平均分子量は、通常３，０００〜３，０００，０００である。 該共役芳香族化合物中の式（２２）で示される繰り返し単位の量は、５重量％以上、９５重量％以下が好ましく、３０重量％以上、９０重量％以下がより好ましく、式（２４）で示されるセグメントの量は、５重量％以上、９５重量％以下が好ましく、１０重量％以上、７０重量％以下がより好ましい。

式（２２）で示される繰り返し単位と式（２４）で示されるセグメントを含む共役芳香族化合物としては、前記式（２２ａ）〜（２２ｅ）で示される繰り返し単位のうちのいずれか一つの繰り返し単位と前記式（２４ａ）〜（２４ｘ）で示されるセグメントのうちのいずれか一つのセグメントとを含む共役芳香族化合物が挙げられる。 具体的には、下記（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−９）で示される共役芳香族化合物が挙げられる。 ここで、下記式中、ｈ及びｐは上記と同一の意味を表わす。

芳香族化合物（Ａ）と、これと構造的に異なる芳香族化合物（Ｂ）とを反応させる場合であって、芳香族化合物（Ａ）として芳香族化合物（６）を用い、芳香族化合物（Ｂ）として、芳香族化合物（７）を用いた場合には、前記式（２３）で示される繰り返し単位と前記式（２４）で示されるセグメントを含む共役芳香族化合物が得られる。
該共役芳香族化合物のポリスチレン換算の重量平均分子量は、通常３，０００〜３，０００，０００である。 該共役芳香族化合物中の式（２３）で示される繰り返し単位の量は、５重量％以上、９５重量％以下が好ましく、３０重量％以上、９０重量％以下がより好ましく、式（２４）で示されるセグメントの量は、５重量％以上、９５重量％以下が好ましく、１０重量％以上、７０重量％以下がより好ましい。

式（２３）で示される繰り返し単位と式（２４）で示されるセグメントを含む共役芳香族化合物としては、前記式（２３ａ）〜（２３ｄ）で示される繰り返し単位のうちのいずれか一つの繰り返し単位と前記式（２４ａ）〜（２４ｘ）で示されるセグメントのうちのいずれか一つのセグメントとを含む共役芳香族化合物が挙げられる。 具体的には、下記（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−６）で示される共役芳香族化合物が挙げられる。 ここで、下記式中、ｈ及びｐは上記と同一の意味を表わす。

芳香族化合物（Ａ）と、これと構造的に異なる芳香族化合物（Ｂ）とを反応させる場合であって、芳香族化合物（Ａ）としてｎが２である芳香族化合物（４）を用い、芳香族化合物（Ｂ）として、芳香族化合物（５）を用いた場合には、前記式（２１）で示される繰り返し単位と前記式（２２）で示される繰り返し単位とを含む共役芳香族化合物が得られる。
該共役芳香族化合物のポリスチレン換算の重量平均分子量は、通常１，０００〜２，０００，０００である。 該共役芳香族化合物中の式（２１）で示される繰り返し単位の量は、１重量％以上、９９重量％以下が好ましく、式（２２）で示される繰り返し単位の量は、１重量％以上、９９重量％以下が好ましい。

式（２１）で示される繰り返し単位と式（２２）で示される繰り返し単位とを含む共役芳香族化合物としては、前記式（２１ａ）〜（２１ｄ）で示される繰り返し単位のうちのいずれか一つの繰り返し単位と前記式（２２ａ）〜（２２ｅ）で示される繰り返し単位のうちのいずれか一つの繰り返し単位とを含む共役芳香族化合物が挙げられる。 具体的には、下記（ＩＶ−１）〜（ＩＶ−４）で示される共役芳香族化合物が挙げられる。

芳香族化合物（Ａ）と、これと構造的に異なる芳香族化合物（Ｂ）とを反応させる場合であって、芳香族化合物（Ａ）としてｎが２である芳香族化合物（４）を用い、芳香族化合物（Ｂ）として、芳香族化合物（６）を用いた場合には、前記式（２１）で示される繰り返し単位と前記式（２３）で示される繰り返し単位とを含む共役芳香族化合物が得られる。
該共役芳香族化合物のポリスチレン換算の重量平均分子量は、通常１，０００〜２，０００，０００である。 該共役芳香族化合物中の式（２１）で示される繰り返し単位の量は、１重量％以上、９９重量％以下が好ましく、式（２３）で示される繰り返し単位の量は、１重量％以上、９９重量％以下が好ましい。

式（２１）で示される繰り返し単位と式（２３）で示される繰り返し単位とを含む共役芳香族化合物としては、前記式（２１ａ）〜（２１ｄ）で示される繰り返し単位のうちのいずれか一つの繰り返し単位と前記式（２３ａ）〜（２３ｄ）で示される繰り返し単位のうちのいずれか一つの繰り返し単位とを含む共役芳香族化合物が挙げられる。 具体的には、下記（Ｖ−１）〜（Ｖ−４）で示される共役芳香族化合物が挙げられる。

二種類以上の繰り返し単位を含む共役芳香族化合物中の各繰り返し単位の含量は、用いる芳香族化合物の使用量を適宜調整することにより、調整することができる。
式（２２）又は式（２３）で示される繰り返し単位を含む共役芳香族化合物は、固体高分子型燃料電池用の高分子電解質の合成原料として用いることができ、その場合の好ましいポリスチレン換算の重量平均分子量は、２，０００〜１，０００，０００であり、より好ましくは３，０００〜８００，０００である。

以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。
得られた共役芳香族化合物が重合体でない場合には、ガスクロマトグラフィー内部標準法により分析し、その結果から収量を算出した。 得られた共役芳香族化合物が重合体である場合には、ゲル浸透クロマトグラフィー（以下、ＧＰＣと略記する。）により分析し（分析条件は下記のとおり）、分析結果からポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）を算出した。
＜分析条件＞
ＧＰＣ測定装置：ＣＴＯ−１０Ａ（株式会社島津製作所製）
カラム：ＴＳＫ−ＧＥＬ（東ソー株式会社製）
カラム温度：４０℃
移動相：臭化リチウム含有Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（臭化リチウム濃度：１０ｍｍｏｌ／ｄｍ ^３ ）
流量：０．５ｍＬ／分 検出波長：３００ｎｍ

＜実施例１−１＞
滴下ロートを取り付けた反応容器に、２，５−ジブロモピリジン８ｇ及びジエチルエーテル９０ｍＬを加えた。 得られた溶液を−７０℃に冷却した後、ブチルリチウム（１．５８Ｍ／ヘキサン溶液）２１．３７ｍＬを滴下した。 得られた混合物を１時間３０分攪拌した後、トリメチルクロロシラン４．３２ｍＬをジエチルエーテル６．２ｍＬに溶解させて得られた溶液を滴下した。 得られた混合物を２時間４０分攪拌した後、０℃で水６０ｍＬを滴下した。 得られた混合物を、室温で一晩攪拌した後、ジエチルエーテル３０ｍＬを加えた。 得られた溶液をジエチルエーテル３０ｍＬで３回抽出した。 得られた有機層を混合し、硫酸マグネシウムで乾燥した。 硫酸マグネシウムを濾過により除去した後、濾液を濃縮し、粗生成物を得た。 粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、２−ブロモ−５−トリメチルシリルピリジン５．９６ｇを得た。 純度：９０％（ガスクロマトグラフィー分析により得られた面積百分率値）。

＜実施例１−２＞
冷却管を取り付けた反応容器に、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム０．７５ｇ、前記実施例１−１で得られた２−ブロモ−５−トリメチルシリルピリジン１ｇ及びテトラヒドロフラン２５ｍＬを加えた。 得られた混合物に、室温で攪拌しながら、２−ピリジルジンクブロミド（０．５Ｍ／テトラヒドロフラン溶液）８．６９ｍＬを加えた。 得られた混合物を５０℃で８時間攪拌し、反応させた。 反応混合物を室温まで冷却した後、２８％アンモニア水３３ｍＬを加えた。 得られた混合物を、クロロホルム５０ｍＬで３回抽出した。 得られた有機層を混合し、硫酸マグネシウムで乾燥した。 硫酸マグネシウムを濾過により除去した後、濾液を濃縮し、粗生成物を得た。

＜実施例１−３＞
前記実施例１−２において、各試剤の使用量を２倍にした以外は、実施例１−２と同様に実施し、粗生成物を得た。 得られた粗生成物と前記実施例１−２で得られた粗生成物とを混合した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、さらに蒸留し、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジン１．１７ｇを得た。
^１ Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ，ＣＤＣｌ _３溶媒、ＴＭＳ基準）
８．７７（ｓ，１Ｈ），８．６９（ｄ，１Ｈ），８．４２（ｄ，１Ｈ），８．３６（ｄ，１Ｈ），７．９３（ｄｄ，１Ｈ），７．８２（ｍ，１Ｈ），７．２７−７．３３（ｍ，１Ｈ），０．３４（ｓ，９Ｈ）

＜実施例２−１＞
滴下ロートを取り付けた反応容器に、２，５−ジブロモピリジン２４ｇ及びジエチルエーテル２７０ｍＬを加えた。 得られた溶液を−７０℃に冷却した後、ブチルリチウム（１．６１Ｍ／ヘキサン溶液）６２．９３ｍＬを滴下した。 得られた混合物を２時間攪拌した後、シクロヘキシルジメチルクロロシラン１８．７５ｍＬをジエチルエーテル１８．６ｍＬに溶解させて得られた溶液を滴下した。 得られた混合物を４時間攪拌した後、０℃で水１４０ｍＬを滴下した。 得られた混合物を、室温で一晩攪拌した後、水４０ｍＬ及びジエチルエーテル１５０ｍＬを加えた。 得られた溶液をジエチルエーテル１５０ｍＬで３回抽出した。 得られた有機層を混合し、硫酸マグネシウムで乾燥した。 硫酸マグネシウムを濾過により除去した後、濾液を濃縮し、粗生成物を得た。 粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、２−ブロモ−５−シクロヘキシルジメチルシリルピリジン２３ｇを得た。 純度：９３％（ガスクロマトグラフィー分析により得られた面積百分率値）。
^１ Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ，ＣＤＣｌ _３溶媒、ＴＭＳ基準）
８．３８（ｓ，１Ｈ），７．５９（ｄｄ，１Ｈ），７．４５（ｄｄ，１Ｈ），１．６０−１．７６（ｃ，５Ｈ），１．００−１．２２（ｃ，５Ｈ），０．７８−０．８４（ｍ，１Ｈ），０．２５（ｓ，６Ｈ）

＜実施例２−２＞
冷却装置を取り付けた反応容器に、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム２．６１ｇ、前記実施例２−１で得られた２−ブロモ−５−シクロヘキシルジメチルシリルピリジン６．７５ｇ及びテトラヒドロフラン１３５ｍＬを加えた。 得られた混合物に、室温で攪拌しながら、２−ピリジルジンクブロミド（０．５Ｍ／テトラヒドロフラン溶液）４５．２６ｍＬを加えた。 得られた混合物を５０℃で９時間攪拌し、反応させた。 反応混合物を室温まで冷却した後、２８％アンモニア水２００ｍＬを加えた。 得られた混合物を、クロロホルム２３０ｍＬで３回抽出した。 得られた有機層を混合し、硫酸マグネシウムで乾燥した。 硫酸マグネシウムを濾過により除去した後、濾液を濃縮し、粗生成物を得た。 得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、さらに蒸留して、５−シクロヘキシルジメチルシリル−２，２'−ビピリジン４．０４ｇを得た。
^１ Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ，ＣＤＣｌ _３溶媒、ＴＭＳ基準）
８．７４（ｓ，１Ｈ），８．６９（ｄ，１Ｈ），８．４２（ｄ，１Ｈ），８．３６（ｄ，１Ｈ），７．９０（ｄｄ，１Ｈ），７．８１（ｍ，１Ｈ），７．２７−７．３２（ｍ，１Ｈ），１．６８−１．７１（ｃ，５Ｈ），１．０７−１．２０（ｃ，５Ｈ），０．７９−０．９０（ｍ，１Ｈ），０．３４（ｓ，６Ｈ）
^１３ Ｃ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ，ＣＤＣｌ _３溶媒）
１５６．２７，１５６．０４，１５３．８０，１４９．１６，１４２．６９，１３６．８２，１３３．５７，１２３．６６，１２０．９６，１２０．１１，２７．８７，２７．２６，２６．７２，２５．５４，−５．４０

＜実施例３−１＞
滴下ロートを取り付けた反応容器に、２，５−ジブロモピリジン２１．６ｇ及びジエチルエーテル２４３ｍＬを加えた。 得られた溶液を−７０℃に冷却した後、ブチルリチウム（１．６５Ｍ／ヘキサン溶液）５５．２６ｍＬを滴下した。 得られた混合物を３時間１０分攪拌した後、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート２０．９６ｍＬをジエチルエーテル１６．７ｍＬに溶解させて得られた溶液を滴下した。 得られた混合物を１７時間５５分攪拌した後、０℃で水１６２ｍＬを滴下した。 得られた混合物を、室温で３０分攪拌した後、酢酸エチル８１ｍＬを加えた。 得られた溶液を酢酸エチル８１ｍＬで３回抽出した。 得られた有機層を混合し、硫酸マグネシウムで乾燥した。 硫酸マグネシウムを濾過により除去した後、濾液を濃縮し、粗生成物を得た。 粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、さらに、ヘキサンで再結晶し、２−ブロモ−５−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルピリジン２．５７ｇを得た。 純度：９８％（ガスクロマトグラフィー分析により得られた面積百分率値）。
^１ Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ，ＣＤＣｌ _３溶媒、ＴＭＳ基準）
８．４０（ｓ，１Ｈ），７．６２（ｄ，１Ｈ），７．４６（ｄ，１Ｈ），０．８８（ｓ，９Ｈ），０．２９（ｓ，６Ｈ）

＜実施例３−２＞
冷却装置を取り付けた反応容器に、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム０．６４ｇ、前記実施例３−１で得られた２−ブロモ−５−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルピリジン１ｇ及びテトラヒドロフラン２５ｍＬを加えた。 得られた混合物に、室温で攪拌しながら、２−ピリジルジンクブロミド（０．５Ｍ／テトラヒドロフラン溶液）７．３５ｍＬを加えた。 得られた混合物を５０℃で７時間４０分攪拌し、反応させた。 反応混合物を室温まで冷却した後、２８％アンモニア水３３ｍＬを加えた。 得られた混合物を、クロロホルム５０ｍＬで３回抽出した。 得られた有機層を混合し、硫酸マグネシウムで乾燥した。 硫酸マグネシウムを濾過により除去した後、濾液を濃縮し、粗生成物を得た。 得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、さらにヘキサンで再結晶し、５−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−２，２'−ビピリジン０．３５ｇを得た。
^１ Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ，ＣＤＣｌ _３溶媒、ＴＭＳ基準）
８．７６（ｓ，１Ｈ），８．６９（ｄ，１Ｈ），８．４２（ｄ，１Ｈ），８．３６（ｄ，１Ｈ），７．９３（ｄｄ，１Ｈ），７．８３（ｍ，１Ｈ），７．２６−７．３４（ｍ，１Ｈ），０．９１（ｓ，９Ｈ），０．３４（ｓ，６Ｈ）

＜実施例４−１＞
滴下ロートを取り付けた反応容器に、２，５−ジブロモピリジン２４ｇ及びジエチルエーテル２７０ｍＬを加えた。 得られた溶液を−７０℃に冷却した後、ブチルリチウム（１．６５Ｍ／ヘキサン溶液）６１．４ｍＬを滴下した。 得られた混合物を３時間４０分攪拌した後、ジメチルフェニルクロロシラン１６．７９ｍＬをジエチルエーテル１８．６ｍＬに溶解させて得られた溶液を滴下した。 得られた混合物を３時間攪拌した後、０℃で水８０ｍＬを滴下した。 得られた混合物を、室温で一晩攪拌した後、水１００ｍＬ及び酢酸エチル１５０ｍＬを加えた。 得られた溶液を酢酸エチル１５０ｍＬで３回抽出した。 得られた有機層を混合し、硫酸マグネシウムで乾燥した。 硫酸マグネシウムを濾過により除去した後、濾液を濃縮し、粗生成物を得た。 粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、２−ブロモ−５−ジメチルフェニルシリルピリジン２５．１ｇを得た。 純度：９５％（ガスクロマトグラフィー分析により得られた面積百分率値）。
^１ Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ，ＣＤＣｌ _３溶媒、ＴＭＳ基準）
８．４１（ｓ，１Ｈ），７．５８（ｄｄ，１Ｈ），７．３６−７．５０（ｃ，６Ｈ），０．５８（ｓ，６Ｈ）

＜実施例４−２＞
冷却装置を取り付けた反応容器に、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム２．３７ｇ、前記実施例４−１で得られた２−ブロモ−５−ジメチルフェニルシリルピリジン６ｇ及びテトラヒドロフラン１２５ｍＬを加えた。 得られた混合物に、室温で攪拌しながら、２−ピリジルジンクブロミド（０．５Ｍ／テトラヒドロフラン溶液）４１．０６ｍＬを加えた。 得られた混合物を５０℃で６時間２０分攪拌し、反応させた。 反応混合物を室温まで冷却した後、２８％アンモニア水１７０ｍＬを加えた。 得られた混合物を、クロロホルム２００ｍＬで３回抽出した。 得られた有機層を混合し、硫酸マグネシウムで乾燥した。 硫酸マグネシウムを濾過により除去した後、濾液を濃縮し、粗生成物を得た。 得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、さらにヘキサンで再結晶し、５−ジメチルフェニルシリル−２，２'−ビピリジン１．６３ｇを得た。
^１ ＨーＮＭＲ（δ：ｐｐｍ，ＣＤＣｌ _３溶媒、ＴＭＳ基準）
８．７７（ｓ，１Ｈ），８．６８（ｄ，１Ｈ），８．４１（ｄ，１Ｈ），８．３８（ｄ，１Ｈ），７．９２（ｄｄ，１Ｈ），７．８１（ｍ，１Ｈ），７．５２−７．５６（ｃ，２Ｈ），７．２７−７．３９（ｃ，４Ｈ），０．６２（ｓ，６Ｈ）

＜実施例５−１＞
滴下ロートを取り付けた反応容器に、２，５−ジブロモピリジン８ｇ及びジエチルエーテル９０ｍＬを加えた。 得られた溶液を−７０℃に冷却した後、ブチルリチウム（１．６５Ｍ／ヘキサン溶液）２０．４７ｍＬを滴下した。 得られた混合物を２時間攪拌した後、メチルジフェニルクロロシラン７．０８ｍＬをジエチルエーテル６．２ｍＬに溶解させて得られた溶液を滴下した。 得られた混合物を５時間５０分攪拌した後、０℃で水６０ｍＬを滴下した。 得られた混合物を、室温で一晩攪拌した後、酢酸エチル５０ｍＬを加えた。 得られた溶液を酢酸エチル５０ｍＬで３回抽出した。 得られた有機層を混合し、硫酸マグネシウムで乾燥した。 硫酸マグネシウムを濾過により除去した後、濾液を濃縮し、粗生成物を得た。

＜実施例５−２＞
前記実施例５−１において、各試剤の使用量を３倍にした以外は、実施例５−１と同様に実施し、粗生成物を得た。 得られた粗生成物と前記実施例５−１で得られた粗生成物とを混合した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、２−ブロモ−５−メチルジフェニルシリルピリジン３６．１ｇを得た。 純度：９７％（ガスクロマトグラフィー分析により得られた面積百分率値）。
^１ Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ，ＣＤＣｌ _３溶媒、ＴＭＳ基準）
８．４１（ｓ，１Ｈ），７．３４−７．６０（ｃ，１２Ｈ），０．８６（ｓ，３Ｈ）

＜実施例５−３＞
冷却装置を取り付けた反応容器に、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム２．２８ｇ、前記実施例５−２で得られた２−ブロモ−５−メチルジフェニルシリルピリジン７ｇ及びテトラヒドロフラン１２５ｍＬを加えた。 得られた混合物に、室温で攪拌しながら、２−ピリジルジンクブロミド（０．５Ｍ／テトラヒドロフラン溶液）３９．５１ｍＬを加えた。 得られた混合物を５０℃で７時間２５分攪拌し、反応させた。 反応混合物を室温まで冷却した後、２８％アンモニア水１７０ｍＬを加えた。 得られた混合物を、クロロホルム２００ｍＬで３回抽出した。 得られた有機層を混合し、硫酸マグネシウムで乾燥した。 硫酸マグネシウムを濾過により除去した後、濾液を濃縮し、粗生成物を得た。 得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、さらにヘキサンで再結晶し、５−メチルジフェニルシリル−２，２'−ビピリジン２．５６ｇを得た。
^１ Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ，ＣＤＣｌ _３溶媒、ＴＭＳ基準）
８．７５（ｓ，１Ｈ），８．６９（ｄ，１Ｈ），８．３６−８．４３（ｃ，２Ｈ），７．９３（ｄｄ，１Ｈ），７．８１（ｍ，１Ｈ），７．２９−７．５６（ｃ，１１Ｈ），０．９０（ｓ，３Ｈ）

＜実施例６−１＞
滴下ロートを取り付けた反応容器に、２，５−ジブロモピリジン８ｇ及びジエチルエーテル９０ｍＬを加えた。 得られた溶液を−７０℃に冷却した後、ブチルリチウム（１．６５Ｍ／ヘキサン溶液）２０．４７ｍＬを滴下した。 得られた混合物を１時間２０分攪拌した後、トリフェニルクロロシラン９．９６ｇを少量ずつ添加し、さらに、ジエチルエーテル１０ｍＬを加えた。 得られた混合物を室温で、２７時間２０分攪拌した後、０℃で水６０ｍＬを滴下した。 得られた混合物を、室温で一晩攪拌した後、水６０ｍＬ及びクロロホルム１００ｍＬを加えた。 得られた混合物をクロロホルム１００ｍＬで３回抽出した。 得られた有機層を混合し、硫酸マグネシウムで乾燥した。 硫酸マグネシウムを濾過により除去した後、濾液を濃縮し、粗生成物を得た。

＜実施例６−２＞
前記実施例６−１において、各試剤の使用量を１．２５倍にした以外は、実施例６−１と同様に実施し、粗生成物を得た。 得られた粗生成物と前記実施例６−１で得られた粗生成物とを混合した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、さらに、クロロホルム／ヘキサンで再結晶し、２−ブロモ−５−トリフェニルシリルピリジン１９．０１ｇを得た。
^１ Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ，ＣＤＣｌ _３溶媒、ＴＭＳ基準）
８．４６（ｓ，１Ｈ），７．６５（ｄｄ，１Ｈ），７．３７−７．５５（ｃ，１６Ｈ）
^１３ Ｃ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ，ＣＤＣｌ _３溶媒）
１５６．９１，１４５．９３，１４４．３１，１３６．１６，１３２．３４，１３０．１６，１２９．０８，１２８．１８，１２７．７４

＜実施例６−３＞
冷却装置を取り付けた反応容器に、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム２．５０ｇ、前記実施例６−２で得られた２−ブロモ−５−トリフェニルシリルピリジン９ｇ及びテトラヒドロフラン１２５ｍＬを加えた。 得られた混合物に、室温で攪拌しながら、２−ピリジルジンクブロミド（０．５Ｍ／テトラヒドロフラン溶液）４３．２３ｍＬを加えた。 得られた混合物を５０℃で７時間４０分攪拌し、反応させた。 反応混合物を室温まで冷却した後、２８％アンモニア水１７０ｍＬを加えた。 得られた混合物を、クロロホルム２００ｍＬで３回抽出した。 得られた有機層を混合し、硫酸マグネシウムで乾燥した。 硫酸マグネシウムを濾過により除去した後、濾液を濃縮し、粗生成物を得た。 得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、さらにジエチルエーテルで再結晶し、５−トリフェニルシリル−２，２'−ビピリジン１．９２ｇを得た。
^１ Ｈ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ，ＣＤＣｌ _３溶媒、ＴＭＳ基準）
８．８１（ｓ，１Ｈ），８．６８（ｄ，１Ｈ），８．３９−８．４３（ｃ，２Ｈ），８．００（ｄｄ，１Ｈ），７．８０（ｍ，１Ｈ），７．４９−７．６１（ｃ，６Ｈ），７．３６−７．４６（ｃ，９Ｈ），７．２４−７．３２（ｍ，１Ｈ）
^１３ Ｃ−ＮＭＲ（δ：ｐｐｍ，ＣＤＣｌ _３溶媒）
１５６．５６，１５５．７９，１５５．７５，１４９．０１，１４４．６８，１３６．５６，１３６．０７，１３２．８３，１２９．７８，１２９．６４，１２７．９２，１２３．６５，１２０．９１，１２０．１０

＜実施例７＞
ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）０．５５ｍｇ、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジン０．４６ｍｇ及びテトラヒドロフラン４ｍＬを、室温で混合し、ニッケル錯体を含む溶液を得た。
ＵＶ−Ｖｉｓ（テトラヒドロフラン溶媒）：λmax ５７０ｎｍ

＜実施例８＞
冷却装置を備えたガラス製反応容器に、窒素雰囲気下、室温で、臭化ニッケル１５．３ｍｇ、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジン１９．２ｍｇ及び亜鉛粉末９１．６ｍｇを加えた。 得られた混合物に、室温で、４−クロロトルエン８８．６ｍｇ及びＮ−メチル−２−ピロリドン５ｍＬを加えた。 得られた混合物を７０℃で２時間反応させ、４，４'−ジメチルビフェニルを含む反応混合物を得た。 ４，４'−ジメチルビフェニルの収量は５６．５ｍｇであった。

＜実施例９＞
実施例８において、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、５−シクロヘキシルジメチルシリル−２，２'−ビピリジン２４．９ｍｇを用いた以外は、実施例８と同様に実施し、４，４'−ジメチルビフェニルを含む反応混合物を得た。 ４，４'−ジメチルビフェニルの収量は５８．３ｍｇであった。

＜比較例１＞
実施例８において、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、２，２'−ビピリジン１３．１ｍｇを用いた以外は、実施例８と同様に実施し、４，４'−ジメチルビフェニルを含む反応混合物を得た。 ４，４'−ジメチルビフェニルの収量は３６．５ｍｇであった。

＜実施例１０＞
冷却装置を備えたガラス製反応容器に、窒素雰囲気下、室温で、臭化ニッケル１５．３ｍｇ、５−ジメチルフェニルシリル−２，２'−ビピリジン２４．４ｍｇ及び亜鉛粉末９１．６ｍｇを加えた。 得られた混合物に、室温で、２−クロロトルエン８８．６ｍｇ及びＮ−メチル−２−ピロリドン５ｍＬを加えた。 得られた混合物を７０℃で２時間反応させ、２，２'−ジメチルビフェニルを含む反応混合物を得た。 ２，２'−ジメチルビフェニルの収量は２５．５ｍｇであった。

＜実施例１１＞
実施例１０において、５−ジメチルフェニルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、５−メチルジフェニルシリル−２，２'−ビピリジン２９．６ｍｇを用いた以外は、実施例１０と同様に実施し、２，２'−ジメチルビフェニルを含む反応混合物を得た。 ２，２'−ジメチルビフェニルの収量は３６．５ｍｇであった。

＜実施例１２＞
実施例１０において、５−ジメチルフェニルシリル−２，２'−ビピリジンに代えてに、５−トリフェニルシリル−２，２'−ビピリジン３４．８ｍｇを用いた以外は、実施例１０と同様に実施し、２，２'−ジメチルビフェニルを含む反応混合物を得た。 ２，２'−ジメチルビフェニルの収量は３４．６ｍｇであった。

＜比較例２＞
実施例１０において、５−ジメチルフェニルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、２，２'−ビピリジン１３．１ｍｇを用いた以外は、実施例１０と同様に実施し、２，２'−ジメチルビフェニルを含む反応混合物を得た。 ２，２'−ジメチルビフェニルの収量は１２．８ｍｇであった。

＜実施例１３＞
冷却装置を備えたガラス製反応容器に、窒素雰囲気下、室温で、臭化ニッケル１５．３ｍｇ、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジン１９．２ｍｇ及び亜鉛粉末９１．６ｍｇを加えた。 得られた混合物に、室温で、４−クロロアニソール９９．８ｍｇ及びＮ−メチル−２−ピロリドン５ｍＬを加えた。 得られた混合物を７０℃で２時間反応させ、４，４'−ジメトキシビフェニルを含む反応混合物を得た。 ４，４'−ジメトキシビフェニルの収量は６６．４ｍｇであった。

＜実施例１４＞
冷却装置を備えたガラス製反応容器に、窒素雰囲気下、室温で、臭化ニッケル１５．３ｍｇ、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジン１９．２ｍｇ及び亜鉛粉末９１．６ｍｇを加えた。 得られた混合物に、室温で、３−クロロアニソール９９．８ｍｇ及びＮ−メチル−２−ピロリドン５ｍＬを加えた。 得られた混合物を７０℃で２時間反応させ、３，３'−ジメトキシビフェニルを含む反応混合物を得た。 ３，３'−ジメトキシビフェニルの収量は６８．６ｍｇであった。

＜実施例１５＞
冷却装置を備えたガラス製反応容器に、窒素雰囲気下、室温で、臭化ニッケル１５．３ｍｇ、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジン１９．２ｍｇ及び亜鉛粉末９１．６ｍｇを加えた。 得られた混合物に、室温で、１−クロロ−４−（メトキシメチル）ベンゼン１０９．６ｍｇ及びＮ−メチル−２−ピロリドン５ｍＬを加えた。 得られた混合物を７０℃で２時間反応させ、４，４'−ビス（メトキシメチル）ビフェニルを含む反応混合物を得た。 ４，４'−ビス（メトキシメチル）ビフェニルの収量は６７．８ｍｇであった。

＜実施例１６＞
冷却装置を備えたガラス製反応容器に、窒素雰囲気下、室温で、臭化ニッケル１５．３ｍｇ、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジン１９．２ｍｇ及び亜鉛粉末９１．６ｍｇを加えた。 得られた混合物に、室温で、４−クロロアセトフェノン１０８．２ｍｇ及びＮ−メチル−２−ピロリドン５ｍＬを加えた。 得られた混合物を７０℃で２時間反応させ、４，４'−ジアセチルビフェニルを含む反応混合物を得た。 ４，４'−ジアセチルビフェニルの収量は７３．９ｍｇであった。

＜実施例１７＞
冷却装置を備えたガラス製反応容器に、窒素雰囲気下、室温で、臭化ニッケル１５．３ｍｇ、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジン１９．２ｍｇ及び亜鉛粉末９１．６ｍｇを加えた。 得られた混合物に、室温で、４−クロロフェノール９０．０ｍｇ及びＮ−メチル−２−ピロリドン５ｍＬを加えた。 得られた混合物を７０℃で２時間反応させ、４，４'−ジヒドロキシビフェニルを含む反応混合物を得た。 ４，４'−ジヒドロキシビフェニルの収量は２４．２ｍｇであった。

＜実施例１８＞
実施例１７において、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、５−シクロヘキシルジメチルシリル−２，２'−ビピリジン２４．９ｍｇを用いた以外は、実施例１７と同様に実施し、４，４'−ジヒドロキシビフェニルを含む反応混合物を得た。 ４，４'−ジヒドロキシビフェニルの収量は３７．２ｍｇであった。

＜実施例１９＞
実施例１７において、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、５−ジメチルフェニルシリル−２，２'−ビピリジン２４．４ｍｇを用いた以外は、実施例１７と同様に実施し、４，４'−ジヒドロキシビフェニルを含む反応混合物を得た。 ４，４'−ジヒドロキシビフェニルの収量は２２．３ｍｇであった。

＜実施例２０＞
実施例１７において、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、５−メチルジフェニルシリル−２，２'−ビピリジン２９．６ｍｇを用いた以外は、実施例１７と同様に実施し、４，４'−ジヒドロキシビフェニルを含む反応混合物を得た。 ４，４'−ジヒドロキシビフェニルの収量は２２．３ｍｇであった。

＜実施例２１＞
冷却装置を備えたガラス製反応容器に、窒素雰囲気下、室温で、臭化ニッケル１５．３ｍｇ、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジン１９．２ｍｇ及び亜鉛粉末９１．６ｍｇを加えた。 得られた混合物に、室温で、２−クロロピリミジン８０．２ｍｇ及びＮ−メチル−２−ピロリドン５ｍＬを加えた。 得られた混合物を７０℃で２時間反応させ、２，２'−ビピリミジンを含む反応混合物を得た。 ２，２'−ビピリミジンの収量は７．９ｍｇであった。

＜実施例２２＞
冷却装置を備えたガラス製反応容器に、窒素雰囲気下、室温で、臭化ニッケル１５．３ｍｇ、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジン１９．２ｍｇ及び亜鉛粉末９１．６ｍｇを加えた。 得られた混合物に、室温で、２−ブロモチオフェン１１４．１ｍｇ及びＮ−メチル−２−ピロリドン５ｍＬを加えた。 得られた混合物を７０℃で２時間反応させ、２，２'−ビチオフェンを含む反応混合物を得た。 ２，２'−ビチオフェンの収量は３４．９ｍｇであった。

＜実施例２３＞
実施例２２において、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、５−シクロヘキシルジメチルシリル−２，２'−ビピリジン２４．９ｍｇを用いた以外は、実施例２２と同様に実施し、２，２'−ビチオフェンを含む反応混合物を得た。 ２，２'−ビチオフェンの収量は３６．６ｍｇであった。

＜実施例２４＞
実施例２２において、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、５−ジメチルフェニルシリル−２，２'−ビピリジン２４．４ｍｇを用いた以外は、実施例２２と同様に実施し、２，２'−ビチオフェンを含む反応混合物を得た。 ２，２'−ビチオフェンの収量は３８．２ｍｇであった。

＜実施例２５＞
実施例２２において、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、５−メチルジフェニルシリル−２，２'−ビピリジン２９．６ｍｇを用いた以外は、実施例２２と同様に実施し、２，２'−ビチオフェンを含む反応混合物を得た。 ２，２'−ビチオフェンの収量は３４．９ｍｇであった。

＜実施例２６＞
実施例２２において、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、５−トリフェニルシリル−２，２'−ビピリジン３４．８ｍｇを用いた以外は、実施例２２と同様に実施し、２，２'−ビチオフェンを含む反応混合物を得た。 ２，２'−ビチオフェンの収量は３６．６ｍｇであった。

＜比較例３＞
実施例２２において、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、２，２'−ビピリジン１３．１ｍｇを用いた以外は、実施例２２と同様に実施し、２，２'−ビチオフェンを含む反応混合物を得た。 ２，２'−ビチオフェンの収量は２４．９ｍｇであった。

＜実施例２７＞
冷却装置を備えたガラス製反応容器に、窒素雰囲気下、室温で、臭化ニッケル２２．９ｍｇ、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジン２８．８ｍｇ、４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（２，２−ジメチルプロピル）４００．１ｍｇ、亜鉛粉末９１．６ｍｇ及びＮ−メチル−２−ピロリドン５ｍＬを加えた。 得られた混合物を、７０℃で４時間攪拌、反応させ、下記式（ｉ）

＜比較例４＞
実施例２７において、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、２，２'−ビピリジン１９．７ｍｇを用いた以外は、実施例２７と同様に実施し、前記式（ｉ）で示される繰り返し単位のみからなる共役芳香族化合物を含む反応混合物を得た。 得られた共役芳香族化合物のＭｗは７２，７００、Ｍｎは２５，３００であった。

＜実施例２８＞
冷却装置を備えたガラス製反応容器に、窒素雰囲気下、室温で、臭化ニッケル１５．３ｍｇ、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジン１６．０ｍｇ、４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（２，２−ジメチルプロピル）３９４．１ｍｇ、亜鉛粉末７５．６ｍｇ、及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド５ｍＬを加えた。 得られた混合物を、７０℃で４時間攪拌、反応させ、前記式（ｉ）で示される繰り返し単位のみからなる共役芳香族化合物を含む反応混合物を得た。 得られた共役芳香族化合物のＭｗは１６８，６００、Ｍｎは５３，０００であった。

＜実施例２９＞
実施例２８において、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、５−シクロヘキシルジメチルシリル−２，２'−ビピリジン２０．８ｍｇを用いた以外は、実施例２８と同様に実施し、前記式（ｉ）で示される繰り返し単位のみからなる共役芳香族化合物を含む反応混合物を得た。 得られた共役芳香族化合物のＭｗは１３７，９００、Ｍｎは４３，０００であった。

＜実施例３０＞
実施例２８において、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、５−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−２，２'−ビピリジン１８．９ｍｇを用いた以外は、実施例２８と同様に実施し、前記式（ｉ）で示される繰り返し単位のみからなる共役芳香族化合物を含む反応混合物を得た。 得られた共役芳香族化合物のＭｗは１３９，４００、Ｍｎは４８，６００であった。

＜実施例３１＞
実施例２８において、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、５−ジメチルフェニルシリル−２，２'−ビピリジン２０．３ｍｇを用いた以外は、実施例２８と同様に実施し、前記式（ｉ）で示される繰り返し単位のみからなる共役芳香族化合物を含む反応混合物を得た。 得られた共役芳香族化合物のＭｗは１９４，９００、Ｍｎは６４，５００であった。

＜実施例３２＞
実施例２８において、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、５−トリフェニルシリル−２，２'−ビピリジン２９．０ｍｇを用いた以外は、実施例２８と同様に実施し、前記式（ｉ）で示される繰り返し単位のみからなる共役芳香族化合物を含む反応混合物を得た。 得られた共役芳香族化合物のＭｗは１４５，５００、Ｍｎは４８，２００であった。

＜比較例５＞
実施例２８において、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、２，２'−ビピリジン１０．９ｍｇを用いた以外は、実施例２８と同様に実施し、前記式（ｉ）で示される繰り返し単位のみからなる共役芳香族化合物を含む反応混合物を得た。 得られた共役芳香族化合物のＭｗは１３１，２００、Ｍｎは４５，７００であった。

＜実施例３３＞
冷却装置を備えたガラス製反応容器に、窒素雰囲気下、室温で、臭化ニッケル４．６ｍｇ、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジン５．８ｍｇ、４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（２，２−ジメチルプロピル）４０２．２ｍｇ、亜鉛粉末９４．３ｍｇ、及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド５ｍＬを加えた。 得られた混合物を、７０℃で４時間攪拌、反応させ、前記式（ｉ）で示される繰り返し単位のみからなる共役芳香族化合物を含む反応混合物を得た。 得られた共役芳香族化合物のＭｗは１２，６００、Ｍｎは７，４００であった。

＜実施例３４＞
実施例３３において、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、５−ジメチルフェニルシリル−２，２'−ビピリジン７．３ｍｇを用いた以外は、実施例３３と同様に実施し前記式（ｉ）で示される繰り返し単位のみからなる共役芳香族化合物を含む反応混合物を得た。 得られた共役芳香族化合物のＭｗは４９，７００、Ｍｎは２０，２００であった。

＜実施例３５＞
冷却装置を備えたガラス製反応容器に、窒素雰囲気下、室温で、臭化ニッケル３０．６ｍｇ、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジン３８．４ｍｇ、２，７−ジブロモ−９，９−ジドデシル−９Ｈ−フルオレン４６２．５ｍｇ、亜鉛粉末９１．６ｍｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド３．５ｍＬ及びトルエン１．５ｍＬを加えた。 得られた混合物を、７０℃で４時間攪拌、反応させ、下記式

＜実施例３６＞
冷却装置を備えたガラス製反応容器に、窒素雰囲気下、室温で、臭化ニッケル４５．９ｍｇ、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジン５７．５ｍｇ、２，５−ジクロロ−４'−フェノキシベンゾフェノン２４０．２ｍｇ、亜鉛粉末９１．６ｍｇ及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド５ｍＬを加えた。 得られた混合物を、７０℃で４時間攪拌、反応させ、下記式

＜実施例３７＞
冷却装置を備えたガラス製反応容器に、窒素雰囲気下、室温で、臭化ニッケル４５．９ｍｇ、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジン５７．５ｍｇ、２，５−ジクロロ−１−デシルオキシベンゼン２１２．３ｍｇ、亜鉛粉末９１．６ｍｇ及びＮ−メチル−２−ピロリドン３ｍＬを加えた。 得られた混合物を、７０℃で４時間攪拌、反応させ、下記式

＜実施例３８＞
冷却装置を備えたガラス製反応容器に、窒素雰囲気下、室温で、臭化ニッケル２２．９ｍｇ、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジン２８．８ｍｇ、亜鉛粉末１０５．３ｍｇ、４，４'−ジクロロビフェニル−２，２'−ジスルホン酸ジ（２，２−ジメチルプロピル）４０２．２ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド３ｍＬに溶解させて得られた溶液及び下記式（ｉｉ）

で示されるセグメントとからなる共役芳香族化合物を含む反応混合物を得た。 得られた共役芳香族化合物のＭｗは３５９，８００、Ｍｎは１０６，５００であった。

＜実施例３９＞
実施例３８において、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、５−ジメチルフェニルシリル−２，２'−ビピリジン３６．６ｍｇを用いた以外は、実施例３８と同様に実施し、前記式（ｉ）で示される繰り返し単位と前記式（ｉｉｉ）で示されるセグメントとからなる共役芳香族化合物を含む反応混合物を得た。 得られた共役芳香族化合物のＭｗは３７１，９００、Ｍｎは１０９，５００であった。

＜実施例４０＞
実施例３８において、式（ｉｉ）で示されるスミカエクセルＰＥＳ ３１００Ｐに代えて、下記式（ｉｖ）

で示されるセグメントとからなる共役芳香族化合物を含む反応混合物を得た。 得られた共役芳香族化合物のＭｗは３５１，６００、Ｍｎは９４，５００であった。

＜実施例４１＞
実施例４０において、５−トリメチルシリル−２，２'−ビピリジンに代えて、５−ジメチルフェニルシリル−２，２'−ビピリジン３６．６ｍｇを用いた以外は、実施例４０と同様に実施し、前記式（ｉ）で示される繰り返し単位と前記式（ｖ）で示されるセグメントとからなる共役芳香族化合物を含む反応混合物を得た。 得られた共役芳香族化合物のＭｗは３７２，１００、Ｍｎは９７，２００であった。

本発明の新規なビピリジン化合物は、第９族、第１０族又は第１１族遷移金属化合物と接触させることにより、新規な遷移金属錯体に導くことができ、該遷移金属錯体を用いることにより、共役芳香族化合物をよりに有利に製造することができる。