Apparatus and method for creating and testing pre-formulation, and system therefor

（関連特許出願の引用）
本出願は、米国仮出願第６０／３１１，３３２号（２００１年８月１０日出願；その開示は、その全体が本明細書中に参考として援用される）の利益を主張する。

（発明の技術分野）
本発明は、事前処方物（ｐｒｅ−ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ）または多形体についての研究分野に関する。 より詳細には、本発明は、塩および多形体形態の薬物候補の並行合成を実施およびスクリーニングするための装置および方法に関する。

（発明の背景）
コンビナトリアルケミストリーは、薬物の発見プロセスを刷新した。 例えば、２９ Ａ
ｃｅ． Ｃｈｅｍ． Ｒｅｓ． １−１７０（１９９６）；９７ Ｃｈｅｍ． Ｒｅｖ． ３４９−
５０９（１９９７）；Ｓ． Ｂｏｒｍａｎ，Ｃｈｅｍ． Ｅｎｇ． Ｎｅｗｓ ４３−６２（１
９９７年２月２４日）；Ａ． Ｍ． Ｔｈａｙｅｒ，Ｃｈｅｍ． Ｅｎｇ． Ｎｅｗｓ ５７−６
４（１９９６年２月１２日）；Ｎ． Ｔｅｒｒｅｔ，１ Ｄｒｕｇ Ｄｉｓｃｏｖｅｒｙ
Ｔｏｄａｖ ４０２（１９９６）を参照のこと。 コンビナトリアルケミストリーは、薬物発見における障害をかなり除去したが、販売する薬物を得ることにおいて他の障害が出現した。 １つのこのような障害は、このような薬物における活性な薬学的成分の塩の選択である。 別の障害は、薬物候補の多形体および偽多形体の同定である。

化合物の塩はしばしば、その化合物自体よりも上昇した水溶性およびより高い融点を含め、薬物候補に望ましい特徴を有する。 さらに、薬物候補の異なる塩は、互いに異なりかつ別個の物理的特性を有し得る。 例えば、化合物の異なる塩は、異なる融点もしくは溶解度を有し得るか、または異なる形態におよび／もしくは異なる条件下で結晶化し得る。 薬物候補についての伝統的な塩の選択は、化合物の多数の異なる塩を混合し（例えば、時々、合成するまたは処方するといわれる）、この塩を多数の異なる条件下で再結晶して結晶形態を生成し、次いで、この塩を特徴付けすることを必要とする。 このプロセスは、時間がかかる。 なぜなら、所望の特徴を有する塩を同定するために何回も繰り返されなければならないからである。

異なる塩の薬物候補は異なる特性を有するだけでなく、塩または中性化合物の異なる多形体はまた、異なる物理的特徴をも有し得る。 製薬産業界において公知であるように、活性な薬学的成分の多形体状態は、薬物の生物学的プロフィールを変更し得る。 産業ジャーナルは、この話題についての完全な特集号であるＯｒｇａｎｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ Ｒｅ
ｓｅａｒｃｈ ＆ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ（第４巻，第５号，２０００、そして特に３
７０−４３５頁）を刊行し、この号はとりわけ、多形および結晶化の問題が、多くの産業および薬学的化合物（爆薬、着色化学物質および食品添加物を含む）に影響を与えることを指摘した。

伝統的な多形体の特徴付けは、中性の薬物候補または薬物候補塩を再結晶化し、この結晶を特徴付け、そしてこの結晶を既知の形態に対して比較して、多形体を同定することを必要とする。 これらの工程は、所定の中性の化合物または薬物候補塩の多形体の全てを同定するために、何回も繰り返されなければならない。 従って、多形体の特徴付けは有利であり、そしていくつかの場合には必要であるが、多形体を同定および単離する伝統的方法は退屈であり得る。 新たな多形体を結晶化することはしばしば、種々の重要なパラメーター（例えば、温度、溶媒および溶媒混合物、混合時間、冷却速度、攪拌速度、ならびに沈澱、冷却、エバポレーション、スラリーおよび熱サイクリングのための濃度および方法およびプロセス）の影響を分析する数百〜数千の実験を必要とする。

Ｏｒｇａｎｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ Ｒｅｓｅａｒｃｈ ＆ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔの特集号における１つの参考文献は、薬学的に活性な化合物の潜在的な塩のスクリーニングのための特定の技術の使用を開示する。 本明細書中に参考として援用される、Ｂａｓｔｉ
ｎら、「Ｓａｌｔ Ｓｅｌｅｃｔｉｏｎ ａｎｄ Ｏｐｔｉｍｉｓａｔｉｏｎ Ｐｒｏｃ
ｅｄｕｒｅｓ ｆｏｒ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｎｅｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｅ
ｎｔｉｔｉｅｓ」，Ｏｒｇａｎｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ Ｒｅｓｅａｒｃｈ ＆ Ｄｅｖｅ
ｌｏｐｍｅｎｔ ２０００，４，４２７−４３５。 この論文は、異なる溶媒における異なる塩のアレイについてのライブラリーの設計を開示する。 この参考文献は、事前処方物プロセスをスピードアップする時点での開始を開示するが、並行したスクリーニングまたは高処理能力の研究によって結晶学的多形体を得ることはできない。

さらに、高処理能力または組み合わせ物質科学の分野において公開されたいくつかの特許出願は、プロセスにおいて作製される物質が、この物質を合成したのと同じプレートでスクリーニングされ得るプロセスを開示する。 例えば、ＷＯ ９９／５９７１６は、取り外し可能なリアクタベースプレート上に固体を作製し、そしてこの固体のＸ線分析を行うことを開示し、そして請求する。 ＷＯ ０１／３４２９０およびＷＯ ０１／３４２９１
は、サンプルの処理工程も調製工程も移動工程も必要とせずに、調製ステーション、スクリーニングステーションおよび特徴付けステーションの間を移動し得るアレイを用いた報告によれば、「ワークステーション」に関する。 ＷＯ９６／１１８７８はまた、基板上での物質の並行特徴付けおよびスクリーニングを開示する。

ＷＯ ０１／５１９１９はまた、報告によれば、多様な固体形態の形成、同定および分析のための高処理能力方法に関する；しかし、この出願におけるこの方法は、極めて広範かつ曖昧であり、その結果、この刊行物は、高処理能力の方法を示唆することを超える解決策を提供することなく、多くの問題を同定するのに役立つのみである。 他の刊行物は、
報告によれば、多形体を分析する方法を開示する。 例えば、ＷＯ ０１／８２６５９は、
Ｘ線回折を使用して多形体をスクリーニングする方法を報告する。 この刊行物は、多形体について獲得されたＸ線回折パターンを比較し得、そしてこれを化合物の既知の多形体のＸ線回折パターンと比較し得ることを報告する。 しかし、この刊行物は、多形体サンプルを迅速に作製するための方法も、多形体比較を薬物の発見に使用する方法も開示していない。

コンビナトリアルケミストリーを介した、製薬産業における薬物発見の迅速なプロセスを考慮すると、一般に、薬物候補によって形成される多形体の研究、発見および開発のための、コンビナトリアルなまたは高処理能力の方法および装置についての必要性が産業に存在する。 しかし、引用された研究にもかかわらず、事前処方物の系統的な高処理能力研究のためのプロセスは、直接的には開示されていない。

（発明の要旨）
本発明は、薬物候補を特徴付ける必要性に取り組む普遍的系を提供することによってこの問題に取り組む。 この系はとりわけ、ライブラリーの作製、塩の選択、多形体の特徴付け、ならびに種々の反応選択肢およびスクリーニング選択肢を用いて薬物候補の物理的特性を同定および特徴付けするための他の高処理能力方法を提供する。

特に、本発明は、薬物候補の塩および／または薬物候補の結晶構造（例えば、多形体）
のコンビナトリアルなまたは高処理能力の調製、スクリーニングおよび特徴付けを実施するための方法、システムおよび装置を提供する。 これらの方法、システムおよび装置は、
処方に適切な形態の活性成分を見出すために必要とされる時間を減少させ、そしてさらなる形態の活性な薬学的成分を発見するのを可能にし、このことは、特許の有効範囲がさらに広がること、薬学的開発のより後の段階で望ましくない多形体が出現する危険性を減少させること、または競合者が関連形態を発見する危険性を減少させることを可能にし得る。 さらに、本明細書において開示される新規の装置および方法は、複数の異なる薬物候補が、並行して処方され、結晶化され、そして特徴付けされることを可能にし、それによって、薬学的研究組織化などのための高処理能力の方法論を作製する。

１つの局面では、本発明は、薬物候補から、潜在的に活性な薬学的成分（ＡＰＩ）を同定および特徴付けするプロセスを増強する作業の流れを提供する。 本発明の１つの実施形態では、目的の薬物候補の塩は、高処理能力および／またはコンビナトリアル方法を用いて処方される。 次いで、薬物候補塩は、種々のパラメーターまたは特性（これは、溶解度、分配係数（ｌｏｇ Ｐ）、結晶性、吸湿性、ラマンスペクトルパターン、Ｘ線回折（Ｘ
ＲＤ）パターンおよび融点を含み得るがこれらに限定されない）を決定するようにスクリーニングされる。 次いで、スクリーニングから得られたデータが分析されて、適切な薬物候補塩が同定される。 好ましい実施形態では、処方、スクリーニングおよび分析は、自動化される。 さらに、作業の流れは、本明細書中に記載される装置を用いて実施され得る。
別の実施形態では、適切な塩が迅速に同定され得るようにデータが作成されるのと同時に分析が実施される。 作業の流れは、適切な塩が選択された後に終了され得る。 好ましい実施形態では、次いで、この適切な塩は、多形体処方、特徴付けおよび分析に供される。

別の局面では、本発明は、高処理能力でかつコンビナトリアルな方法を使用して、目的の薬物候補の多形体および／または偽多形体を結晶化、特徴付けおよび分析する。 多形体を作製および分析することは、塩選択後に直接続き得るか、または既存の薬物候補を用いて実施され得る。 薬物候補は、中性化合物、酸性化合物もしくは塩基性化合物であり得るか、または薬物候補塩であり得る。 １つの実施形態では、薬物候補は、高処理能力および／またはコンビナトリアル方法を用いて種々の条件下で再結晶化される。 次いで、薬物候補結晶をスクリーニングして、この結晶の多数の特徴（とりわけ、溶解度、ｌｏｇ Ｐ、
結晶性、融点、吸湿性、結晶形態および複屈折、ならびにＸ線回折、赤外（ＩＲ）分光法、近ＩＲ分光法およびラマン分光法を含むがこれらに限定されない）が決定される。 次いで、スクリーニングから得られたデータを分析して、再結晶化された薬物候補の結晶構造が同定される。 次いで、再結晶化された薬物候補の多形体は、多形体の結晶構造に従って分類され得る。 好ましい実施形態では、多形体の再結晶化、スクリーニングおよび分析は自動化され、そして本明細書中に記載される装置を用いて実施され得る。 別の好ましい実施形態では、異なる多形体およびこれらを生成した条件が迅速に同定され得るようにデータが作製されるのと同時に分析が行われる。

本発明はさらに、塩選択または多形体作製のための溶媒を選択するための方法を提供する。 本発明はさらに、高処理能力塩の調製、再結晶化、溶解度分析、ラマンスペクトル分析およびＸ線回折スペクトル分析、ならびに融点決定のための装置を提供する。 本発明はまた、塩の選択方法および多形体の特徴付け方法を制御するためのハードウェアおよびソフトウェアを提供し、そしてこれらの方法の自動化高処理能力操作のためのシステムを提供する。

従って、本発明の１つの局面は、薬物候補の異なる塩を調製および特徴付けするための高処理能力方法に関する。 １つの実施形態では、複数のライブラリーメンバーを有し、かつライブラリーのメンバーの各々を酸、塩基または塩と並行して反応させて少なくとも１
つの薬物候補の異なる塩の異なる塩（例えば、錯塩または中性物）を形成させるライブラリーが提供され、ここで、各ライブラリーメンバーは、少なくとも１つの薬物候補を含む。 １つの実施形態では、各ライブラリーのメンバーは、溶媒をさらに含み得る。 好ましい実施形態では、第一のライブラリーは、第一の基板上の領域において少なくとも８つのメンバーから構成され、ここで、この少なくとも８つのメンバーは、少なくとも１つの薬物候補を、０．０５ｍｇと５０ｍｇとの間のサンプル量で含み、この少なくとも８つのメンバーの各々は、酸、塩基または塩と並行して反応して、少なくとも１つの薬物候補の異なる塩を形成する。

別の好ましい実施形態では、薬物候補は、１０ｍｇ未満の量で存在する。 さらなる実施形態では、塩は、熱い溶液のアリコートの冷却、エバポレーション、沈殿、スラリーまたは溶媒勾配によって、結晶としてガラスマイクロタイタープレート中で産生される。

１つの実施形態では、薬物候補塩は、結晶構造を形成する。 薬物候補塩の結晶および上清または母液は、塩の反応工程後、一緒のままにされ得るか、または互いに分離され得、
その結果、結晶は、代表的に基板上に領域に存在し、その結果、結晶は個々にスクリーニングされ得る。 この方法はさらに、結晶が基板上に存在しながら、この結晶をスクリーニングして新たな形態を同定すること、ならびに異なる溶媒の各々または溶媒混合物において１以上の薬物候補塩の溶解度について上清または母液をスクリーニングすることを提供する。

一般に、塩は、例えば、複屈折、融点、溶解度、吸湿性、ラマン分光法パターン、結晶の形態、Ｘ線回折パターン、赤外、近赤外または任意の他の適切な試験などの種々の試験を用いて、少なくとも２つの特性についてスクリーニングされる。 別の実施形態では、塩は、少なくとも３つの特性、４つの特性または５つの特性についてスクリーニングされる。 １つの実施形態では、塩は、少なくとも、複屈折、融点、溶解度、ラマン分光法パターンおよびＸ線回折パターンについてスクリーニングされる。

本発明の別の局面は、選択された薬物候補の多形体の同定および／または特徴付けである。 薬物候補は、中性、酸性もしくは塩基性の化合物であり得るか、または薬物候補の塩であり得る。 １つの実施形態では、ライブラリーが提供され、そして各々が少なくとも１
つの薬物候補および少なくとも１つの溶媒を含む、複数のメンバーを含み得る。 このライブラリーのメンバーは、異なる溶媒または溶媒混合物中で基板上の複数のメンバーの各々について並行して結晶化条件に供される。 次いで、メンバーの各々をスクリーニングして、少なくとも１つの薬物候補の異なる結晶構造が同定および／または特徴付けされる。 １
つの実施形態では、このライブラリーは、少なくとも８つのメンバーを、各々０．０５ｍ
ｇ〜５０ｍｇ、好ましくは各々２０ｍｇ未満の量で含む。 さらなる実施形態では、多形体は、熱い溶液のアリコートの冷却、エバポレーション、抗溶媒による沈澱、スラリーまたは溶媒勾配によって、ガラスマイクロタイタープレートまたは他の光学的に透明な基板中で産生される。 別の実施形態では、多形体の特徴付けは、塩の選択をあらかじめ行うことなく、薬物候補または薬物候補塩を用いて実施され得る。

さらなる実施形態において、結晶構造を有する結晶と上清または母液とは、再結晶工程後にお互いに分離され、その結果、結晶は、基板上（代表的には、結晶が個々にかまたは並行してスクリーニングされ得るような領域）に残る。 この方法はさらに、結晶が基板上に残っている間に、少なくとも結晶性について結晶をスクリーニングする工程、ならびに異なる溶媒または溶媒混合物中の１つ以上の薬物候補の溶解度について上清または母液をスクリーニングする工程を提供する。 他のスクリーニング試験が、種々の試験から選択され得るが、十分な数の試験が、多形体の数を決定するために、そして／または薬物処方に適切であり得る多形体またはその塩を同定するために実施される。

結晶は、多形体を同定するのを補助する任意の物理的特性についてスクリーニングされ得る。 一般的に、少なくとも２つの特性がスクリーニングされる。 この特性は、複屈折、
融点、溶解度、吸湿性、ＩＲ分光法、近赤外分光法、ラマン分光法、結晶形態学、Ｘ線回折パターンまたは任意の他の適切なスクリーニング方法であり得る。 別の実施形態において、結晶は、多形体を同定および特徴付けするために、少なくとも３つの特性、４つの特性、または５つの特性についてスクリーニングされる。 １つの実施形態において、結晶は、少なくとも複屈折、融点、溶解度、ラマンパターンおよびＸ線回折パターンについてスクリーニングされる。

１つの実施形態において、結晶は、薬物候補またはその塩の結晶を含む光学的画像化ガラスマイクロタイタープレートまたは別の光学的に透過性の基板によって、多形体を同定および特徴付けるためにスクリーニングされ得る。 ２つの異なる光学的走査技術が使用され得る：透過および反射。 光学的透過は、光学的シグナルが一連の物質サンプルを通過する場合に生じる。 光学的反射は、光学的シグナルが物質サンプルによって反射される場合に生じる。 これらの走査技術はいずれも、結晶固体が存在するか否かを決定し、ならびに任意の結晶の特徴（サイズまたは晶癖）を決定する。 １つの実施形態において、結晶は、
複屈折を測定するために（例えば、結晶性を評価するために）偏光フィルター間で光学的に画像化され得る。

別の実施形態において、結晶は、薬物候補またはその塩の不安定な溶媒化合物または水和物を検出するための上清または母液の除去前および除去後に、複屈折測定によって分析される。 さらなる実施形態において、光学的に透過性の基板の個々のウェルまたは領域は、結晶の晶癖およびサイズを決定するために（直交偏光プレートを用いてかおよび用いずに）拡大して画像化され得る。 なお別の実施形態において、散乱光測定を使用して、結晶構造が存在するか否かを決定し得る。 別の実施形態において、結晶構造は、ガラスマイクロタイタープレートまたは他の基板上に形成される結晶を特徴付けるための、ラマン回折分光法、ＩＲ回折分光法、近赤外線回折分光法またはＸ線回折分光法を含むがこれらに限定されない、これらのスペクトル特性によって特徴付けられ得る。 好ましい実施形態は、
ラマン回折分光法および／またはＸ線回折分光法を含む。 本発明はまた、アレイに含まれる多形体および／または溶媒化合物もしくは水和物を同定するためのスペクトルデータを分析するためのソフトウェアを使用する方法を提供する。 １つの実施形態において、光学的画像化測定（例えば、複屈折または結晶形態学）、およびスペクトル測定（例えば、ラマン回折およびＸ線回折）は、基板からの物質の移動なく、同じサンプルについて行われる。

別の実施形態において、結晶構造は、領域または容器への光学経路を有するガラス基板上および／または装置中で形成され、その結果、光学測定（本明細書中でときどき「インサイチュ」測定といわれる）は、結晶構造が形成される間に行われ得る。 この結晶構造は、複屈折、ラマンスペクトルパターン、ＩＲパターン、近赤外パターン、および／または光散乱を含むがこれらに限定されない、これらの光学特性またはスペクトル特性によって特徴付けられ得る。 いくつかの実施形態において、本明細書中に記載される装置は、これらのインサイチュ測定のために使用され得る。

別の局面において、結晶の融解温度は、決定され得る。 この方法は、融点および／または他の相転移（溶媒和された結晶からの溶媒または水の分子の喪失を含むがこれらに限定されない）を決定するために、複屈折、散乱、他の光学測定を行なう間に、異なる結晶化条件下で結晶化した薬物候補を含むガラスマイクロタイタープレートまたは他の基板を加熱する工程を包含する。 好ましい実施形態において、結晶の融点は、並行融点装置を使用して決定される。

別の局面において、本発明は、親のセットの溶液から「娘化（ｄａｕｇｈｔｅｒｉｎｇ
）」することによって、複数のコピーのアレイを作製することに関する。 従って、１つの実施形態において、本発明は、娘ライブラリーを使用して薬物候補を試験するための方法に関し、この方法は、第１の基板上の領域に複数のメンバーを含むライブラリーを形成する工程であって、ここで、メンバーの各々は、少なくとも１つの薬物候補および異なる溶媒または溶媒混合物を含む、工程；このメンバーを複数の第２の基板に娘化して、複数の娘ライブラリーを形成する工程；ならびにこの娘ライブラリーを、異なる結晶化方法（例えば、溶媒エバポレーションおよび溶媒沈澱）および／または異なる結晶化パラメーター（例えば、異なる温度または異なる冷却速度）のような異なる結晶化条件に供する工程を包含する。 別の実施形態において、娘ライブラリーは、同一結晶のセットが、破壊的な測定（例えば、融点、吸湿性）で使用され得るように構築される。 別の実施形態において、
娘ライブラリーは、ライブラリーを保存するために構築される。

本発明の種々のアセンブリおよびコンピュータソフトウェアは、多形体を同定および特徴付けるための融通のきく仕事の流れへと組み合わされ得る。 同様に、本発明はまた、異なる薬物候補の塩を同定および特徴付けるために融通のきく仕事の流れを提供する。

別の局面において、本発明は、溶媒アレイに関し、ここで、この溶媒アレイは、溶媒パラメーターの分析に基づいてある程度の多様性を達成するように選択される。 溶媒の物理的特性および化学的特性または他の特徴を使用して、これらの物理的特性または物理的特徴の類似点に基づくセットに、これらの溶媒をグループ化する。 物理的特性もしくは化学的特性または物理的特徴もしくは化学的特徴の数ならびに溶媒および溶媒混合物がクラスター化する群の数は、所定の実験またはアッセイについての溶媒アレイ中の多様性の型および程度を決定する。 この多様な溶媒アレイは、本明細書中に記載される塩選択方法および多形体生成方法において使用され得る。 本発明はまた、本発明の方法およびシステムにおける溶媒アレイの使用を実行するためのソフトウェアに関する。

別の局面において、本発明は、スクリーニングのために塩または結晶のアレイを調製するために使用され得る装置に関する。 この装置は、少なくとも２つの異なるアセンブリ、
しかし好ましくは、少なくとも３つの異なるアセンブリを備え、好ましくは、異なるアセンブリ間に交換可能な部分を有する。 １つの実施形態において、この装置は、少なくとも２つのアセンブリを備え、該アセンブリの１つは、薬物候補の塩を再結晶化および／または合成するために薬物候補を可溶化するためのアセンブリ（リアクタアセンブリ）であり、そして該アセンブリの１つは、化合物を結晶化するためのアセンブリ（結晶化アセンブリ）である。 別の実施形態において、この装置は、３つのアセンブリを備え、これらとしては、リアクタアセンブリ、フィルタリングアセンブリおよび結晶化アセンブリが挙げられる。 さらに、１つ以上のアセンブリ（例えば、フィルタリングアセンブリ）が別々に提供される。

１つの局面において、リアクタアセンブリは、複数のレセプタクルのアレイを有するリアクタベースを備え得る。 これらのレセプタクルの各々は、そこに含まれる物質の相互連絡を妨げるために互いに孤立している。 １つの実施形態において、リアクタベースは、リアクタベースに埋め込まれた熱センサーおよびリアクタベースを取り囲む熱ブロックを備える。 この熱ブロックの温度は、コンピュータ制御され得る。 リアクタアセンブリは、リアクタベース中に位置する複数のレセプタクルに、少なくとも１つの対象（例えば、球または撹拌フリー（ｓｔｉｒｒｉｎｇ ｆｌｅａ））を分配する分配アセンブリと組み合わせて使用され得る。

別の局面において、フィルタリングアセンブリは、複数のレセプタクルおよびろ過サブアセンブリのアレイを含むリアクタベースを備える。 このろ過サブアセンブリは、複数の対の穴を備え、ここで、穴の各対は、リアクタベース中のレセプタクルに関連する。 １つの穴は、液体を関連するレセプタクルに堆積する前に、液体をろ過するために使用され得る。 他の穴は、フィルターを通過させる必要なく、関連するレセプタクルへのアクセスを提供するために使用され得る。 穴の各対は、穴の他の対の間での流体または蒸気の相互連絡を妨げるように互いに孤立し得る。 孤立は、ろ過サブアセンブリ中に提供されるＯリングを使用して達成され得る。 詳細には、Ｏリングは、大きいＯリングおよび小さいＯリングを含むように構築され得る。 大きいＯリングは、対間の孤立を提供するために穴の各対を取り囲み得る。 小さいＯリングは、穴間孤立を提供するために対の穴の１つを取り囲み得る。

別の局面において、結晶化アセンブリは、光学的に透過性の基板を含むリアクタを備える。 このリアクタは、基板上の領域に対応する複数のスルーホールを備え得る。 このスルーホールは、各スルーホールが孤立するようにシールされ得る。 １つの実施形態において、結晶が基板上に形成された後、この基板は、取り出され、スクリーニング試験に供され得る。

別の局面において、本発明は、結晶または他の固体の融点を決定し得る装置に関する。
１つの実施形態において、この融点装置は、熱チャンバーおよび画像走査デバイスを備える。 一連の物質（例えば、結晶）を支持する光学的に透過性の基板は、熱チャンバー内に含まれ得る。 この熱チャンバーは、基板上の結晶を徐々に加熱するために所定の速度（例えば、１分当り１℃）で基板を加熱し得る。 基板が加熱されるにつれて、画像走査デバイスは、基板上の各物質サンプルに光学シグナルを提供し、そして存在する場合、結晶が溶解するかもしくは相変化するか、または結晶が組成を変化させるか否か（すなわち、水または溶媒分子の喪失）を決定する。

画像走査デバイスは、基板上の結晶がいつ融解するかを決定するために、複屈折画像化、光散乱、または他の光学的走査技術を使用し得る。 複屈折画像化は、一連の光エミッター、偏光フィルターおよび光検出器を使用して達成され得る。 好ましい実施形態において、画像走査デバイスは、コンピュータ制御される。 さらに、このコンピュータはまた、熱チャンバーの温度が増加する速度を制御し得る。 従って、温度および複屈折画像化の組み合わせは、本発明が、各結晶が融解するかもしくは相変化する温度、または結晶が組成を変化させるか否かを正確に検出することを可能にする。

別の局面において、本発明は、本発明に関連する種々の装置を制御するためのハードウェアおよびソフトウェアに関する。 このハードウェアおよびソフトウェアは、リアクタアセンブリ、フィルタリングアセンブリおよび／または結晶化アセンブリへの液体の分配を制御し得る。 例えば、本発明は、リアクタアセンブリに物質を分配する自動化ピペットシステムを制御し得る。 １つの実施形態において、このハードウェアおよびソフトウェアは、ライブラリー設計ソフトウェアと一体化され得る。

さらに、本発明は、本発明の多形体の特徴付け方法または塩選択方法の間に得られた結晶の１つ以上の物理的特性を特徴付けおよび分析するためのハードウェアおよびソフトウェアに関する。 １つの実施形態において、このソフトウェアは、１つ以上のこれらの物理的特性における類似性に基づいて化合物のファミリーに、この結晶をグループ化する。 結晶をファミリーにグループ化するために使用される物理的特性は、ユーザーによって定義され得るか、そして／または以前の特徴付け実験から得られ得る。 さらに、異なる多形体または塩は、ユーザー定義の偏差内の１つ以上の目的の物理的特性についての互いに対する類似性に基づいて、ファミリーにグループ化され得る。 異なるファミリーは、同じまたは異なる偏差に基づいてユーザーによって定義され得る。 このソフトウェアは、スクリーニング実験から得られたデータの迅速な分析を可能にし、そしてハイスループット法を提供する。

多形体をファミリーに分類するために使用され得る物理的特性としては、結晶の形状、
融点および結晶のスペクトル特性が挙げられるが、これらに限定されない。 好ましい実施形態において、多形体をファミリーに分類するために使用される物理的特性は、多形体の特徴付けの間に得られる結晶のスペクトルである。 １つの実施形態において、このスペクトルは、ラマン回折分光法、赤外（ＩＲ）回折分光法、近赤外回折分光法またはＸ線回折分光法によって得られ得、ここで、ソフトウェアは、スペクトルを多形体ファミリーに分類し、そしていくつかの実施形態において、この分類は、パターンマッチングに基づく。
従って、異なる多形体は、ユーザー定義の偏差内で互いに対するこれらのスペクトル類似性に基づいてファミリーにグループ化され、異なるファミリーは、ユーザーによって定義される。

別の局面において、本発明は、少なくとも１つの薬物候補由来の塩を作製および特徴付けるためのシステムに関する。 １つの実施形態において、このシステムは、物質の分配、
加熱、およびスクリーニングを制御するコンピュータを備え得る。 このコンピュータは、
薬物候補および１つ以上の酸または塩基をレセプタクルに分配して混合物を提供するロボット装置を制御し得る。 一旦、この混合物が、リアクタアセンブリ中に存在すると、リアクタアセンブリを収納する温度制御されたハウジングは、する所定の温度にリアクタアセンブリを供して、混合物中に含まれる薬物候補の分解を促進し得る。

別の局面において、本発明は、多形体を作製および特徴付けるハイスループット様式で薬物候補を試験するシステムに関する。 １つの実施形態において、このシステムは、複数の混合物を含むように構成されたリアクタアセンブリを備える。 このシステムはまた、基板上の結晶化した化合物を含むように構成された結晶化アセンブリを備え得る。 さらに、
このシステムは、例えば、リアクタアセンブリ、ろ過アセンブリ、または結晶化アセンブリのようなアセンブリを含むように構成された温度制御されたハウジングを備え得、そしてこのアセンブリを所定の温度に供し得る。 このシステムはまた、温度制御ハウジングを制御し、そしてスクリーニングデバイスからデータを得るコンピュータを備え得る。 このコンピュータは、任意の多形体が形成されたか否かを決定するデータを分析し、そしてこの多形体を適切なファミリーに分類する。 したがって、本発明は以下を提供する。
（１）薬物候補から形成された多形体を特徴付けるために、該薬物候補の高スループット試験を
実行するためのシステムであって、該システムは、以下：
複数の混合物を含むように構成されたリアクタアセンブリであって、該混合物を収容す
るための複数の領域を有する、リアクタアセンブリ；
基板上に該混合物を収容するように構成された結晶化アセンブリであって、該混合物は
少なくとも１つの結晶構造を提供するための結晶化条件に供される、結晶化アセンブリ；
サブアセンブリを収納するように構成された温度制御されたハウジングであって、該ハ
ウジングは、所定の温度プロフィールで該サブアセンブリを維持する、ハウジング；
該少なくとも１つの結晶化構造に関するデータを得る、少なくとも２つのスクリーニン
グデバイスであって、該少なくとも２つのスクリーニングデバイスは、同一の基板に配置
された該少なくとも１つの結晶構造に対して測定を実行する、デバイス；ならびに
該温度制御されたハウジングを制御し、そして該スクリーニングデバイスによって得ら
れたデータを受信するコンピュータであって、該コンピュータは、多形体分類アルゴリズ
ムに得られた結晶構造データを提供し、該多形体分類アルゴリズムが、以下：
最良の相関係数を得るように、少なくとも１つの多形体ファミリーのデータと、該少な
くとも１つの結晶構造についての該データを比較するように構成され；ならびに
該少なくとも１つの結晶構造に関連する該データを、最良の相関係数および選択基準に
基づいて、該少なくとも１つの多形体ファミリーにクラスター化するように、さらに構成
される、コンピュータ
を備える、システム。
（２）実質的に純粋な混合物を前記結晶化アセンブリに提供するために、前記混合物を濾過する
フィルターアセンブリをさらに備える、項目１に記載のシステム。
（３）前記コンピュータによって制御されたロボットピペットシステムをさらに備える、項目
１に記載のシステム。
（４）仕事の流れを実施するためのシステムであって、該仕事の流れは、複数の材料を調製する
工程および試験する工程を含み、該システムは、以下：
作業面；
必要に応じて、該作業面に取り付けられた少なくとも１つのアセンブリであって、該少
なくとも１つのアセンブリは、以下：
リアクタアセンブリ；
濾過アセンブリ；および／または
結晶化アセンブリ；
を備える、アセンブリ；
該作業面に取り付けられた少なくとも１つの熱ハウジングアセンブリであって、該熱ハ
ウジングアセンブリは、該少なくとも１つのアセンブリを保持するように構成される、ハ
ウジングアセンブリ；ならびに
該作業面に取り付けられた材料処理ロボットシステムであって、該材料処理ロボットシ
ステムが、（ａ）該少なくとも１つのアセンブリに、該複数の材料を分配し、そして（ｂ
）該少なくとも１つのアセンブリから、該複数の材料から形成された複数の混合物を回収
し、それにより試験のために該複数の材料を調製するように構成された、システム
を備える、システム。
（５）項目４に記載のシステムであって、密閉されたレセプタクルから液体を吸引するか、ま
たは該密閉されたレセプタクルに液体を分配する場合、前記ロボット処理システムが、該
密閉されたレセプタクル内の圧力を実質的に一定に維持するように構成される排気形針ア
センブリを備え、該排気形針アセンブリが、以下：
主軸を有する本体；
該主軸に沿ってスライドして該本体に出入りする、少なくとも１つのガイドロッド；
該少なくとも１つのガイドロッドと連絡して移動するように、該少なくとも１つのガイ
ドロッドに装着される、ガイドブロック；
該本体と該ガイドブロックとの間に張力を提供する、圧縮可能スペーサ；
該主軸に対して平行に該ガイドブロック内に結合された排気針であって、該排気針が、
該ガイドブロックの第１の側面を越えて固定された長さまで伸長し、それによって該ガイ
ドブロックを通る開放型通路を提供する、排気針；ならびに
該主軸に対して平行に該本体に結合された液体処理針であって、該液体処理針は、該ガ
イドブロックを通過するように構成される、液体処理針
を備える、システム。
（６）溶液のアレイを濾過するための濾過アセンブリであって、該アセンブリは、以下：
複数のレセプタクルを有するリアクタベース；
該複数のレセプタクルのうちの１つとそれぞれ連結される、複数の第１チャネルおよび
第２チャネルを有する濾過サブアセンブリであって、該複数の第１チャネルのうちの少な
くとも１つが、少なくとも１つのフィルター要素を備え、そして該複数の第２チャネルは
、サブフィルター要素を備えず、そして該連結されたレセプタクルへのアクセスを提供す
る、濾過アセンブリ；および
該リアクタベースに該濾過サブアセンブリを固定するフィルタカバーであって、該複数
の第１チャネルおよび第２チャネルに整列する、複数の対のホールを有する、フィルタカ
バー、
を備える、アセンブリ。
（７）項目６に記載の濾過アセンブリであって、前記濾過サブアセンブリは、以下：
前記少なくとも１つのフィルタ要素を支持する底層であって、前記複数のレセプタクル
の各１つとそれぞれ連結された１対のホールを有する、底層；
該底層に、該少なくとも１つのフィルタ要素を固定するシール層であって、該シール層
は、該底層における該対のホールと整列する対のホールを有し、該シール層は、複数のｏ
−リングを収納するようにさらに構成される、シール層；ならびに
実質的に気密なシールを形成するように、該シール層に該複数のｏ−リングを固定する
最上層であって、該シールは、他の該対の第１チャネルおよび第２チャネルから、各対の
該複数の第１チャネルおよび第２チャネルを隔離し、該最上層は、該複数の第１チャネル
および第２チャネルが提供されるように、該シール層において該対のホールと整列する対
のホールを有する、最上層
を備える、アセンブリ。
（８）前記第１の、複数の第１チャネルの各々と連結したナイフエッジリングをさらに備える、
項目６に記載の濾過アセンブリであって、該ナイフエッジリングは、それぞれ前記少な
くとも１つのフィルタ要素の各々を固定サイズに切断する、アセンブリ。
（９）少なくとも１つの溶液を結晶化するための結晶化アセンブリであって、該アセンブリは、
以下：
第１側面および第２側面を有するリアクタであって、該リアクタは複数のスルーホール
を有し、各スルーホールは該第２側面に位置するウェルを備える、リアクタ；
該ウェルに適合するように構成されるｏ−リング；
ベースカバーとともに該第２側面に固定される基板であって、該ベースカバーは、該ｏ
−リングに対して該基板を押圧し、それによって、該複数のスルーホールのうちの１つに
対応する、該基板上の隔離された領域を提供する、基板；ならびに
該複数のスルーホールの他の全てに含まれる該少なくとも１つの溶液から、該複数のス
ルーホールのうちの１つに含まれる該少なくとも１つの溶液を隔離するために、バリアシ
ートが該複数のスルーホールをシールするように、該バリアシートを該１側面に固定する
リアクタカバーであって、該複数のスルーホールの各々に対応する複数のホールを有する
、リアクタカバー
を備える、アセンブリ。
（１０）前記複数のｏ−リングが、該ｏ−リングの２次元アレイで構築される、項目９に記載の
結晶化アセンブリ。
（１１）高スループットモードにおいて材料のアレイを配合するためのリアクタアセンブリであっ
て、該アセンブリは、以下：
複数のバイアルを有するリアクタベース；
該リアクタベースの第１側面に取り付けられたバリアシートであって、穿刺可能な材料
を含む、バリアシート；
該バリアシートが該複数のバイアルの各々に含まれる該複数の該材料を隔離するために
、該複数のバイアルをシールするように、該リアクタベースに該バリアシートを固定する
リアクタカバーであって、該複数のバイアルのうちの１つに各々対応する複数のホールを
有する、リアクタカバー；ならびに
該リアクタベースの該第２側面に弾力性の層を固定するリアクタ底部であって、該弾力
性の層は、該複数のバイアル間の寸法の差異に許容範囲を提供する、リアクタ底部
を備える、アセンブリ。
（１２）前記リアクタカバーが、前記リアクタベース内に前記複数のバイアルをさらに固定する、
項目１１に記載のリアクタアセンブリ。
（１３）密閉されたレセプタクルから液体を吸引するか、または該密閉されたレセプタクルに液体
を分配する場合、該密閉されたレセプタクル内の圧力を実質的に一定に維持するように構
成される排気形針アセンブリであって、該排気形針アセンブリが、以下：
主軸を有する本体；
該主軸に沿ってスライドして該本体に出入りする、少なくとも１つのガイドロッド；
該少なくとも１つのガイドロッドと連絡して移動するように、該少なくとも１つのガイ
ドロッドに装着される、ガイドブロック；
該本体と該ガイドブロックとの間に張力を提供する、圧縮可能スペーサ；
該主軸に対して平行に該ガイドブロック内に結合された排気針であって、該排気針が、
該ガイドブロックの第１の側面を越えて固定された長さまで伸長し、それによって該ガイ
ドブロックを通る開放型通路を提供する、排気針；ならびに
該主軸に対して平行に該本体に結合された液体処理針であって、該液体処理針は、該ガ
イドブロックを通過するように構成される、針
を備える、アセンブリ。
（１４）前記圧縮可能スペーサが、スプリングである、項目１３に記載のアセンブリ。
（１５）基板上に支持される材料サンプルのアレイの融点を測定するための融点検出アセンブリで
あって、該アセンブリは、以下：
該基板を保持し、かつ該基板の少なくとも１つの領域の温度を制御する熱チャンバ；
少なくとも１つの光シグナルを該材料サンプルに提供し、そして該少なくとも１つの光
シグナルをモニタリングして、該材料サンプルの融点を決定する、光システム：および
該少なくとも１つの熱プロフィールを制御し、そしてモニタリングするために、該熱チ
ャンバに相互連絡されたコンピュータシステムであって、該コンピュータシステムはまた
、該少なくとも１つの光シグナルによって提供されるデータを得るために、該光システム
に相互連絡されている、コンピュータシステム
を備える、アセンブリ。
（１６）前記光システムが、前記材料サンプルに対する複屈折測定を実行するようにさらに構成さ
れる、項目１５に記載のアセンブリ。
（１７）前記光システムが、前記材料サンプルに対する光散乱測定を実行するようにさらに構成さ
れる、項目１５に記載のアセンブリ。
（１８）複数の結晶構造についての融点を決定するための方法であって、該方法は、以下：
光学的検出技術を用いて該複数の結晶構造をモニタリングする工程；
ユーザーが規定した速度で該複数の結晶構造を加熱する工程；および
該複数の結晶構造の各々が相転移する場合、該複数の結晶構造の各々についての温度を
記録する工程
を包含する、方法。
（１９）前記光学的検出技術が、透過性複屈折試験技術を包含する、項目１８に記載の方法。
（２０）前記光学的検出技術が、反射複屈折試験技術を包含する、項目１８に記載の方法。
（２１）前記光学的検出技術が、光散乱技術を包含する、項目１８に記載の方法。
（２２）少なくとも１つの結晶化条件に供される、複数のメンバーをモニタリングするインサイチ
ュモニタリング装置であって、該装置は、以下：
該複数のメンバーに少なくとも１つ光シグナルを伝達する光投影システム；
該複数のメンバーによって反射される該少なくとも１つの光シグナルの一部分を受信す
る光検出システムであって、該光検出システムが、インサイチュで結晶化について該複数
のメンバーをモニタリングするように構成される、システム
を備える、装置。
（２３）項目２２に記載の装置であって、前記光投影システムが、以下：
前記少なくとも１つの光シグナルを提供する、光源；
前記複数のメンバーのうちの１つに向けて該少なくとも１つの光シグナルの一部分を方
向付ける、ビームスプリッター；
該光投影システムと前記光検出システムとの間に接続された第１偏光プレートであって
、該複数のメンバーのうちの１つによって変更されない該少なくとも１つの光シグナルを
ブロックするように構成される、第１偏光プレート；
を備える、装置。
（２４）項目２２に記載の装置であって、前記光検出システムが、以下：
前記少なくとも１つの光シグナルの各々を受信する、レンズ；
結晶構造が前記複数のメンバーのいずれかで形成するか否かを決定するために、該複数
のメンバーの各々を、インサイチュでモニタリングする検出器、
を備える、装置。
（２５）インサイチュで、少なくとも１つの結晶化条件に供される複数のメンバーをモニタリング
するための方法であって、該方法は、以下：
該複数のメンバーの結晶化を促進するために、該複数のメンバーを該少なくとも１つの
結晶化条件に供する工程；
インサイチュで該複数のメンバーをモニタリングする工程であって、該モニタリング工
程が、反射複屈折光学的検出技術または透過性複屈折光学的検出技術を用いて実施される
、工程；および
該複数のメンバーのいずれかが結晶化したか否かの指標を提供するために、該モニタリ
ングからデータを得る、工程、
を包含する、方法。
（２６）項目２５に記載の方法であって、前記モニタリング工程が、以下：
前記複数のメンバーに少なくとも１つの光シグナルを提供する工程；
該複数のメンバーから該少なくとも１つの光シグナルを反射させる工程であって、該少
なくとも１つの光シグナルは、該複数のメンバーが少なくとも１つの結晶構造を含む場合
、少なくとも１つの変更された光シグナルになる、工程；および
該少なくとも１つの変更された光シグナルを検出する工程、
を包含する、方法。
（２７）項目２５に記載の方法であって、前記決定する工程が、前記複数のメンバーのいずれか
が結晶化したか否かを決定するために、前記データを分析する工程を包含する、方法。
（２８）多形体の生成および特徴づけのためか、または塩選択のために溶媒を選択するための方法
であって、該方法は、以下：
溶媒のライブラリーを生成するために多数の溶媒を提供する工程；
各溶媒についての１つ以上の物理学的特性または他の特徴を提供する工程；
該物理学的特性または特徴の１つ以上に対する選択基準を規定する工程であって、該選
択基準は、規定された物理学的特性または特徴に基づいて、ライブラリーが少なくとも２
つの群に分けられることを可能にする、工程；
該ライブラリーの各溶媒を該選択基準によって群に選別する工程であって、該群の各メ
ンバーが、該規定された物理学的特性または特徴について互いに類似する、工程；および
多形体の生成および特徴づけ、または塩選択を実施するために、各群から少なくとも１
つの溶媒を選択する工程
を包含する、方法。
（２９）項目２８に記載の方法であって、前記物理学的特性または特徴が、化学的分類、分子量
、密度、モル体積、融点、沸点、気化エンタルピー、ヒルデブランド溶解度パラメータ、
双極子モーメント、対数水溶性、分配係数、水中ｐＫａおよびジメチルスルホキシド中ｐ
Ｋａ、誘電率、イオン化ポテンシャル、粘度、溶媒の費用、処理費用、毒性の程度、なら
びに環境の安全性の程度からなる群より選択される、方法。
（３０）項目２８に記載の方法であって、さらに、以下：
アレイを提供する工程であって、各ウェルは薬物候補を含み、そして該アレイの各ロウ
は異なる塩反応物質を含み、ここで、該塩反応物質が、酸、塩基、アミンまたは塩溶液か
らなる群から選択される、工程；
薬物候補塩が形成される条件下で、該薬物候補と該塩反応物質とを反応させる工程；
該アレイにおけるカラムの数に等しい数の異なる溶媒を選択する工程；
各カラムが異なる溶媒を含むように該アレイの各カラムに溶媒を添加する工程であって
、該アレイの該カラムは、該アレイの前記ロウに垂直である、工程；
薬物候補の結晶または沈殿が形成され得る条件下で、該溶媒と該薬物候補塩を混合する
工程；ならびに
どの条件下で薬物候補の結晶または沈殿が形成されるかを決定する工程、
を包含する、方法。
（３１）薬物候補またはその塩から形成される多形体を特徴付けるために、該薬物候補またはその
塩の高スループット試験を実施するための方法であって、該方法は、以下：
複数のメンバーを有するライブラリーを調製する工程であって、該メンバーが、該薬物
候補またはその塩および少なくとも１つの溶媒を含む、工程；
該薬物候補またはその塩の少なくとも１つの結晶構造を生成するために、少なくとも１
つの結晶化条件に該メンバーを供する工程であって、該少なくとも１つの結晶構造が結晶
および上清を有する、工程；
該結晶の各々についてデータを得るために、該少なくとも１つの結晶構造の各々の結晶
をスクリーニングする、工程；および
該データに基づいて該結晶の各々を特徴付ける工程、
を包含する、方法。
（３２）項目３１に記載の方法であって、該特徴付ける工程が、以下：
少なくとも１つの相関係数を得るために、該少なくとも１つの多形体ファミリーのデー
タと、該結晶の各々のデータとを比較する工程；および
該少なくとも１つの相関係数および選択基準に基づいて、該少なくとも１つの多形体フ
ァミリーのうちの１つに、該結晶の各々の該データを分類する工程
を包含する、方法。
（３３）前記比較工程の前に、多形体ファミリーに、該結晶のうちの１つに関連する該データを帰
属する工程をさらに包含する、項目３２に記載の方法。
（３４）項目３１に記載の方法であって、前記スクリーニング工程が、溶解度、ｌｏｇ Ｐ、融
点、複屈折、吸湿性、赤外分光法、近赤外分光法、ラマン分光法、Ｘ線回折、ＵＶ−Ｖｉ
ｓ分光法、核磁気共鳴分光法、ガスクロマトグラフィー、および液体クロマトグラフィー
試験からなる群より選択される、少なくとも２つの試験を用いて、前記メンバーをスクリ
ーニングする工程を包含する、方法。
（３５）薬物候補について、高スループット塩選択を実行する方法であって、該方法は、以下：
複数のメンバーを有するライブラリーを調製する工程であって、各メンバーが、該薬物
候補、塩反応物質、および少なくとも１つのライブラリー溶媒を含む、工程；
薬物候補の塩を生成する条件下で、該薬物候補と該塩反応物質とを反応させる工程；
該メンバーを形成するために、該少なくとも１つのライブラリー溶媒を、該薬物候補の
塩に添加する工程；
該薬物候補の塩の少なくとも１つの結晶構造を生成する、少なくとも１つの条件下に、
該メンバーを供する工程であって、該少なくとも１つの結晶構造が、結晶および上清を有
する、工程；
データを得るために、該結晶および該上清をスクリーニングする工程であって、該デー
タが、溶解度、ｌｏｇ Ｐ、融点、複屈折、赤外分光法、近赤外分光法、ラマン分光法、
Ｘ線回折、吸湿性、ＵＶ−Ｖｉｓ分光法、核磁気共鳴分光法、ガスクロマトグラフィー、
および液体クロマトグラフィー試験からなる群より選択される、少なくとも２つを包含す
る、工程；ならびに
少なくとも１つの目的の該薬物候補の塩を選択する工程
を包含する、方法。
（３６）前記反応工程の後に、前記薬物候補の塩を単離する工程をさらに包含する、項目３５に
記載の方法。
（３７）前記添加する工程の後に、該メンバーを濾過する工程をさらに包含する、項目３５に記
載の方法。
（３８）薬物候補またはその塩の、少なくとも１つの結晶した構造から溶解度データを得るための
方法であって、該方法は、以下：
該少なくとも１つの結晶構造を形成するための結晶化条件に、材料のアレイを供する工
程であって、該結晶構造は、結晶および上清を含む、工程；
該結晶が基板上に残留するように、該少なくとも１つの結晶構造から該上清を抽出する
工程；
溶解度データを得るために、該上清を溶解度度試験に供する工程；
結晶データを得るために該結晶をスクリーニングする工程；ならびに
該溶解度データおよび該結晶データに基づいて、新規の多形体ファミリーまたは少なく
とも１つの多形体ファミリーのいずれかに、該少なくとも１つの結晶構造を分類する工程
；
を包含する、方法。
（３９）項目３８に記載の方法であって、前記溶解度試験が、液体クロマトグラフィー、薄層ク
ロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、赤外、蛍光、ｌｏｇ Ｐ、および紫外吸収
からなる群より選択される試験技術を使用する工程を包含する、方法。
（４０）項目３８に記載の方法であって、前記スクリーニング工程が、融点、複屈折、吸湿性、
赤外分光法、近赤外分光法、ラマン分光法、Ｘ線回折、ＵＶ−Ｖｉｓ分光法、核磁気共鳴
分光法、およびガスクロマトグラフィーからなる群より選択される試験を用いて、前記結
晶をスクリーニングする工程を包含する、方法。
（４１）薬物候補またはその塩から形成される複数の結晶構造を試験および分類するための方法で
あって、該方法は、以下：
該複数の結晶構造を調製する工程；
該結晶構造に関するデータを得るために、少なくとも２つの異なるスクリーニング技術
を用いて、該複数の結晶構造をスクリーニングする工程；
少なくとも１つの相関係数を得るために、該少なくとも１つの多形体ファミリーのデー
タと、該結晶構造の各々の該データとを比較する工程；ならびに
該少なくとも１つの相関係数および選択基準に基づいて、該少なくとも１つの多形体フ
ァミリーのうちの１つに、該結晶構造の各々の該データを分類する工程
を包含する、方法。
（４２）項目４１に記載の方法であって、前記調製する工程が、以下：
前記複数のライブラリーメンバーを調製する工程であって、該ライブラリーメンバーの
各々が、前記薬物候補またはその塩を含む、工程；および
前記複数の結晶構造を生成する、少なくとも１つの条件下に、該ライブラリーメンバー
を供する工程
を包含する、方法。
（４３）複数の結晶構造を分類するための方法であって、該方法は、以下：
少なくとも１つの多形体ファミリーを提供する工程；
該複数の結晶構造のうちの１つを選択する工程；
該少なくとも１つの多形体ファミリーの各々と、該選択した結晶構造とを比較する工程
であって、該比較により相関係数が生成される、工程；
生成された各々の相関係数のうちから、最良の該相関係数を得る工程；
該最良の相関係数に基づいて、（ａ）該少なくとも１つの多形体ファミリーまたは（ｂ
）新規の多形体ファミリーのいずれかに、該選択した結晶構造を分類する工程
を包含する、方法。
（４４）前記提供する工程が、前記少なくとも１つの多形体ファミリーに、該複数の結晶構造のう
ちの１つを帰属する工程をさらに包含する、項目４３に記載の方法。
（４５）前記提供する工程が、データベースから該少なくとも１つの多形体ファミリーを得る工程
を包含する、項目４３に記載の方法。
（４６）薬物候補またはその塩から形成される結晶構造を特徴付けるために、該薬物候補またはそ
の塩の高スループット試験を実施するための方法であって、該方法は、以下：
複数のメンバーを調製する工程であって、該メンバーの各々が、該薬物候補またはその
塩および少なくとも１つの溶媒を含む、工程；
該薬物候補またはその塩の、少なくとも１つの結晶構造を生成するために、該メンバー
を、少なくとも１つの結晶化条件に供する工程であって、該少なくとも１つの結晶構造が
、結晶および上清を有する、工程
該結晶構造に関する少なくとも結晶化度データおよびアイデンティティデータを得るた
めに、少なくとも２つの異なるスクリーニング技術を用いて、該少なくとも１つの結晶構
造をスクリーニングする工程；ならびに
該結晶構造を特徴付ける工程
を包含する、方法。
（４７）項目４６に記載の方法であって、前記供する工程の前に、該複数の溶液の各々が、（１
）生じ得る固体を除去するために濾過する工程または（２）娘化工程あるいは（３）濾過
工程および娘化工程の両方、のいずれかに供される、方法。
（４８）薬物候補またはその塩から形成される結晶構造を特徴付けるために、該薬物候補またはそ
の塩の高スループット試験を実施するための方法であって、該方法は、以下：
複数のメンバーを調製する工程であって、該メンバーの各々が、該薬物候補またはその
塩および少なくとも１つの溶媒を含む、工程；
該薬物候補またはその塩の、少なくとも１つの結晶構造を生成するために、該メンバー
を、少なくとも１つの結晶化条件に供する工程であって、該少なくとも１つの結晶構造が
、結晶および上清を有する、工程；
該結晶構造に関する少なくとも結晶化度データおよびアイデンティティデータを得るた
めに、少なくとも２つの異なるスクリーニング技術を用いて、該少なくとも１つの結晶構
造をスクリーニングする工程；ならびに
該結晶化度データおよびアイデンティティデータに従って、該複数の結晶構造を特徴付
ける工程
を包含する、方法。
（４９）項目４８に記載の方法であって、前記供する工程の前に、該複数の溶液の各々が、（１
）生じ得る固体を除去するために濾過する工程または（２）娘化工程あるいは（３）濾過
工程および娘化工程の両方の、いずれかに供される、方法。

本発明の性質および利点をさらに理解することは、明細書の残りの部分および図面を参照することによって実現され得る。

（発明の詳細な説明）
本発明と組み合わせて使用される科学用語および技術用語は、本明細書中に見出される補足的な定義（これらは、一般的に認容されている定義の逆であるとは意図されない）を用いて、当業者によって通常理解される意味を有するべきである。 さらに、文脈によって他のように要求されない限り、単数形は複数形を含むべきであり、そして複数形は単数形を含むべきである。

本明細書中で議論される場合、活性な薬学的成分（ＡＰＩ）とは、医薬における使用に関して政府によって認可された（例えば、安全であり、そして特定の適応症に対して有効である）、特定の化合物（塩または中性化合物）である。

薬物候補とは、ＡＰＩの前駆体である。 薬物候補は、種々の毒性アッセイのもとで、活性についての種々のアッセイのもとで効力を示したか、または毒性についての種々のアッセイのもとで安全性を示したものであり得る。 本明細書中で使用される場合、薬物候補は、その化合物が調製され得るかまたは調製されるべきである形態を決定するために予備処方試験が所望される、任意の目的の化合物である。 予備処方試験は、塩の選択ならびに／
または多形体の特徴付けおよび分析を包含し得る。 本特許出願において記載される方法論またはプロセスは、ＡＰＩおよび薬物の候補に対して実施され得る。 そして当業者が理解するように、正確なＡＰＩまたは薬物の候補は、本発明に対して重要ではなく、代表的に、低分子（タンパク質に対して）またはその塩が重要である。 用語薬物候補とは、本明細書中で使用される場合、他に詳述しない限り、天然化合物またはその塩をいう。

化合物の多形体とは、本明細書中で使用される場合、１つより多くの形態で結晶化し得る化合物の結晶である。 従って、化合物の多形体とは、その化合物の異なる結晶形態をいう。 多形体はまた、擬似多形体であり得、これは、溶媒分子または水分子を含む化合物（
すなわち、それぞれ溶媒和物および水和物）の結晶であり、従って、溶媒分子または水分子を欠く結晶とは異なる。 本明細書中で使用される場合、用語多形体とは、他に詳述しない限り、多形体と擬似多形体との両方をいう。

「結晶構造」とは、本明細書中で使用される場合、溶液が結晶化する場合に形成される結晶および上清（すなわち母液）を含む。

用語「溶媒」とは、本明細書中に記載される方法において薬物候補を溶解するために使用される、液体をいう。 用語「溶媒」はまた、溶媒の混合物（すなわち、混和性であっても混和性でなくてもよい２種以上の異なる液体）を含むことが意図される。

用語「塩反応物」とは、薬物候補の塩を生成するために使用される、酸、塩基および塩をいう。 「塩反応物」は、機能的には、薬物候補と塩を形成するイオン（カチオンまたはアニオンのいずれか）を提供する物質であると定義され得る。 一般に、「塩反応物」は、
化学量論的な量で薬物候補に添加される（例えば、目的の化合物における酸性部分または塩基性部分が存在するとおよそ等数の塩反応物の塩イオンが添加される）。

「塩」とは、アニオンおよびカチオンを含む化合物と定義される；すなわち、薬物候補と酸または塩基との間にプロトン移動が存在する。 本明細書中で使用される場合、錯塩とは、薬物候補と酸または塩基との共晶である；すなわち、薬物候補と酸または塩基との間にプロトン移動が存在しない。 他に示されない限り、用語「塩」は、本明細書中で使用される場合、塩と錯塩との両方を包含する。

用語「結晶化」または「結晶化する」とは、液体溶媒から結晶が形成し、上清（時々母液と称される）をこれらの結晶の上に生成する、プロセスをいう。 結晶化とはまた、融解物または昇華から結晶が形成するプロセスをいう。 本明細書中で使用される場合、「結晶」とは、分子が規則的な繰り返し内部配置で一緒に保持されている固体である。

本明細書中で使用される場合、用語「沈澱」または「沈澱する」とは、薬物候補の混合物に抗溶媒を添加することによって固体が生成するプロセスをいう。 この固体は、結晶形態または非晶質形態のいずれかであり得る。

用語「再結晶」および「再結晶する」とは、他に示されない限り、薬物候補化合物が溶解される前に結晶であったことを意味することを意図せずに、溶液からの薬物候補化合物の結晶化を意味することが意図される。

用語「ライブラリー」とは、本明細書中で使用される場合、複数の実験、サンプルまたはメンバーをいい、ここでこれらの実験、サンプルまたはメンバーは、物理的に関連していても関連していなくてもよい。 従って、ライブラリーとは、単一の基板上、複数の基板上、または基板の一部の上のメンバーをいう。 一般に、各メンバーは、それに関連するいくつかのデータを有し、これらのデータとしては、例えば、薬物候補、塩形態、溶媒の同定、スペクトルデータ、融点、溶解度などが挙げられ得る。

本発明の目的で、用語薬物候補は、総称的に、あるプロセスにおいて開発され、そして試験されている、物質の化合物を代表するよう使用される。 さらに、本明細書中で使用される場合、用語「薬物候補」または「薬物候補化合物」は、他に示されない限り、用語「
化合物」と同義である。

本発明は、系統的に、薬物開発の予備処方プロセスの効率を増強する。 特に、この予備処方プロセスは、材料組成物を生成し、特徴付け、そして分析するプロセスとして、実施される。 このプロセスは、本発明に従って、図１に示される例示的な予備処方発見ツールシステム１００を使用して、実施され得る。 予備処方システム１００は、コンピュータ１
１０、材料処理装置１５０、材料スクリーニングデバイス１６０、およびユーザインターフェース設備１８０を備え得る。 予備処方システム１００は、複数の材料処理装置１５０
、および複数の材料スクリーニングデバイス１６０を備え得る。 しかし、材料処理デバイス１５０および材料スクリーニングデバイス１６０の各々の１つのみが、図１に示されて、図面が複雑になることを回避する。 コンピュータ１１０は、装置１５０、デバイス１６
０、およびユーザインターフェース設備に、通信パス１９０を介して接続されて示されている。 さらに、装置１５０およびデバイス１６０もまた、通信パス１９０を介して接続されている。

コンピュータ１１０は、本発明の原理に従う予備処方プロセスを実施するために実行されるプロセスを制御する。 いくつかのプロセスは、予備処方システム１００において実施され得る。 例えば、特定の薬物生成物を作製し、分析し、そしてその生成物に対して塩を選択するために、使用され得る。 他のプロセスは、化合物の異なる結晶構造（例えば、多形体）を生成し、特徴付け、そして分析するために、実施され得る。 包括的なプロセスは、溶媒のライブラリー設計で開始し、そして適切な活性薬学的成分の同定で終了するプロセスを包含し得る。 このような包括的プロセスは、例えば、塩選択プロセスを多形体プロセスと組み合わせて、所望の成分を予備処方し得る。 予備処方システム１１０において開発され、そして使用され得る、いくつかの可能なプロセスが存在するが、本発明は、２つのこのような実施形態を、図２および３において説明する。

コンピュータ１１０は、装置１５０、デバイス１６０、およびユーザインターフェース設備１８０へ、これらから、および／またはこれらの間での、データの伝達を取り扱う、
電気回路１１２（例えば、ハードドライブ、処理メモリ通信バスなど）を備え得る。 電気回路１１２は、コンピュータ１１０が、例えば、装置１５０およびデバイス１６０を制御することによって、プロセスを実施することを可能にし得る。 コンピュータ１１０は、ユーザインターフェース設備１８０からのユーザー入力に応答することによって、プロセスを開始し得る。 コンピュータ１１０はまた、プロセスの操作の間に獲得されたデータに関して、ユーザインターフェース設備１８０において、ユーザーに情報を提供し得る。

電気回路１１２は、データベース１１４からの情報を格納し、検索し、そして分散させ得る。 データベース１１４は、プロセスが作製されることを可能にする情報を格納し、そしてまた、材料組成物の分析を実施するための基礎を提供する。 例えば、データベース１
１４は、方法工程、ライブラリー設計、先のプロセスの結果、進行中のプロセスの結果、
公共に利用可能なデータ、ライブラリーの組成、記録設定、多形体ファミリーデータ、および他の適切な予備処方データのような情報を格納し得る。 データベース１１４はまた、
薬物候補および溶媒の材料特性に関する情報（例えば、分子量、密度、沸点など）を格納し得る。 他の格納される情報としては、レシピファイル、試薬、溶媒、化合物、塩、結晶、多形体、このような材料の全ての既知の特徴および特性、ならびに予備処方プロセスに適切な任意の他の情報が挙げられ得る。 データベース１１４は、新たな情報に更新され得る。 この新たな情報は、現在活性なプロセスから得られるデータから誘導され得るか、またはユーザインターフェース設備１８０を介してデータをダウンロードすることによって誘導され得る。

コンピュータ１１０は、プロセスの制御および操作を補助するソフトウェアプログラムを実行し得る。 ソフトウェアプログラムは、プロセスの予め決定された部分を自動化するために使用され得る。 例えば、ソフトウェアは、ライブラリー組成物を調製する際に、制御装置１５０を自動化し得る。 このようなソフトウェアの代表的な例は、Ｓａｎｔａ Ｃ
ｌａｒａ，ＣａｌｉｆｏｒｎｉａのＳｙｍｙｘ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｉｎｃ． から販売されている、Ｉｍｐｒｅｓｓｉｏｎｉｓｔ ^ＴＭソフトウェアである。 Ｉｍｐｒｅｓｓｉ
ｏｎｉｓｔ ^ＴＭは、２０００年１１月９日に公開された、ＷＯ００／６７０８６（これは、その全体が本明細書中に参考として援用される）に記載されている。 他のソフトウェアプログラムは、プロセスに種々の材料組成物を調製するためのテンプレートを提供する、
コンピュータによって作製された包括的ライブラリーを提供し得る。 コンピュータによって作製されたライブラリーは、所定のセットの定数のもとで比較され得る材料の全ての順列および組み合わせ手動で決定する、時間を消費する作業を有利に排除する。 ライブラリー設計ソフトウェアの代表的な例は、Ｓａｎｔａ Ｃｌａｒａ，ＣａｌｉｆｏｒｎｉａのＳｙｍｙｘ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｉｎｃ． のＬｉｂｒａｒｙ Ｓｔｕｄｉｏ（登録商標）として販売されている。 Ｌｉｂｒａｒｙ Ｓｔｕｄｉｏ（登録商標）は、２００
０年４月２７日に公開されたＷＯ００／２３９２１（これは、その全体が本明細書中に参考として援用される）に記載されている。 当業者は、いくつかのソフトウェアプログラムが、コンピュータ１１０において実行され得ることを理解する。 例えば、Ｓａｎｔａ Ｃ
ｌａｒａ，ＣａｌｉｆｏｒｎｉａのＳｙｍｙｘ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｉｎｃ． から販売されているＥｐｏｃｈ ^ＴＭソフトウェアは、装置１５０およびスクリーニングデバイス１６０のような器具を制御しそしてこれらからデータを獲得するために、使用され得る。 Ｅｐｏｃｈ ^ＴＭは、２００１年１０月２５日に公開された、ＷＯ０１／７９９４９（
これは、その全体が本明細書中に参考として援用される）に記載されている。

物質処理装置１５０は、本発明の原理に従って、特定の薬物候補の塩もしくは多形体を調製し、濾過し、そして／または結晶化させるアセンブリを提供し得る。 物質処理装置１
５０は、特定の量の物質（例えば、薬物候補、試薬など）を自動的に混合して、物質組成物を形成するように、コンピュータ１１０により（例えば、ライブラリー設計ソフトウェアを用いて）制御され得る。 これらの物質は、コンピュータ１１０により生成されるライブラリー設計に従って、混合され得る。 これらの物質が混合される場合、これらの物質は、種々の特性（例えば、溶解度、結晶性、融点温度など）を決定するために、物質スクリーニングデバイス１６０により分析され得る。

所望ならば、物質処理装置１５０はまた、結晶化プロセスを自動化するように、コンピュータ１１０により制御され得る。 例えば、コンピュータ１１０は、装置１５０に、その中にある物質組成物を、結晶化を生じる沈殿プロセスに供するように命令し得る。 この結晶化プロセスが完了した後、この物質組成物は、スクリーニングデバイス１６０によって、少なくとも結晶性について試験される。 上記の装置１５０の議論は、網羅的であることは意図されず、むしろ、物質処理装置１５０の詳細な議論は、図１３〜３０と共に以下で議論されることに注意するべきである。

物質処理装置１５０の自動制御により、本発明は、いくつかのライブラリーまたはメンバーを調製し得る。 さらに、自動制御は、手動制御により生じ得る可能性のあるエラーを軽減する。 さらに、自動制御により、本発明は、比較的小さなサンプルサイズ（例えば、
ナノリットルサイズ〜ミリリットルサイズの間の範囲）を調製し得る。 これは、有利には、この物質組成物のハイスループット調製および試験を提供する。

物質スクリーニングデバイス１６０は、物質処理装置１５０に提供される材料を分析し、そしてこの分析に基づいて、コンピュータ１１０にデータを提供する。 物質組成物の分析はまた、コンピュータ１１０により自動化および制御され得る。 物質スクリーニングデバイス１６０は、ステーション（例えば、溶解度試験ステーション、複屈折ステーション、分光法ステーション（例えば、ラマン、赤外線、Ｘ線）、融点ステーション、電磁シグナル吸収（例えば、ＵＶ−可視吸収）ステーション、分配係数（ｌｏｇ Ｐ）ステーション、吸湿性ステーション、および他の適切なデバイス）を備え得る。 これらのステーションの１つ以上は、コンピュータ１１０が特定の物質の質および特性を決定することを可能にするデータを提供し得る。 例えば、コンピュータ１１０は、物質スクリーニングデバイス１６０により測定される特性に基づいて、生成された塩の質を決定し得る。 別の例において、物質スクリーニングデバイス１６０は、物質の結晶構造についてのデータをコンピュータ１１０に提供し得る。 いくつかの物質スクリーニングデバイス１６０の詳細な説明は、以下に記載される。

ユーザーインターフェイス機器１８０により、ユーザーは、入力デバイス１８２を介して、コマンドをコンピュータ１８０に入力し得る。 入力デバイス１８２は、任意の適切なデバイス（例えば、従来のキーボード、ワイヤレスキーボード、マウス、タッチパッド、
トラックボール、音声作動型コンソル、またはこのようなデバイスの任意の組み合わせ）
であり得る。 入力デバイス１８２により、ユーザーは、コマンドを入力し、薬物の選択、
ライブラリーの構築、スクリーニングなどを実施し得る。 所望ならば、入力デバイス１８
２により、ユーザーは、物質処理装置１５０および物質スクリーニングデバイス１６０を制御し得る。 例えば、入力デバイス１８２を使用して、ユーザーは、装置１５０を、プロセスで使用する前に、較正し得る。 別の例において、ユーザーは、物質スクリーニングデバイス１６０を手動で制御して、物質処理装置１５０において処方された物質を測定し得る。 ユーザーは、予備処方システム１００で作動するプロセスをディスプレイデバイス１
８４でモニタリングし得る。 ディスプレイデバイス１８４は、コンピュータモニター、テレビジョン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ、陰極線管（ＣＲＴ）、または任意の他の適切なディスプレイデバイスであり得る。

通信路１９０は、任意の適切な通信路（例えば、ケーブルリンク、ハードワイヤリンク、光ファイバーリンク、赤外線リンク、リボンワイヤリンク、ブルートゥースリンク（ｂ
ｌｕｅ−ｔｏｏｔｈ ｌｉｎｋ）、アナログ通信リンク、デジタル通信リンク、またはこのようなリンクの任意の組み合わせ）であり得る。 通信路１９０は、コンピュータ１１０
と装置１５０とデバイス１６０とユーザーインターフェイス機器１８０との間のデータ伝達を可能にするように、構成される。 通信路１９０はまた、装置１５０とデバイス１６０
との間のデータ伝達を可能にし得る。

種々のプロセスは、予備処方システム１００で実行され得る。 プロセスは、所望の結果を達成するためのいくつかの工程または段階（例えば、塩の選択、多形体試験）を包含し得る。

多くの中性の薬学的に活性な化合物は、酸または塩基と反応して塩を形成し得る官能基（例えば、アミンまたはカルボン酸）を含む。 一般に、塩は、より水溶性であり、対応する中性の化合物より高い融点を有する傾向がある。 薬物候補についての塩の選択は、中性の化合物が適切な特性を有する場合には、必ずしも必要ではない。 しかし、薬物候補の塩は、しばしば、処方またはバイオアベイラビリティに有用な望ましい特性を有する。 中性化合物と比較した塩の望ましい特性としては、より容易に、またはより安価に精製され得る血漿、より安定であり、より濾過性であり、吸湿性が小さく、より水溶性であるか、またはより高い融点または投与のためにより有利なｌｏｇ Ｐを有する結晶を生成する塩の能力が挙げられ得る。 例えば、Ｐｈｙｓｉｃｉａｎ' Ｄｅｓｋ Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ（
２０００）に列挙される塩である薬学的化合物について、塩の中性化合物の５０％より多くが、水に対して不溶性である（これらは、１ｍｇ／ｍＬ未満の溶解度を有する）。 対照的に、対応する塩（すなわち、列挙された薬学的化合物）の２０％未満が、同様に、不溶性である。 さらに、Ｐｈｙｓｉｃｉａｎｓ' Ｄｅｓｋ Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ（２０００
）に列挙される中性塩基の３０％より多くが、１２０℃未満の融点を有し、一方、それらの対応する塩の１０％未満が、１２０℃未満の融点を有する。 しばしば、より高い融点を有することが、より容易な処方のために望まれる。

目的の薬物候補についての塩の選択は、割り当てられた時間で合理的に実施され得る実験の数に、大部分が限定される。 対イオンは薬物候補の塩の物理的特性を与えるため、同じ薬物候補の異なる塩が、異なる条件下で結晶化し、そして異なる物理的特性を有する。
従って、多数の異なる再結晶化実験を実施して、異なる薬物候補の塩の結晶を生成することが必要である。 多数の異なる薬物候補の塩を有することによって、薬物の処方および投与に最も有用な可能性のある塩を同定し得る。

以下の表１は、塩の共通のアニオンを列挙し、そして以下の表２は、塩の共通のカチオンを列挙する。

表１および２において、カウント数および合計中の％は、薬物の数、および特定のアニオンまたはカチオンが活性薬学的成分の一部として使用された合計中の割合を、Ｐｈｙｓ

ｉｃｉａｎｓ' Ｄｅｓｋ Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ（２０００）による使用される化合物の測定に基づいて示す。 イオンの累積％は、４列目に示される。 従って、表１に示されるように、活性成分の最も一般的な２つのアニオンは、塩素イオンおよび硫酸イオンであり、

２０００ Ｐｈｙｓｉｃｉａｎ'ｓ Ｄｅｓｋ Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ（ＰＤＲ）の発行の時点で、市場の薬物の７０％より多くを占める。 これは、５列目においてさらに強調され、これはこの上位２つのアニオンが、現時点で市場の薬物の７１％を占め、上位４つのアニオンが７９％を占め、上位８つのアニオンが９０％を占め、そして上位１２のアニオンが９５％を占めることを示す。 表２に示されるように、ＡＰＩの２つの最も一般的なカチオンは、ナトリウムおよびカリウムであり、これらは現時点で、市場の薬物の８０％より多くを占める。 カチオンについて、上位２つのカチオンは、現時点で市場の薬物の８３％

を占め、上位４つのカチオンが８９％を占め、そして上位８つのカチオンが９５％を示す。 本発明のコンビナトリアル技術またはハイスループット技術を用いて、アニオン性塩およびカチオン性塩の両方がクリーニングされ得、その結果、ほとんどの薬物候補について、全てではないにしてもほとんどの一般的に使用される薬学的に有用な塩が試験され得る。

本発明のいくつかの実施形態において、少なくとも２、４または６の異なる塩形態の１
つ以上の薬物候補が、生成され、そして所望の特性についてスクリーニングされる。 他の実施形態において、少なくとも８、より詳細には少なくとも１０、少なくとも１２、少なくとも１６、少なくとも２０、または少なくとも２４の異なる塩形態の１つ以上の薬物候補が、生成され、そして所望の特性についてスクリーニングされる。 一実施形態において、表１および２に示されるような２、４、６または８の最も一般的なアニオンまたはカチオンを含む塩反応物が、スクリーニングのために使用される。 別の実施形態において、ハイスループットスクリーニングが、アニオンおよびカチオンの両方の塩反応物を使用して実施される。 従って、２、４、６または８の最も一般的なアニオンおよびカチオンの塩反応物が使用される。

塩の選択のために使用され得る溶媒の数は、所望される任意の数であり得る。 一実施形態において、溶媒の数は、２、４、６、８、１２、１６またはそれ以上である。 塩および溶媒の組み合わせのスクリーニング（以下で議論される）は、一度に少なくとも８、一度に少なくとも１２、一度に少なくとも２４、一度に少なくとも３６、一度に少なくとも４
８、または一度に少なくとも９６の速度であり得る。 ライブラリーがどのように設計されるかに依存して、複数のウェル中に異なる塩が存在し得るか、あるいは複数のウェル中に異なる溶媒が存在し得る、などである。

一実施形態において、異なる塩は、基板の各行に存在し、ここで１つの行は多数のウェルを含む。 この基板は、マイクロタイタープレート、または例えば、本明細書中で記載される塩反応装置を使用してウェルが形成される別の基板であり得る。 各列（これもまた多数のウェルを含み、塩を含む行に対して垂直である）は、異なる溶媒を含む。 例えば、図１５（この図１５は、行および列を含むマイクロタイター様式の例を示す）を参照のこと。 ライブラリーは、この様式に限定されない。 この試験速度は、さらなる研究のために適切な塩（単数または複数）の迅速な発見を可能にする。

図２Ａおよび２Ｂは、本発明の原理に従う塩選択プロセス２００の例示的なフローチャートを示す。 一般に、プロセス２００は、アレイ様式（例えば、８×１２アレイ）のレセプタクルに、薬物候補化合物を分配し、そして各薬物候補を１つ以上の塩反応物、および必要に応じて、溶媒の種々の組み合わせに供する。 一実施形態において、各レセプタクルは、少なくとも１つの薬物候補、化学量論量の少なくとも１つの塩反応物、および必要に応じて、溶媒を含む。 好ましい実施形態において、各レセプタクルは、１つの薬物候補、
化学量論量の１つの塩反応物、および溶媒を含む。 薬物候補、塩反応物および溶媒の混合物の相互作用に依存して、塩は、沈殿物または結晶を形成し得る。 次いで、塩は、その特性および特徴が特定の薬物適用に適切であるか否かを決定するために、スクリーニングおよび分析され得る。

発見および特徴付けのために選択された薬物候補または塩を処理することは、少なくとも２、しかし好ましくは少なくとも３つの工程（これはコンビナトリアル様式またはハイスループット様式で実施される）を必要とした。 １つの必要とされる工程は、薬物候補または塩を溶解して溶液を形成する工程である。 別の必要とされる工程は、この溶液から薬物候補または塩を結晶化する（例えば、エバポレーション、冷却または反溶媒（ａｎｔｉ
−ｓｏｌｖｅｎｔ）を用いる沈殿により）工程である。 結晶化の前の任意の処理工程は、
濾過または遠心分離によって、この溶液から任意の残りの固体を分離する工程を包含し得る。 この分離工程または濾過工程は、結晶化工程で提供される溶媒中で核形成部位を排除するために実施され得る。 プロセス２００は、調製工程、結晶化工程、濾過工程および塩の選択のために実施される他の工程を包含する。

薬物候補および塩反応物を含む溶液を調製する前に、ユーザーは、コンピュータ（例えば、図１のコンピュータ１１０）と相互に作用して、モデルライブラリーを作製し得る。
工程２１０において、１つ以上のコンピュータ生成ライブラリーが生成され、これによりプロセス２００は、所定のセットの制約内で混合され得る物質の実質的に全ての可能な組み合わせを調製し得る。 従って、これらの混合物が調製され、次いで結晶化される場合、
本発明は、どの混合物が最も最も良好な塩を提供するかを決定し得る。 各個々の混合物は、一般に、ライブラリーメンバーまたはメンバーと呼ばれる。 コンピュータ生成モデルライブラリーは、多数のパラメーター（制約とも呼ばれる）を使用して生成され得、このパラメーターは、代表的に、薬物候補のような物質、塩反応物、溶媒、環境的条件、反応パラメーターなどを含む。 パラメーターは、ユーザーまたはソフトウエアプログラムによって選択され得る。 好ましくは、ユーザーは、ライブラリーにおけるモデリングのための１
つ以上の薬物候補およびライブラリーサイズ（例えば、９６ウェルアレイ）のような他のパラメーターを選択する。 ライブラリーメンバーは通常、薬物候補、塩反応物および溶媒を含む。 溶媒（方法２００においてライブラリー溶媒と称される）は、塩反応物および薬物候補の反応により生成される塩を結晶化するために使用される。 コンピュータ生成ライブラリー設計は、好ましくは、コンピュータ１１０（図１に示される）で実行されるソフトウエアプログラムによってモデリングされる。 コンピュータ生成ライブラリーは、ユーザー入力およびデータベース１１４から入手可能な情報に基づき得る。 このコンピュータ生成ライブラリーは、図４および５と共により詳細に記載される。

当業者は、コンピュータはライブラリーを調製するために使用する必要がないことを理解する。 当業者は、任意の適切な方法を使用して、ライブラリーを手動で調製し得る。

工程２１２において、薬物候補および塩反応物が一緒に混合される。 任意の混合溶媒（
これはライブラリー溶媒と異なっていても同じであっても良い）が、この塩反応物および薬物候補に添加され得る。 この薬物候補、塩反応物および任意の混合溶媒は、一緒に反応して、薬物候補の塩を生成する。 任意の工程２１４において、薬物候補の塩が生成された後、この薬物候補の塩は、単離される。 工程２１６において、工程２１０において提供されたライブラリー溶媒が、ライブラリーメンバーを生成するために、この薬物候補の塩に添加される。

好ましい実施形態において、工程２１２で記載された薬物候補の混合物が、リアクタアセンブリで調製される。 リアクタアセンブリは、代表的に、マイクロタイター様式（例えば、８×１２の９６ウェルプレート）で構成される。 マイクロタイター様式は、物質のハイスループット反応を実施するために、特に有用である。 しかし、任意の他の様式が使用され得る（例えば、３８４ウェルプレート）。 さらに、これにより、プロセス２００は、
工程２１０で提供されたコンピュータ生成ライブラリーに従って、リアクタアセンブリ１
３００中でライブラリーを構築し得る。

工程２１２において、薬物候補は、工程２１０のコンピュータ生成ライブラリーに従って、塩反応物と混合され得る。 この混合物は、必要に応じて、１つ以上の混合溶媒を含み、塩溶媒を提供し得る。 この薬物候補は、代表的に、溶液またはスラリーとして（反応容器に）分配されるが、この薬物候補はまた、固体として分配され得る。 液体分配デバイスは、図２３に例示される。 例えば、固体分散デバイス（図示せず）は、ＡｕｔｏＤｏｓｅ
（Ｇｅｎｅｖａ，Ｓｗｉｔｈｚｅｒｌａｎｄ）によりＰｏｗｄｅｒｎｉｕｍとして販売されている。 薬物候補が溶液またはスラリーの形態であると仮定すると、溶媒は、減圧下または真空下で、プレートから並行して除去されてもよいしされなくても良い（例えば、ライブラリー上に窒素を吹き込むことによって、または溶媒エバポレータ（例えば、Ｇｅｎ
ｅｖａｃ ＨＴ−８（Ｇｅｎｅｖａｃ Ｉｎｃ，Ｖａｌｌｅｙ Ｃｏｔｔａｇｅ，ＮＹ
１０９８９））を使用することによって）。 薬物候補が、反応溶媒中に分配される場合、
溶媒の除去は不必要である。

薬物候補を分配した後に、選択された塩反応物（例えば、溶液形式、スラリー形式または固体形式中の酸または塩基）は、アレイのウェルに分散される。 アニオン塩について、
対応する酸が使用される。 例えば、塩酸、硫酸、メシル酸（ｍｅｓｙｌｉｃ ａｃｉｄ）
および臭素酸を、化合物の塩化物塩、硫酸塩、メシレート塩、および臭素酸塩のために使用し得る。 カチオン性塩について、対応する水酸化物または他の塩基が使用され得る。 例えば、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムは、ナトリウム塩およびカリウム塩のために使用され得る。 薬物候補のマグネシウム塩およびカルシウム塩は、酢酸マグネシウムまたは酢酸カルシウム、酸化マグネシウムまたは酸化カルシウム、あるいは炭酸マグネシウムまたは炭酸カルシウムを使用することによって形成され得る。 アミン塩は、選択されたアミン自体を薬物候補と混合することによって形成され得る。 １つの実施形態において、
塩反応物は、以下にさらに詳細に考察されるように、アレイのウェルに自動的に分配される。 別の実施形態において、塩反応物は、手動により、アレイのウェルに分配され得る。

塩溶液は、種々の条件に供されて、薬物候補が、課せられた条件下で、塩反応物と反応と反応し得る。 通常の反応条件は、シールされたバイアル中で振盪しながら、およそ室温またはより高い温度である。 温度は、約２０℃、３０℃、４０℃、５０℃、６０℃、７０
℃、８０℃またはそれより上であり得る。 １つの実施形態において、温度は、約７０℃に上げられて、薬物候補が、酸また塩基と反応し得る。 薬物候補および塩反応物に依存して、薬物候補と反応溶媒との間の反応が、生じても生じなくても良い。

個々のバイアルまたはウェルは、磁場によって転がる（例えば、回転する）磁場攪拌フレア（ｆｌｅａ）または回転磁石を含み得る。 回転する攪拌フレアは、バイアルまたはウェル内に含まれる物質の混合を促進する。 磁気攪拌を提供するデバイスの詳細な説明は、
米国特許第６，１７６，６０９号（これは、その全体が、これによって、参考として援用される）に記載される。

任意の工程２１４において、それぞれのライブラリーメンバーが調製された後に、任意の残りの塩反応物および任意の溶媒が、反応混合物から除去される。 これは、当該分野で公知の任意の方法（例えば、結晶化のために使用される方法（例えば、エバポレーション、冷却または反溶媒の添加）を含む）によってなされ得る。

工程２１６において、１つ以上のライブラリー溶媒が、コンピュータ生成ライブラリーに従ってそれぞれのウェルに添加され、そして薬物候補が、その溶媒に溶解される。

任意の工程２２０において、各ライブラリーメンバーが調製された後に、塩溶液のアリコートが、各反応容器からとられ、そして濾過アセンブリによって濾過される。 工程２２
２において、「シードのない（ｓｅｅｄｌｅｓｓ）」塩溶液を、結晶化のために使用するように、各塩溶液を濾過する。 図１６〜２０は、本発明の原理に従う濾過を提供する種々の濾過装置を図示する。

シード添加が望ましい場合、シード添加再結晶化が制御されるように、シードが別々に添加され得る。

工程２２２において、濾過された塩溶液が結晶化される。 塩結晶化は、１）溶液を冷却するか、２）沈殿を引き起こす反溶媒を添加することによって溶液を沈殿させるか、３）
溶媒をエバポレートするか、または４）溶液をスラリーにすることによって生じ得る。 塩の結晶化または沈殿が、マルチウェルプレートまたは基板（例えば、本明細書中に記載される汎用（ｕｎｉｖｅｒｓａｌ）基板）上で生じる場合、プレートまたは基板は、種々の同定デバイスおよび特徴付けデバイスによってスクリーニングされ得る。 所望の場合、特徴付けは、再結晶化を生じながら、実施され得る。 塩を結晶化するかまたは沈殿させるために使用され得る塩反応物および溶媒は、溶媒選択セクションにおいて、以下に記載される。

各ライブラリーメンバーは、塩が形成されたか否かを決定するためにスクリーニングされる。 スクリーニングは、工程２２５において実行され、そして物質スクリーニングデバイス１６０を使用して実行され得る（図１に示される）。 工程２２５におけるスクリーニングは、各ライブラリーメンバーを迅速に特徴付けるハイスループットスクリーンとして主に実行され得る。 スクリーニングの間に得られるデータは、コンピュータ（例えば、コンピュータ１１０）に提供され得る。 例えば、工程２２５のスクリーニングは、各ライブラリーメンバー上で十分な量のデータを得ることができ、その結果、プロセス２００を使用して、塩を迅速に分析し得る。 本明細書中に記載される装置および方法は、それぞれのライブラリーメンバーの複屈折、ｌｏｇＰ、結晶性、溶解度、および融点をインサイチュで決定し得る、いくつかのスクリーニング方法およびデバイスを提供する。

工程２３０において、プロセス２００は、さらなる時間を消費する試験を行う前に、各塩の適合性についての迅速な予備的評価を実行し得る。 分析は、どのライブラリーメンバーが、さらに探索されるべきかを選択することによって、ユーザーの規定する選択を含み得る。 塩得選択はまた、例えば、コンピュータによって行われ得る。 コンピュータは、データを分析するソフトウェアプログラムを実行し得る。 例えば、スクリーニングの結果は、塩が固体を形成するか否か、固体がアモルファスであるかまたは結晶であるかに関する情報、ならびに溶解度、ｌｏｇＰおよび結晶の融点に関する情報を提供し得る。

工程２４０において、プロセス２００は、塩がさらなる試験のために選択されるべきか否か、またはその塩が廃棄されるべきか否かを決定する。 ライブラリーで作製される塩のいずれもが、さらなる試験（例えば、スクリーニング）に適しない場合、このプロセスは、新たなライブラリー組成物を調製し得るように、工程２１２に戻される。 しかし、これらの塩から得られるデータは、データベースに保存され、そしてさらなる分析のために使用される。 好ましくは、プロセス２００は、工程２１０において作製される、コンピュータ作製ライブラリーに基づくライブラリー組成物を調製し続ける。 しかし、工程２４０が、少なくとも１つ適切な塩が存在することを決定する場合、プロセスは、工程２５０を続ける。

図２Ｂにおける工程２５０において、工程２４０で選択される塩は、バルク形式で再合成される。 この工程は、工程２４０において選択される十分な量の塩が生成されなかった場合にのみ必要である。 工程２５０において、同じ物質の組成の複数のサンプルが、異なるリアクタアセンブリにおいて堆積する。 所望の場合、例えば、さらなる塩の特徴付けを得るために、既存のライブラリー組成物に、さらなる溶媒を適用し得る。 新たな物質の適用は、コンピュータ１１０においてモデル化されるライブラリーに基づき得る（図１）。
次いで、新たに処方されるライブラリー組成物は、塩を形成するために結晶化される。

工程２２５において、さらなるデータが必要な場合、特性（ｐｒｏｐｅｒｔｙ）データおよび特徴（ｃｈｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃ）データを得るために、塩が再びスクリーンングされる。 このスクリーニングは、スクリーニング工程２２５におけるよりも、より徹底的な塩の特徴付けを提供するために使用され得る。 工程２２５は、プロセス２００が第２
の分析（工程２６０に示される）を実行し得るデータを獲得する。 工程２６０において、
実質的な分析は、工程２５５によって提供されるデータを使用して実行され得る。 工程２
７０において、プロセス２００は、塩がさらなる試験のために選択されるべきか否かを決定する。 塩が選択されない場合、プロセス２００は、工程２１２に戻り得る（図２Ａ）。
塩が選択される場合、プロセス２００は、別の適用における使用に適した塩を発見している。 当業者は、１つ以上の塩形態がプロセス２００によって選択され得、そしてプロセス２００が、工程２１０におけるパラメーターセットに基づいて選択されるいずれの塩も作製しないかもしれないことを理解する。

所望の場合、塩が選択された後、プロセス２００は、図３の工程３１０に進められ得る。 以下に記載されるように、図３は、選択された塩に基づいて、多形体生成および特徴付けを記載する。

プロセス２００は、薬物送達に適した塩を選択するための、予備処方システム１００で実行され得る。 プロセス２００は、塩の結晶構造の種々の潜在的な多形体を決定するための１つ以上の選択された塩についての試験を行う別のプロセスの前駆プロセスとして使用され得る。 当業者は、図２に示される工程が、単なる例示であり、さらなる工程が追加され得、そしていくつかの工程が省略または改変され得ることを理解する。 例えば、１つ以上の適切な塩が発見された場合でさえ、工程２１０におけるコンピュータ作製ライブラリーによって提供されるそれぞれのライブラリーメンバーをプロセス２００が調製および試験する工程が、追加され得る。 さらに、塩が形成され得る条件（例えば、温度または温度傾斜率（ｒａｍｐ ｒａｔｅ）を変更するため、または破壊的分析（例えば、融点スクリーニング）のために同一の塩を提供するために、娘（ｄａｕｇｈｔｅｒ）ライブラリーが形成され得る。

図３は、本発明の原理に従う、多形体発見プロセス３００の例示的な流れ図を示す。 プロセス３００は、他のプロセスから独立した予備処方システム１００で実行され得るか、
または図２Ａおよび２Ｂのプロセス２００のようなプロセスと併合され得る。

プロセス３００は、１つ以上の薬物候補または塩を再結晶化し（すなわち、これらを異なる条件に供して、できるだけ多くの多形体を、好ましくは、実質的に全ての多形体を、
特定の薬物候補またはその塩のために生成させる）、そしてハイスループット能力で多形体のそれぞれをスクリーニングする。 これによって、プロセス３００が、適切な結晶構造を処理する所望の薬物成分を開発するための最も良い再結晶化条件を迅速に特徴付け得、
そして決定し得る。 本明細書中で使用される場合、再結晶化条件および結晶化条件とは、
再結晶化に影響を与える条件をいう。 これらの条件は、例えば、温度、シード添加（存在する場合）、溶媒などが挙げられる。

プロセス３００は、工程３１０で開始する。 工程３１０において、プロセス３００は、
多形体試験のために、１つ以上の薬物候補の塩（または中性化合物）を提供される。 薬物候補は、例えば、ユーザーインターフェース装置１８０（図１に示される）によって、ユーザーによって、予め選択され得る。 薬物候補はまた、図２Ａおよび２Ｂのプロセス２０
０で選択される塩によって提供され得る。 あるいは、工程３１０は、多形体試験のために使用され得る１つ以上の薬物候補を提供し得る。

一旦、薬物候補が工程３１０で提供されると、薬物候補は、工程３２０において再結晶化を受け得る。 所望の場合、再結晶化は、特定の薬物候補から結晶を形成するためにいくつかの工程を含み得る。 例えば、薬物候補が選択された後に、これは、反応アセンブリ（
例えば、図１３の反応アセンブリ１３００または図１５の反応アセンブリ）において溶媒３２２と混合され得る。 薬物候補および溶媒は、塩選択プロセス２００について記載されるような、液体分配アセンブリを使用して、反応アセンブリ中に分配され得る。 溶媒は、
コンピュータ生成ライブラリー３２１に従って混合されて、特定のセットの制限のための多くの異なる結晶化混合物として提供し得る。 溶媒選択は、さらに以下に記載される。

多形体生成および特徴付けのために使用され得る溶媒の数は、所望される任意の数であり得る。 １つの実施形態において、溶媒の数は、２、４、６、８、１２、１６、２４、３
６、４８、９６またはそれより多くである。 単一アッセイのための多形体生成および特徴付けに使用され得る溶媒の数は、一度に少なくとも８〜１０、一度に少なくとも１２〜１
４、一度に少なくとも２４、一度に少なくとも３６、一度に少なくとも４８、または一度に少なくとも９６の割合であり得る。 この局面において、用語、溶媒は、本明細書中に記載されるように、単一溶媒（例えば、ヘプタンまたは水）ならびに溶媒の組み合わせ（例えば、水と混合されたヘプタン）の両方を意味する。

本発明の１つの実施形態において、少なくとも１つの薬物候補を、多形体を生成および特徴付けるプロセスにおいて使用する。 他の実施形態において、少なくとも２つ、３つまたは４つの薬物候補を使用して、多形体を生成および特徴付ける。

さらに所望される場合、再結晶化は、結晶化のために「シードのない」または「純粋な」溶液を提供するために、混合物を濾過する工程を包含し得る。 濾過工程を、処方および結晶化の前に実行する。 結晶化濾過溶液は、結晶化工程の間に結晶の形成に偏らせ得る（
ｂｉａｓ）核生成部位を除去する。 濾過は、図１６の濾過アセンブリ１６００を使用して、達成され得る。

種々の再結晶化条件（例えば、温度、圧力、時間など）は、種々の結晶形成を提供するために変更され得る。 図２１および２２は、例えば、混合物を結晶化するために使用され得る装置を例示する。 この装置（例えば、図２１の結晶化アセンブリ２１００）の１つの利点は、結晶が、除去可能な基板上で成長し得るか、形成し得るかまたは再塩化（ｒｅ−
ｓａｌｔ）し得ることである。 この基板は、結晶が工程３３０において、それらの特性および特徴についてスキャンされるように、１つ以上のスクリーニングデバイスに提供され得る。

種々の結晶化条件において、結晶化または再結晶化を行うために、娘ライブラリーが、
薬物候補、その混合物、または塩から作製され得る。 娘ライブラリーは、反応アセンブリ内に含まれる親ライブラリーにおける１つ以上のメンバーから１つ以上のアリコートを取ることによって作製される。 親ライブラリーは、再結晶化工程３２０の開始のときに調製される混合物を含み得る。 アリコートは、全体のうちの限定された画分である。

娘化（ｄａｕｇｈｔｅｒｉｎｇ）を行うために、ピペット（手動または自動（例えば、
ロボット利用）のいずれかで操作される）によって、親ライブラリーからメンバーの一部を引き出し、そして別の容器（例えば、結晶化アセンブリ）中にそのアリコートを分配して、娘ライブラリーメンバーを提供する。 親ライブラリーの限定された数のメンバーが、
娘化され得るか、または全てのメンバーが、少なくとも一回娘化されて、娘ライブラリーを作製し得る。 従って、娘ライブラリーは、質量、容積、またはモルの点でおよび／またはメンバーの数の点で、親ライブラリーよりも小さくあり得る。 娘化は、例えば、同一の混合物、溶液、またはサンプルで行われる複数の実験が、親ライブラリーを再び作製しなければならないことを避け得るように行われる。 ハンドピペッター、ハンドマルチチャネルピペッター、またはロボット（例えば、ＭａｔｒｉｘまたはＣｙｂｅｒＬａｂまたはＨ
ｙｄｒａロボット）のような娘化を行い得る公知の装置が存在する。 多くの娘ライブラリーが作製され得るが、但し、元のライブラリーは、十分な容量である。 １つの実施形態において、少なくとも１個、２個、４個、８個または１２個の娘ライブラリーが作製される。

親ライブラリーおよび娘ライブラリーからの混合物が結晶化された後に、それぞれのライブラリーのメンバーが、スクリーニングされる。 工程３３０は、工程３３５にデータを提供する第１スクリーニングを提供し、これは、任意の多形体が形成されたか否かを決定するためにデータを分析する。

結晶は、多形体を特徴付けおよび／または同定するのを助ける任意の物理的特性についてスクリーニングされ得る。 結晶は、複屈折、融点、溶解度、吸湿性、ＩＲパターン、近ＩＲパターンまたはＲａｍａｎパターン、結晶形態学、Ｘ線回折パターン、あるいは結晶（または多形体）が形成されたか否かを決定するための任意の他の適切なスクリーニング方法についてスクリーニングされ得る。 一般的に、少なくとも２つの特性がスクリーニングされる。 １つの実施形態において、Ｒａｍａｎパターン、Ｘ線回折パターン、融点、複屈折および吸湿性スクリーニングは、結晶構造を適切に特徴付けるために実行される。

工程３４０において、プロセス３００は、十分な量の薬物候補が、プロセス３００の間に作製されなかった場合、多形体がさらなる試験について大量に作製されるように選択されるべきか否かを決定する。 多形体が適切でない場合、プロセスは、工程３２０に戻され得て、その結果、同じかまたは異なる薬物候補が、再結晶化を受け得る。 多形体が選択される場合、プロセス３００は、工程３４５において同じ結晶のうちのいくつかを調製し得、その結果、それらが、工程３５０において、スクリーニングおよび特徴付けされ得る。

工程３５０において、スクリーニングは、工程３３０において実行されるスクリーニングよりもより詳細である。 結晶は、少なくとも２つの特性、３つの特性、４つの特性または５つの特性についてスクリーニングされて、多形体を同定および特徴付けし得、ここで、特性は、例えば、複屈折、融点、溶解度、吸湿性、ＩＲパターン、近ＩＲパターン、Ｒ
ａｍａｎパターン、結晶形態学、またはＸ線回折パターン、あるいは十分な量が作製された場合、単結晶Ｘ線回折、熱重量分析、核磁気共鳴または示差走査熱分析によって決定される。 １つの実施形態において、結晶は、少なくとも、複屈折、融点、溶解度、Ｒａｍａ
ｎパターンおよびＸ線回折パターンについてスクリーニングされる。 好ましい実施形態としては、Ｒａｍａｎおよび／またはＸ線回折分光法が挙げられる。 このプロセスは、溶解度試験ステーション、複屈折ステーション、分光法ステーション（例えば、Ｒａｍａｎ、
赤外、Ｘ線）、融点ステーション、電磁信号吸収（例えば、ＵＶ−Ｖｉｓ吸収）ステーション、分配係数（ｌｏｇ Ｐ）ステーションを使用して、本明細書中に記載される装置を使用して実行され得る。

工程３５０において獲得されるデータは、多形体または結晶構造を分析するためのプロセス３００を可能にする相当量の情報を提供し得る（工程３６０）。 工程３６５において、プロセス３００は、その多形体（例えば、中性薬物候補化合物またはその塩）が活性な薬学的成分として使用するのに適切か否かを決定し得る（工程３７０）。 その多形体が適切でない場合、その特定の薬物候補は、少なくとも、プロセス３００について規定される薬物適用について使用されない（工程３７５）。 しかし、分析により獲得されるデータは、さらなる参照のために保存され得る。

図２Ａ、２Ｂ、および３に示されるように、プロセスは、ライブラリーメンバーを調製するための鋳型として、コンピュータにより生成されたライブラリーを使用する。 例えば、薬物候補、塩、結晶、および他の処方前材料の種々の組み合わせを含むライブラリーが、ライブラリー調製前に生成され得る。 図４は、本発明の原理に従って生成され得る例示的なライブラリー４００を示す。 ライブラリー４００は、任意の適切な数のライブラリーエレメント４１０を含み得る。 好ましくは、各ライブラリー４００においてモデリングされるライブラリーエレメントの数は、ハードウェア（例えば、基板）上で調製され得るライブラリーメンバー４１０の数と同一である。 任意の数のライブラリーメンバー４１０の行および列が作製され得、それによって、ライブラリー生成における柔軟性を提供する。
このことは、変数「Ｎ」により示される。 変数「Ｎ」は、任意の適切な数の行および列がライブラリー４００において設計され得ることを示す。 行は、例えば、以下であり得、産業上は、種々の材料を処方または混合するために９６ウェルまたはバイアルを有する基板を代表的に使用する。 従って、ライブラリー４００を、例えば、８行および１２列を有する（代表的なマイクロタイタープレート）ようにモデリングする場合、ライブラリーエレメント４１０は、容易に実施され得る。 同様に、３８４ウェル基板が使用される場合、ライブラリー４００を、例えば、１６行および２４列を有するようにモデリングし得る。

ライブラリー４００の大きさに関わらず、各ライブラリーエレメント４１０は、少なくとも１つの材料を含む。 各ライブラリーエレメント４１０における材料は、薬物候補、薬物候補の異なる既知の結晶構造、溶媒、および塩反応体により相違し得る。 図４は、ライブラリーエレメント４１０をモデリングする使用され得るいくつかの例示の材料４２０の例を示す。 材料４２０および他の因子に基づき、コンピュータ（例えば、図１のコンピュータ１１０）は、実際に構築され得るライブラリーエレメントの実質的に全ての可能な組み合わせをモデリングし得る。 例えば、ライブラリーエレメント４１１は、薬物候補、塩反応体である酒石酸、およびヘプタンを含む１つのこのような可能性のある組み合わせを示す。 従って、ライブラリーを生成することにより、いくつかの異なる材料組成物を調製および試験するための基礎が本発明に提供される。 このことは塩の選択を促進し、そして特定の薬物候補についての多形体を発見するための基礎を提供する。

塩選択および／または多形体生成のいずれのためにも、再結晶化において使用され得る多くの溶媒が、公知である。 表３（図２９Ａ、２９Ｂ、および２９Ｃにおいて示される）
は、いくつかのそれらの物理的特性と共に多くの例示的な溶媒を列挙する。 使用され得る多くの溶媒が与えられる場合、溶媒の特定の共有する物理的特性または他の共有する特性に基づき、溶媒を群にクラスター化し、次いで各群から少なくとも１つの溶媒を選択し、
再結晶化において試験することが有利である。 このプロセスは、広範な種々の異なる型の溶媒が再結晶化のために使用されることを確実する。 このことは、薬物候補塩の多形体または望ましい結晶を同定するために有利である。

表３は、溶媒を、それらの化学的クラス、溶媒の異なるクラスに割り当てられた参照番号（＃）（統計上の分類目的）、分子量（ＭＷ）、密度（ｎ）、モル体積（Ｖ _ｍ ）、融点（ＭＰ）（℃）、沸点（ＢＰ）（℃）、気化のエンタルピー（ΔＨ _ｖａｐ ）、ヒルデブランド溶解パラメータ（δ）、双極子モーメント（μ）、対数水溶性（ｌｏｇＳ）、分配係数（ｌｏｇＰ）、粘性、屈折率、ｐＫａ（水中およびジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）
中）、誘電率（ε）、およびイオン化ポテンシャル（ＩＥ）ならびにｐＫ _ａ＋と共に示す。 当業者に公知の他のパラメータとして、限定することなく、費用（ＵＳドル／ｋｇ）、
廃棄または保存の費用、毒性または環境的な安全性の程度などが挙げられ得る。 本明細書中で提供される溶媒および物理的特性の説明は、塩の選択および多形体のワークフローにおいて使用され得る溶媒の型または溶媒の物理的特性を限定しない。

溶媒ライブラリーにおける溶媒の１つ以上の物理的特性は、溶媒を群にクラスター化するのに使用され得る。 特定の群の溶媒は、基準として選択された１つ以上の特性について類似の物理的特性を有する。 溶媒の物理的特性は、表３に列挙される１つ以上の特性であっても、当該分野で公知の他の物理的特性であってもよい。 溶媒を群にクラスター化するために１〜ｎ個の特性が使用され得る（ｎは溶媒のライブラリーに対して提供された物理的特性の総数である）。 各溶媒は、独立して、全ての選択された物理的特性について、同一の規定された特性を有する他の溶媒と共に、群に分類され得る。 溶媒をクラスター化するために、任意の数の特性が使用され得、これらとして、溶媒をクラスター化するための４〜２０、４〜１６、または６〜８個の特性が挙げられる。 １つの実施形態において、溶媒のクラス（例えば、アルコールか否か、ケトンか否か、など）は、溶媒をグループ化する上で使用される物理的特性の１つとして使用されない。

任意の特定の物理的特性について、選択基準は、２つ以上の異なるサブセットを提供するよう規定され得る。 １つの実施形態において、単一の物理的特性の溶媒についての選択基準は、２、４、６、８、または１２個のサブセットを提供し得る。 例えば、１つの物理的特性（例えば、溶媒の密度）に基づき溶媒を分類するために、４つの定義が提供され得、そして別の物理的特性（例えば、溶媒の双極子モーメント）に基づき溶媒を分類するために、２つの定義が提供され得る。 次いで、溶媒は、これらの２つの物理的特性の定義に基づき、８つの群にクラスター化される。

好ましい実施形態において、多くの溶媒の物理的特性は、データベースで維持される。
多形体生成または塩選択のためのライブラリー設計の間、ユーザーは、特定の物理的特性およびこれらの物理的特性についての選択基準の両方を規定し、選択された特定の物理的特性およびこれらの物理的特性についての選択基準に基づき溶媒をクラスター化し得る。

２〜ｎ個の群を形成するために溶媒群が設計され得る（ｎは、示される溶媒ライブラリーにおける溶媒の総数である）。 １つの実施形態において、溶媒群の数は、４〜９６群である。 別の実施形態において、溶媒群の数は、６〜６４、８〜４８群、１０〜４０群、または１２〜２４群である。 別の実施形態において、溶媒群の数は、８〜２４群、１６〜２
４群、２０〜４０群、または８〜１２群である。 一般的に、多形体特徴付けワークフローと比較して、塩選択ワークフローのために、より少数の溶媒群が使用される。 塩選択について、溶媒群の数は、一般的に、１６〜２４群の範囲であるが、多形体同定および特徴付けについて、溶媒群の数は、一般的に、約２０〜４０である。

１つの実施形態において、塩選択または多形体生成のために使用される溶媒の型の多様性を提供するために、溶媒ライブラリーは、特定の類似する物理的特性または特徴を有する溶媒の群にクラスター化され得、そして各群から少なくとも１つの溶媒が、塩選択または多形体生成において使用される。 別の実施形態において、単一の群からの多くの溶媒が、塩選択または多形体生成において選択および使用され得る。 これは、活性な薬学的成分についての特定の多形体を生成するための潜在的に容易な方法、安定な方法、または市販されている方法を同定するため、あるいは焦点の溶媒ライブラリーを調製するための多形体特徴付けのより後半の段階において特に有用であり得る。

溶媒群の設計は、当該分野で公知の任意の方法により実施され得、このような方法として、手動での設計またはコンピュータ設計が挙げられる。 ＪＭＰ ^ＴＭ （ＳＡＳ Ｉｎｓｔ
ｉｔｕｔｅ，Ｉｎｃ． ，Ｃａｒｙ，Ｎｏｒｔｈ Ｃａｒｏｌｉｎａから入手可能）を含む市販のコンピュータプログラムが、用いられ得る。

一般的に、結晶化が起こる温度よりも高い沸点を有する溶媒が、選択される。 好ましい他の物理的な特性は、非毒性溶媒が使用されることである。 別の実施形態において、１つ以上の溶媒（例えば、エタノール、水、シクロヘキサン、プロパノール、アセトニトリル、ジオキサン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸プロピル、またはトルエン）が、本明細書に記載される方法における溶媒として使用される。

塩選択アレイの１つの実施形態において、このアレイの１つの軸（例えば、マイクロタイタープレートまたは他の基板の行）は、多くの異なる塩反応体と混合された一定量の目的の薬物候補を含む。 ここで、アレイの各行は、異なる塩反応体を含む。 一般的に、薬物候補は、塩反応体の１つの等価物（例えば、酸または塩基）と混合される。 しかし、別の実施形態において、薬物候補は、塩反応体の０．５、２、１．５、３、または４つの等価物と混合され得る。

アレイの反対軸（例えば、マイクロタイタープレートの列）は、多くの異なる溶媒を含む。 ここで、アレイの各列は、異なる溶媒を含む。 好ましい実施形態において、この溶媒は、本明細書に記載されるようにクラスター化されている。 従って、アレイの各ウェルは、塩反応体および溶媒の異なる組み合わせを含む。

塩反応体および薬物候補は、塩が、例えば、加熱、攪拌、振盪、またはそれらの任意の組み合わせにより溶媒の添加前に形成され得る条件に供され得る。 次いで、溶媒のアレイが添加され得、そして薬物候補塩の結晶または沈殿の存在が決定され得る。 あるいは、薬物候補、塩反応体、および溶媒は、薬物候補の塩およびその結晶または沈殿が形成され得る条件にアレイを供する前に、ひとつに混合され得る。 １つの実施形態において、このアレイは、本明細書に記載される１つ以上の装置を用いて、塩合成および結晶化に供され得る。

別の実施形態において、アレイの１つの軸（例えば、行）は、多くの異なる塩反応体と混合された目的の薬物候補を含み、一方、反対の軸（例えば、列）は、溶媒または２つ以上の溶媒の組成を含む。 ここで、各列は、異なる溶媒または溶媒組成を含む。 １つの実施形態において、アレイ中の溶媒組成またはその一部は、互いに対して異なる濃度の２つの溶媒であり得る。 互いに対するこの溶媒の濃度は、所望される任意の濃度であり得る。 １
つの実施形態において、溶媒ＡおよびＢについての溶媒組成のアレイ（例えば、勾配）は、以下の式：
ｘ ^＊ Ａ ⁻ （１００−ｘ） ^＊ Ｂ＝０ （１）
で表わされ得る（ここで、ｘはパーセントである）。

所望される場合、勾配は、線形関数、非線形関数、多項関数、指数関数などを用いて決定され得る。 例えば、この様式で、水およびヘプタンの濃度が変更され得る。 同様に、３
、４、またはそれ以上の異なる溶媒を用い、互いに対する相対濃度を変化させた溶媒組成のアレイが生成され得る。 好ましい実施形態において、この溶媒組成物中の溶媒は、本明細書中に記載されるようにクラスター化されている。 上述のように、次いで、このアレイは、薬物候補塩が結晶を形成する可能性のある条件に供され得る。

単一の薬物候補（塩または中性化合物のいずれか）が、代表的に、多形体の生成および特徴付けについて試験されるが、２、４、６、８、またはそれ以上の薬物候補もまた特徴付けられ得る。 異なる薬物候補塩が形成される必要はないので、塩選択について代表的に使用されるよりも多くの溶媒が、代表的に、多形体の生成および特徴付けについて使用される。 しかし、一般的に使用されるより多くの溶媒を除いて、多形体の生成および特徴付けのための溶媒群の選択は、塩選択の場合と同様である。 従って、１つの実施形態において、溶媒のライブラリーは、塩選択の場合と比較して、再結晶化についてより多くの群に分割され得、一方、別の実施形態において、単一群内のより多くの溶媒が、薬物候補塩を再結晶化するために使用され得る。

多形体アレイの１つの実施形態において、各ウェルは、一定量の目的の薬物候補および異なる溶媒を含む。 この溶媒は、当該分野で公知の任意の方法により選択され得る。 例えば、この溶媒は、異なる工業的に重要な部門（芳香族、ケトン、水、ハロゲン化物、アルコール、エステル、ニトリル、および広範な極性および誘電定数にまたがる溶媒混合物を含む）の溶媒から選択され得る。 好ましい実施形態において、この溶媒は、以前に記載された溶媒選択方法により、種々の異なる物理的特性または特徴付けに基づき溶媒のライブラリーを群に分割することにより選択される。 より好ましくは、この溶媒は、それらの化学的クラスに基づき分類されない。 溶媒が薬物候補に添加された後、これらは、薬物候補を溶解する条件下で混合され、必要に応じて濾過され、次いで結晶が形成される可能性のある条件に供される。

異なる型の溶媒のアレイを用いることにより（化学的クラスに基づいていようと、それらの物理的特性に基づいていようと）、どの溶媒の型が薬物候補を結晶化するかに関する多量の情報が提供される。 さらに、広範な種々の溶媒を用いることにより、多量の異なる結晶性薬物候補の多形体が提供される可能性がある（存在する場合）。 例えば、異なる溶媒からの結晶化後の薬物候補の結晶多形体における変化を示す、図７を参照のこと。 これらの溶媒として、ヘプタン中で混和性の溶媒および水中で混和性の溶媒が挙げられる。 一旦、薬物候補を再結晶化する１つ以上の溶媒が同定されると、同定された溶媒と同一の化学的クラスであるかまたは物理的特性もしくは特徴を共有する他の溶媒が、さらなる実験において使用され得る。 これらの実験は、薬物候補の多形体を生成および特徴付けするため、ならびに特定の薬物候補に最適な再結晶化溶媒を見出すために実施され得る。

多形体アレイの別の実施形態において、このアレイは、２つ以上の溶媒の組成と混合された目的の薬物候補を含む。 ここで、各ウェルは、異なる溶媒組成を含む。 例えば、実施例３を参照のこと。 １つの実施形態において、アレイまたはその一部においてこの溶媒組成は、互いに対して異なる濃度の２つの溶媒であり得る。 互いに対する溶媒の濃度は、所望される任意の濃度であり得る。 １つの実施形態において、溶媒Ａおよび溶媒Ｂについての溶媒組成のアレイは、等式１を用いて決定され得る。 同様に、３、４、またはそれ以上の異なる溶媒を用いた溶媒組成のアレイが生成され得る。 ここで、互いに対する溶媒の相対的な濃度は、アレイにおいて変化する。 好ましい実施形態において、溶媒組成物における溶媒は、本明細書中で記載されるようにクラスター化されている。 上記のように、次いでのアレイは、結晶が合成される可能性のある条件に供され、そして結晶および多形体の存在が決定され得る。 どの濃度で溶媒により薬物候補が結晶化されるかを決定するために、異なる濃度の溶媒が使用され得る。 さらに、異なる濃度の溶媒で異なる型の結晶が形成されるか否かを決定するために、異なる濃度が使用され得る。

別の実施形態において、溶媒群の設計は、結晶形態の薬物候補の生成と、特定の溶媒の物理的特性または化学的特性を関連付ける情報を含むデータベースを提供し、物理的な特性が多くの結晶形態の生成と関連付けられるデータベースにおいて同定し、そしてこれらの同定された物理的特性または化学的特性を溶媒のグループ分けのための基準として用いて新規のライブラリーを設計することにより、実施され得る。

図５は、本発明の原理に従ったライブラリー設計プロセス５００のフローチャート図を示す。 ライブラリー設計プロセス５００を用いて、例えば、図４に図示したライブラリー４００を作製し得る。 工程５１０では、ユーザーは、ユーザー端末（例えば、図１のユーザインターフェース装置１８０）を用いて１以上のソースを規定または選択し得る。 ソースは、ライブラリーを調製するために用いられる材料（例えば、塩反応物、溶媒、薬物候補、溶媒混合物など）を備え得る。 また、工程５１０では、ユーザーは、ライブラリーレイアウトを規定または選択し得る。 ライブラリーレイアウトは、ライブラリーが基板上で作製されるレイアウト（例えば、１２×８のウェルの行列アレイを有する基板）またはリアクタアセンブリを表し得る。 あるいは、ライブラリーレイアウトは、実際の物理的パラメーターに必ずしも制限されず、むしろ、これは、漠然とした形式で（例えば、コンピュータ上で）提供され得る。

ユーザーは、同定情報を手動で入力することによって、または所定のソース（例えば、
図１のデータベース１１４）から同定情報を選択することによって、ソース材料およびライブラリーレイアウトを同定し得る。

工程５２０では、プロセス５００は、工程５１０において選択されたソースに基づいて各ライブラリーメンバーの組成を規定し得る。 各ライブラリーメンバーの組成は、材料を各ライブラリーメンバーに帰属させるマッピング配列によって規定される。 マッピング配列は、自動的に作製されるかまたはユーザーによって規定され得る。 自動的に作製されたマッピング配列は、ライブラリーを作製するために用いられ得る材料組成の網羅的マッピングを提供し得る。

工程５２０が各ライブラリーメンバーの組成を規定するのを完了したら、プロセス５０
０は、必要に応じて、工程５３０へと進む。 工程５３０では、工程５２０で規定された組成に基づいてレシピファイルが作成される。 このレシピファイルは、機器（例えば、材料処理装置１５０（図１））がライブラリーを調製するのを可能にし得る処理指示を実現し得る。 工程５３０は、任意である。 なぜなら、ライブラリーマッピングパラメーターは、
ライブラリーに従って基板のメンバーを調製するための材料分配装置を制御するソフトウェアと一体化され得るからである。

当業者は、図４および図５に関する上記の考察が、ライブラリーの設計の網羅的説明であることを意図していないことを認識する。 しかし、この考察は、本発明を記載するに適切な種々の特徴のうちの一部を考察する。 例えば、ＷＯ／２３９２１は、ライブラリーの設計の実質的説明を提供する。

ライブラリーを設計した後、このプロセスは、材料処理装置を用いて１以上のライブラリーを調製することに進む。 図６は、ハードウェアを制御して、本発明の原理に従うライブラリーを自動的に調製する、コンビナトリアルライブラリー調製プロセス６００のフローダイアグラム図を示す。 自動化工程は、所望の場合、手動で実施され得る。

工程６１０では、ユーザーは、プロセス６００において使用され得るハードウェアリソースを規定し得る。 ユーザーは、ハードウェアリソース（例えば、自動化液体処理ロボット、ポンプコントローラ、固体または粉末分配システム、および他の分配装置）を規定し得る。 ハードウェアを規定する際に、このようなハードウェアの操作特性もまた同定され得る。 例えば、特性（例えば、分配デバイスに取り付けられたシリンジの配置（例えば、
平行なシリーズで）、運動制限、工程サイズおよびアームの動きの基準位置、シリンジの分配能力など）が同定され得る。 他のハードウェアリソースは、基板の温度もしくは温度上昇速度または反応容器の圧力を調節するための温度コントローラを備え得る。

工程６２０では、レシピファイルまたはライブラリーの設計を含む他の指示は、プロセス６００によって受け取られる。 工程６２０は、データを分析し得、そしてハードウェアを制御してライブラリーを合成し得る材料処理指示セットを開発し得る。 材料処理指示は、例えば、図１の電子結合回路１１２へと提供され得、その結果、制御コマンドが材料処理装置へと提供され得る。 次いで、工程６３０では、材料処理指示が実行され、そして工程６１０で受け取ったレシピファイルに従って、ライブラリーが調製される。

プロセス６００を実施し得るソフトウェアは、ＷＯ ００／６７０８６（これは、その全体が、本明細書中に参考として援用される）においてより詳細に記載される。

塩、結晶、または多形体がライブラリー形式で作製された後、これらは、所望の特性に関しておよび特徴付けのためにスクリーニングされる。 本発明は、プロセスが次の工程に進むのを可能にするに充分な情報を提供するハイスループットスクリーニングを利用する。 スクリーニング試験を実施して、各ライブラリーメンバーについてのデータを得る。
スクリーニング試験は、このプロセスにおいて試験を実施するところに依存して、一次または二次であり得る。 最小の数のスクリーニング試験を実施して、ライブラリー中の材料を同定し得、材料の結晶性を決定し得、そして材料の溶解度を決定し得る。 さらなる試験を実施して、１以上のライブラリーメンバーについて、より多くのデータを入手し得る。

スクリーニング試験は、定量的データおよび／または定性的データを提供し得る。 定量的データは、本発明が、数値データに基づいて分析を実施することを可能にする。 このデータは、コンピュータ上で作動するソフトウェアプログラムにおいて使用するに充分適切である。 なぜなら、これは、迅速かつ正確に分類され得るからである。 しかし、定性的データは、かなりの数の操作を必要としない情報および比較的迅速な材料の特徴付けを提供する。 例えば、正体のスクリーニングは、ライブラリーのメンバーが、互いに異なるか、
または標準と異なるかを決定するために、充分な精度で実施され得る。 しかし、正体のスクリーニングは、ライブラリーの各メンバーを同定するほど徹底的ではないかもしれない。 別の例では、結晶性スクリーニングは、結晶のあらゆる（または大部分ですらある）特性（例えば、融点、単位格子など）を決定することなく、特定の結晶特性（例えば、形態）を決定し得る。

スクリーニング試験は、例えば、溶解度、分配係数（ｌｏｇ Ｐ）、複屈折（サンプルは、湿潤および／または乾燥である間）、融点、結晶形態、吸湿性、および他の物理的特性を決定する機器で実行され得る。 他のスクリーニング試験機器には、例えば、Ｘ線回折、ラマン分光法、ＩＲ分光法もしくは近ＩＲ分光法、ＵＶ−Ｖｉｓ分光法、核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）、ガスクロマトグラフィーおよび液体クロマトグラフィーを用いてデータが提供され得る。 これらの試験は好ましくは、このスクリーニング方法がプロセス全体を遅延させないように、並行して、または迅速に連続して、または自動化形態で、実施される。

図２Ａ、図２Ｂおよび図３に図示に例示されるように、スクリーニング試験は、このプロセスの異なる工程において実施される。 １以上のスクリーニング試験は、プロセスにおいて各スクリーニング工程で実施され得る。 いくつかのスクリーニング工程は、より多くの量のデータを提供し、その結果、ライブラリーメンバーは、単一スクリーニング試験によって実施される特徴付けよりも充分に特徴付けられる。 例えば、１つの実施形態では、
一次スクリーニング工程（例えば、図２Ａの工程２２５）は、少なくとも４つの異なる試験（例えば、溶解度、ｌｏｇ Ｐ、結晶性およびラマン分光法）を実施して、どのライブラリーメンバーがバルク合成のために選択されるべきであるかを決定し得る。 一次スクリーニング工程は好ましくは、二次スクリーニング工程よりも少ない試験を使用し、その結果、ハイスループットスクリーニングが最大化され得る。

二次スクリーニング工程（例えば、図２Ｂの工程２５５）はまた、いくつかのハイスループットスクリーニング試験を実施して、このバルクサンプルの徹底的な特徴付けおよび同定をこのプロセスに提供し得る。 二次スクリーニング試験は、試験（例えば、ＩＲ分光法、近ＩＲ分光法、ＵＶ−Ｖｉｓ吸収、Ｘ線回折、融点、およびｐＫ _ａ ）を包含し得る。
バルクサンプルについて実施され得る他の試験としては、ＮＭＲ、示差走査熱分析、示差熱重量分析および元素分析が挙げられる。

プロセスは、ハイスループット形態で溶解度、複屈折Ｘ線回折、吸湿性および／またはラマン分光法を実施して、ライブラリーメンバーを迅速かつ正確に特徴付けし得る。 特に、溶解度、複屈折、およびラマン試験のみを用いる場合、これらの試験は、形成し得る任意の塩を適切に特徴付けする。 さらに、これらの試験はまた、薬物候補（またはその塩）
の多形体が形成されたか否かを決定する。 次いで、所望の場合、異なる多形体のより詳細な同定は、さらなるスクリーニング試験および分析によって達成され得る。

溶解度は、上記のような多形体生成の再結晶化工程または塩選択の結晶化工程もしくは沈殿工程から、上清母液をサンプリングすることによって実施される。 この液体サンプルは、溶媒中の薬物候補（または塩）の量を決定するために、濃度検出器にかけられる。 この薬物候補（または塩）濃度は、液体クロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、ＵＶ−Ｖｉｓ範囲の吸収、赤外線（ＩＲ）、蛍光または任意の他の技術を使用して、検出され得る。 １実施形態において、ＵＶ照射検出器と組み合わされた液体クロマトグラフィーは、薬物候補濃度を決定するために使用され得る。 液体クロマトグラフィーシステムの例は、Ａｇｉｌｅｎｔ １１００ＬＣシステムである。

溶解度試験のためのサンプリングは、代表的に、再結晶化または沈殿が生じる温度で実施される。 溶解度試験は、迅速な連続様式でかまたは並行で実施され得る、高スループットスクリーニングとして実施され得る。 この試験は、溶液をサンプリングした薬物候補の塩が存在する特定の溶媒についての溶解度情報を提供する。 １実施形態において、０℃〜
７０℃の範囲の温度で溶媒もしくは溶媒混合物のアレイを形成し、そして上清中の化合物の濃度を決定することによって、平行マイクロタイタープレートまたは複数のウェルを含む他のアセンブリにおいて種々の条件下での１以上の薬物候補の溶解度を決定し得る。 好ましい実施形態において、この温度は、薬物候補または塩が溶解される温度（Ｔ _{ｉｎｉｔ
ｉａｌ} ）で測定され、そして薬物候補または塩が結晶化する最終温度（Ｔ _{ｆｉｎａｌ} ）で測定される。

分配係数（ｌｏｇＰとも称される）は、水／１−オクタノール混合物における溶解度の周知の尺度である。 高スループット様式において、ｌｏｇＰは、水および１−オクタノールの両方における候補薬物の塩の濃度を、特定の温度で測定することによって決定される。 好ましい実施形態において、１−オクタノール中の溶解度および水中の溶解度は、全プロセスの一部として、マイクロタイタープレートの別個のウェルにおいて測定され、これらの測定値を使用して、ｌｏｇＰを決定する。 代替の実施形態において、１−オクタノールで飽和した水および水で飽和した１−オクタノールは、溶媒として使用され得る。 この濃度は、液体クロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、
ＵＶ−Ｖｉｓ範囲での吸収、赤外線、蛍光または当業者に公知の他の濃度決定技術を使用して検出され得る。 任意の適切な検出デバイスを使用して、ｌｏｇＰは、水中の濃度によって１−オクタノール中の濃度を除算し、そしてその数のｌｏｇをとることによって、決定される。

複屈折試験は、サンプルの結晶性を決定するために使用され得る。 特に、複屈折試験は、形成された結晶の量、結晶の大きさおよび結晶の形状（例えば、針状構造、刃状構造、
管状構造または任意の他の構造）を示す。 図７は、本発明の原理に従う複屈折試験を使用して検出され得るいくつかの結晶構造を示す。 この結晶構造は、大規模合成に適切なライブラリーメンバーを決定する際に情報を提供する。 例えば、針状結晶は、しばしば、管状結晶よりも濾過が困難である。

複屈折試験は、ライブラリー中の湿性サンプルまたは乾燥サンプルに光を通過させることによって実施され得る。 好ましくは、これらのサンプルは、２つの平行な交差分極（ｃ
ｒｏｓｓ−ｐｏｌａｒｉｚｅ）フィルタ間と垂直に配置された交差分極フィルタとの間に位置する透明な基板上に配置される。 光システムは、この基板上のサンプルを光が通過する際の光の屈折を検出するために、これらのフィルタの１つの上または下に位置付けられ得る。 当業者は、このような設定において物質の複屈折を検出するために、他のデバイスが使用され得ることを理解する。 例えば、光ダイオードのアレイは、ある物質の複屈折を検出するために使用され得る。 この光システムは、１回の通過で全基板を有利にスクリーニングし、従って、この基板上に位置する物質の適切さを比較的迅速に示す。 複屈折試験デバイスの詳細な説明は、図２８と組み合わせて詳細に記載される。 任意の結晶構造が存在するか否かを決定するために光散乱を実施するための方法もまた、図２８と組み合わせて記載される。

結晶は、複屈折構造なので、光を屈折する能力を有する。 この特性は、複屈折試験が、
基板上のサンプルが結晶性であるか非晶性であるかを決定することを可能にする。 非晶性物質は、代表的には所望ではない。 なぜなら、これらは、結晶性形態よりも不安定かつより吸湿性である傾向があるからである。 平行光回転を使用するデバイスおよび収集デバイスの例は、米国特許第６，１５７，４４９号（'４４９特許）（これは、本明細書中でその全体が参考として援用される）において記載される。 複屈折試験ステーションは、例えば、光システムと組み合わせて'４４９特許中のデバイスを使用し得る。

物質サンプルのアレイのインサイチュ測定は、複屈折技術または光散乱技術を使用して実施され得る。 より具体的には、インサイチュ測定は、複屈折光学走査技術を使用して実施される。 光散乱技術を使用してインサイチュモニタリングを実施する装置の説明は、図３０に関する説明において以下に記載される。

インサイチュ測定の１つの利点は、インサイチュ測定が、物質サンプルの高スループット試験を最大化することである。 例えば、物質サンプルのアレイは、インサイチュでモニタリングされながら、結晶化条件に供されると考えられる。 さらに、これらの特定の結晶化条件は、いずれの結晶構造をも生じないと考えられる。 結晶化アセンブリを分解することおよびいずれの結晶構造をも含まない基板を提供することの代わりに、インサイチュモニタリングは、一連のスクリーニング試験に対して、このような不要な工程を回避するための情報を提供し得る。 結晶構造を含まない物質サンプルに対してスクリーニング試験を実施することは、新たな多形体を検出するためのスクリーニングプロセスを遅延させる。
従って、インサイチュモニタリングは、結晶を生じ得る異なる結晶化条件に物質サンプルを供することを生じ得る情報を提供する。

吸湿性試験は、物質が水を吸収する能力に従って物質（例えば、結晶）を特徴付ける。
吸湿性は、ラマン分光法、近赤外分光法または一連の「スナップショット」としてのインサイチュ測定を使用して、本明細書中の別の部分に記載されるように、自動化様式で試験されて、水の獲得（または喪失）を決定し得る。 ＰｕｕＭａｎ Ｏｙ（Ｋｕｏｐｉｏ、Ｆ
ｉｎｌａｎｄ）は、８個のサンプルの吸湿性を同時に測定し得るＨＭＡ（吸湿性測定装置）を製造および販売している。

吸湿性はまた、自動化計量システムによっても測定され得る。 例えば、サンプル含有バイアルは、（例えば、Ｂｏｈｄａｎ Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ（ａ Ｍｅｔｔｌｅｒ−Ｔｏ
ｌｅｄｏ Ｃｏｍｐａｎｙ、Ｖｅｒｎｏｎ Ｈｉｌｌｓ、ＩＬ）から入手可能なＢｏｈｄ
ａｎ Ａｕｔｏｍａｔｅｄ Ｗｅｉｇｈｉｎｇ Ｓｔａｔｉｏｎ（Ｂａｌａｎｃｅ Ａｕ
ｔｏｍａｔｏｒと称される）を使用して）自動的に計量される。 次いで、サンプル含有バイアルは、制御された雰囲気（例えば、特定の湿度）に対して選択された時間にわたって曝露され、その後、これらのサンプル含有バイアルは、自動的に再計量され、重量の差異が、吸湿性の測定値である。 いくつかの実施形態において、自動化計量ステーションは、
グローブボックスまたは他の雰囲気制御されたチャンバの内側に配置され得る。

吸湿性はまた、誘電性測定を用いて測定され得る。 このような誘電性測定は、嵌合したプローブを含む領域を有する基板上で実施され得、サンプルは、この領域中に配置され、
そして基板は、制御された雰囲気のチャンバ（例えば、制御された加湿チャンバ）中に配置される。 サンプルの誘電性特性における変化は、水が獲得（または喪失）される場合に測定され、そして吸湿性が決定される。

好ましい実施形態において、吸湿性は、微量天秤、より詳細には、高感度機械的共振器（その共鳴性能は、モニターされ、そして質量と相関付けられ得る）を用いてハイスループット様式で測定される。 １つの好ましい実施形態において、吸湿性は、本発明の記載に従って作製されたサンプル（例えば、汎用基板）をスクリーニングするための方法を用いて測定され、この方法は、以下の工程を包含する：（ａ）複数の固体サンプルを提供する工程；（ｂ）入力信号の供給源と信号伝達中（例えば、電気信号伝達、磁気信号伝達、光学信号伝達、熱信号伝達、または他の連絡）連絡において、機械的共振器上に第１サンプルを配置する工程；（ｃ）機械的共振器を測定ハードウェアと連結する工程；（ｄ）その機械的共振器上で、制御された雰囲気（例えば、湿潤雰囲気または乾燥雰囲気）にサンプルを曝す工程；（ｅ）入力信号を適用する工程；（ｆ）機械的共振器上のサンプルの湿気に対する機械的共振器の応答を、測定ハードウェアを用いてモニタリングする工程；ならびに（ｇ）測定が望まれる各サンプルについて工程（ｂ）〜工程（ｆ）を反復する工程。
さらに、この方法は、温度変化に応答した質量変化の分析を実施するためにも（例えば、
熱重量分析のために）、容易に適用され得る。

この好ましい方法において、工程（ｄ）で生じるモニタリングは、適切なロックイン増幅器または機械的共振器に対する入力信号を一定に維持しながらその共振器の周波数の変化をモニタリングするための類似のハードウェアを使用し得る。 あるいは、このモニタリングは、一定の周波数を維持しながら共振器からの電気的フィードバックの変化をモニタリングすることを使用する。

特に好ましい実施形態において、入力信号は、可変性の周波数入力信号であり、そしてモニタリングする工程（ｄ）は、予め決定された周波数範囲にわたって可変性の周波数入力信号の周波数を変動させて、機械的共振器の周波数依存性共振器応答を得る工程を包含する。 この好ましい方法は、好都合なことに、反復工程が、平行様式でサンプルのアレイを分析するために同時に実行されることを可能にする。 さらに、所望される場合、この反復工程は、連続的に実行され得る。

本明細書中に記載されるように、塩選択または多形体のワークフローにおいて使用される場合、好ましい方法は、以下の工程を含むようなものとして記載され得る：（ａ）微粒子の異なる薬学的多形体候補サンプルのアレイを提供する工程；（ｂ）先端に少なくとも２つの歯を有し、かつ入力信号の供給源と電気的に連絡している音叉共振器を提供する工程；（ｃ）複数サンプルのある量をその歯のうちの少なくとも１つに接着させる工程；（
ｄ）この音叉共振器と測定ハードウェアを連結する工程；（ｅ）そのアレイのうちの少なくとも２つのサンプルについて、同時に、その音叉共振器でそれらのサンプルを加湿する工程；（ｆ）そのアレイのうちの少なくとも２つのサンプルについて、同時に、可変性の周波数入力信号を適用する工程；（ｇ）そのアレイのうちの少なくとも２つのサンプルについて、同時に、予め決定された周波数範囲にわたって可変性の周波数入力信号の周波数を変動させて、サンプルの加湿に対する機械的共振器の周波数依存性共振器応答を得る工程；ならびに（ｈ）例えば、周波数応答の読出しを提供することによって、分析した各サンプルについての応答をグラフで表示する工程（ここで、周波数 対 信号がプロットされる）。

好ましい方法の別の実施形態は、少量の材料を測定するための装置を企図し、この装置は、複数の共振器、特に、先端に歯を有する音叉共振器；各共振器のためのホルダー；読出し板；共振器と読出し板との間の電気的な連絡を橋絡するための複数の細長部材；ならびに、少なくとも共振器、ホルダー、および細長部材を保有するフレームを備える。 この装置は、特に、装置の操作の自動化を促進するために、ロボットアームへの取り付けに適用される。 この装置は、（例えば、可変性周波数入力信号を共振器に提供するために、）
他の構成部分、例えば、サンプルを受けるためにその中に凹所を有するサンプル作業面、
ホストコンピュータ、および電源を備え得る。

この好ましい方法の利点は、多数あり、この利点としては、軟らかく、厚く、不均質な層または不規則な形のサンプルの質量測定；少量サンプルの測定（いくつかのサンプルは、約１００μｇ未満であり、より好ましくは約５０μｇ未満である）；特定の共振器（例えば、音叉共振器）は、約１〜３％より多く減少しないＱ因子を有し、ゆえにサンプル質量の相対的変化は、共振器周波数変化によって正確に測定されること；迅速な測定（いくつかの実施形態において、１分未満（そして他の実施形態において、単一サンプルまたは全アレイもしくは全ライブラリーについて、約３０秒未満または約５秒未満））；ならびに、リアルタイム質量トラッキング（またはリアルタイム吸湿性）の能力が挙げられる。
この好ましい方法の詳細は、共有に係る、表題「Ｈｉｇｈ Ｔｈｒｏｕｇｈｐｕｔ Ｍｉ
ｃｒｏｂａｌａｎｃｅ ａｎｄ Ｍｅｔｈｏｄｓ Ｕｓｉｎｇ Ｓａｍｅ」（代理人案件番号１０１２− 、本明細書と同時に出願）の米国特許出願番号 （これは、全ての目的について本明細書中に参考として援用される）に記載される。 米国特許第６，３
３６，３５３号および同第６，１８２，４９９号（これらは両方とも、全ての目的について本明細書中に参考として援用される）もまた参照のこと。

ラマン分光法は、高速連続様式でサンプルの位置を指定するＸ−Ｙステージを有する、
任意の型のユニット（例えば、市販のユニット（例えば、Ｒｅｎｉｓｈａｗ，Ｒａｍａｓ
ｃｏｐｅ））を用いて実行され得る。 いくつかの実施形態において、非常に高いスループットのスクリーニングを実行するために、ピーク割当は、獲得されたスペクトルで実行され得ない。 その代わり、スペクトルは、異なる多形体（または塩）がハイスループット実験において形成されたか否かを決定するための、「フィンガープリント」として使用される。 他の実施形態において、ピーク整合ソフトウェアが使用されて、異なる同一性の決定し得る。 ラマンスペクトル、ＩＲスペクトル、Ｘ線スペクトルまたは他のフィンガープリント型スペクトルは、定量的に分析され得ず、代わりに、スペクトルの間の相対的な同一性またはスペクトルの間の差異に関する定性的な決定に使用され得る。 グラフ形式で提供されたスペクトルの例を、図９に例示する。

形態学または結晶性はまた、例えば、交差ポーラライザーを用いて顕微鏡下で、ライブラリーの各領域を検査することによって実行され得る。 Ｘ線回折は、Ｂｒｕｋｅｒ ＧＡ
ＤＤＳ（Ｂｒｕｋｅｒ ＡＸＳ，Ｍａｄｉｓｏｎ，ＷＩ）上で実行され得る（米国特許第６，３７１，６４０号（これは、ハイスループットかつライブラリー様式で材料をスクリーニングする方法および装置を開示し、本明細書中に参考として援用される）もまた参照のこと）。

従って、選択されたスクリーニング試験は、さらなる調査のための薬物候補を選択するために使用される。 スクリーニング試験はまた、ライブラリーメンバー（例えば、大量サンプル）の詳細な特徴付けを実行するためのプロセスを可能にし、これらの適合性を決定する。 選択されたサンプルに基づいて同定された再結晶化条件を使用して、さらなる特徴付けのために所望の塩の大量サンプルを調製し得る。 本発明のプロセスの１つの特徴は、
「汎用基板」の使用である。 汎用基板とは、その上にサンプルを有し、かつサンプルの手動操作または他の操作を伴なわずに種々の試験（上記のもの）に使用され得る、基板をいう。 このことは、以下の考察においてより明確になる。 従って、単一基板（例えば、材料のアレイ）が、各試験についてサンプルを処理することなく、複屈折、ラマン、Ｘ線回折および融点について試験され得る。

材料スクリーニングデバイス１６０（例えば、複屈折ステーション、ラマンステーション、ＸＲＤステーション、融点ステーションなど）の自動化制御は、ハイスループットスクリーニングを有利に向上させ得る。 ハイスループットスクリーニングは、自動化制御によって向上される。 なぜなら、自動化制御は、薬物候補を迅速に特徴付け、そしてコンピュータにデータを提供するためのプロセスを可能にするからである（例えば、図１のコンピュータ１１０）。 自動化制御は、コンピュータを操作するソフトウェアプログラムによって提供され得る。 特に、ソフトウェアプログラムは、薬物候補の特性を特徴づけるため、および同定するために、材料スクリーニングデバイス１６０を制御し得る。

例えば、ソフトウェアプログラムは、材料スクリーニングデバイス１６０を指示して、
薬物候補の同定スクリーニングを実施し得る。 薬物候補は、代表的に、ライブラリー形式で配置されるので、ソフトウェアは、デバイス１６０が平行様式または高速連続様式で作動することを指示し得る。 平行スクリーニングは、２つ以上の薬物候補の同時の特徴づけを提供する。 高速連続様式のスクリーニングは、個々の基礎上での薬物候補の相対的に迅速なスクリーニングを提供する。

データは、材料スクリーニングデバイス１６０が薬物候補の特性を特徴付け、そして同定したとき、そのデバイスから得られる。 このデータは、ソフトウェアに提供され得、その結果、各薬物候補に関して、分析が実行され得る。 データ分析は、薬物候補を分類する工程、適切な薬物候補を決定する工程（例えば、塩選択について）、実験データの分類、
および多形体の決定（例えば、薬物候補、塩、および他の溶液について）が挙げられ得る。 データ分析は、処理の間に１回以上実行され得る。 例えば、データ分析は、どのライブラリー組成物がさらなる試験に適切であるかを決定するために、初期スクリーニングの後に実行され得る。 （このことは、それぞれ、図２Ａおよび３の工程２３０および３３５に例示される。）少なくとも１つのライブラリー組成物がさらなる試験に適切である場合、
二次データ分析を、処理中に実行し得る。 二次データ分析は、一次データ分析よりも、実質的により正確なデータの検査を生じ得、ハイスループットでの正確な結果を提供し得る。 （処理中の二次データ分析は、それぞれ、図２Ｂおよび３の工程２６０および３６０に例示される。）当業者は、データを特徴付けそして吟味するために必要な回数でデータ分析が実行され得ることを認識する。

図８は、試験される結晶構造が特定の多形体ファミリーの一部であるか否か、または新規に発見された多形体であるか否かを決定するための、例示的な流れ図を示す。 分類フロー８００は、ライブラリーメンバー中の任意の材料組成物を材料の既存のファミリー（例えば、既存の多形体ファミリー）に加えるべきであるか否か、または任意の材料組成物を材料の新規ファミリー（例えば、新規多形体ファミリー）に配置するべきか否かを決定する。 ファミリーは、類似の特徴を示す材料（例えば、結晶構造）の群を含む。 種々のライブラリーメンバーの分類は、スクリーニング試験（例えば、ラマン、ＸＲＤ、融点、溶解度、吸湿性など）から得られたデータに基づいて実行される。 分析フロー８００の１つの利点は、この分析フロー８００が、初期参照データに依存することなく、ライブラリーメンバー（例えば、数百個または数千個の材料）を適切なファミリー（すなわち、既存のファミリーまたは新規ファミリー）に分類し得ることである。 初期参照データもまた使用され得、そしていくつかの実施形態において、参照データは、例えば、既知の多形体が存在し、そして他のものが検索される場合に、好ましい。 分類フロー８００は、既知のデータまたは既存のデータを用いて統合されたか、あるいはそうでないデータベースを用いてライブラリーメンバーを分類しながら、参照データ（例えば、既存の多形体ファミリー）のデータベースを構築する。 このデータベースに基づいて、分類フロー８００は、本明細書中に記載されるように、例えば、プロセス２００および／またはプロセス３００を用いて作製される結晶構造を、連続的に分析および分類する。

図８の以下の考察において、本特定の例において考察するいかなる結晶構造についても、先行データは存在しないと想定する。 工程８１０において、ライブラリーアレイの結晶構造のスクリーニング試験から得られたデータを提供する。 任意の上記のスクリーニング試験は、各結晶構造についてのデータを提供するために使用され得る。 データセットがＸ
Ｙデータセットであることが好ましい。 例えば、ラマン分光学的スクリーニング技術、Ｘ
ＲＤ分光学的スクリーニング技術、または別の分光学的スクリーニング技術が使用される場合、スペクトルが提供される。 スペクトルは、結晶構造のピーク位置、ピークの高さ、
およびピーク幅などのデータを提供する。 例えば、融点スクリーニング技術が使用される場合、温度の数値が、工程８１０に対するデータとして提供される。

工程８１０で得られるデータが、最初の結晶構造から得られるデータの最初のセットであると想定すると、比較のために使用され得る参照データは存在しない。 従って、工程８
２０でのデータベースは、少なくとも最初は、無効の参照データである。 特に、工程８２
０は、多形体ファミリーを示すいかなる参照データも有さない。 明確性および簡潔さのために、工程８１０から提供される任意のデータ（これは、プロセス８００で使用される）
が、新規結晶構造として参照される。 工程８３０を進行すると、結晶構造に関与するデータが、工程８２０で保存された既知の各多形体ファミリーについてのデータに対して比較される。 従って、結晶構造は、反復性の比較プロセスを受け、これは、各反復の後、相関係数を生成する。 相関係数は、結晶構造がどの程度、特定の多形体ファミリーに「近い（
ｃｌｏｓｅ）」かを示す。

当業者は、反復技術以外の方法が、既存の多形体ファミリーの各々に対して結晶構造を比較するために実行され得ることを認識する。

分類プロセス８００は、相関係数を得るために統計学的方法を使用し得る。 統計学的方法は、参照データセットに対する、結晶構造と関連するデータの偏差（例えば、標準偏差）を決定するために使用され得る。 このような数理的関数を実行するソフトウェアプログラムとしては、Ｎａｔｉｃｋ，ＭａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓのＭａｔｈＷｏｒｋｓ，Ｉｎ
ｃ． によって販売されるＭＡＴＬＡＢ（登録商標）ソフトウェア、Ｃｈａｍｐａｉｇｎ，
ＩｌｌｉｎｏｉｓのＷｏｌｆｒｕｍ Ｒｅｓｅａｒｃｈ，Ｉｎｃ． によって販売されるＭ
ａｔｈｅｍａｔｈｉｃａ（登録商標）、およびＣａｍｂｒｉｄｇｅ，Ｍａｓｓａｃｈｕｓ
ｅｔｔｓのＭａｔｈＳｏｆｔによって販売されるＭａｔｈＣａｄ（登録商標）が挙げられる。 当業者は、上記のプログラムとは異なる他のソフトウェアプログラムが、行列に基づく計算および他の数理的な計算を実行するために使用され得ることを、認識する。

工程８３０の比較プロセスは、工程８１０によって提供されるデータ型に別々に基づく、異なる比較技術を使用する。 １つのこのような技術は、相互相関技術である。 この技術は、代表的に、測定データがラマン分光法を用いて得られた場合に、使用される。 当業者が理解するように、ラマンスペクトルは、代表的に、結晶の特徴を示す曲線またはグラフである。 このようなグラフを、図９に例示する。 相互相関技術は、点−対−点の相関付けを実行して、測定されたスペクトルがどの程度、参照スペクトルに「近い」かを決定する。 比較が実行された後、相互相関は、どの程度、近くグラフ一致するかに基づいて、獲得される。

工程８２０で実行され得る別の技術は、ピークマッチングパーセンテージ技術（ｐｅａ
ｋ ｍａｔｃｈｉｎｇ ｐｅｒｃｅｎｔａｇｅ ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ）（例えば、ピーク位置が比較される）である。 この技術は、代表的に、Ｘ線回折（ＸＲＤ）分光法によって得られたスペクトルを比較することを使用する。 この技術において、ＸＲＤグラフのピーク位置は、アルゴリズムを使用して決定される。 次いで、決定されたピーク位置が、参照データのピーク位置（例えば、特定の多形体ファミリーのピーク）と比較される。 パーセンテージ値は、このＸＲＤピークが参照データにどのように類似するかに基づいて得られる。 このパーセンテージ値は、相関係数に類似する。

反復した比較が実行された後、工程８４０で最良の相関係数が得られる。 最良の相関係数は、新規結晶構造が最良に一致した多形体ファミリーと関連する。

工程８５０において、最良の相関係数が、予備決定された値と比較される。 代表的に、
この予め決定された値とは、結晶構造と関連するデータが既存の多形体ファミリーと関連するか否かを決定するための閾値を設定する、ユーザー規定の相関係数である。

相関係数が予め決定された値を超えた場合、結晶構造は、工程８６０において最良の相関係数と関連する多形体ファミリーにグループ分けされる。 工程８６０の後、プロセス８
００は工程８１０に戻り、この工程８１０は、工程８３０に次の新規結晶構造を提供する。

相関係数が予め決定された値を超えない場合、新規結晶多形体ファミリーが工程８７０
において新規結晶構造に関して得られたデータに基づいて作製される。 実行されるべき任意の比較について参照多形体ファミリーが存在しない場合、結晶構造は、工程８７０において新規多形体ファミリーを作製するために自動的に使用される。 新規多形体ファミリーに関連するデータが、既存の多形体ファミリーとして参照としての使用のために、工程８
２０で提供される。 また、工程８７０の後、プロセス８００は、工程８１０に戻る。 単一の薬物候補に基づくライブラリーの全シリーズからのデータを、連続的プロセスで仕分けして、その結果、薬物候補の個々の形態を示す、１セットのファミリーを作製し得る。

従って、分析プロセス８００は、スクリーニングされたデータに基づく結晶構造の特徴付けを示す。 当業者は、図８に示される工程が、単なる例示であり、そしてさらなる工程が付加され得、そしていくつかの工程が省略または改変され得ることを理解する。

所望の場合、参照データ（例えば、コンピュータファイル、ルックアップ表、または他の適切な情報源）が、工程８２０においてデータベースに提供され得る。 ライブラリーメンバーを作製するために使用されるパラメータは、工程８２０においてデータベースに提供され得る。 例えば、パラメータ（例えば、塩に添加される溶媒、結晶化温度および他のパラメータ）を使用して、ライブラリーアレイを処方し、そしてこのアレイを結晶化する。 このデータを、結晶構造の分類において基準として使用し得る。

測定データを記憶することは、各ライブラリーメンバーからのデータ（例えば、スペクトル）を記憶するデータベースを提供する。 これは、目下測定されたデータを、他の以前にスクリーニングされたライブラリーと比較することを有利に可能にする。 いくつかの実施形態において、新規ファミリーの多形体が工程８２５において発見される場合、以前に同定されたファミリーからのデータは、新たに得られたデータと比較され得る。 これは、
分析プロセス８００が、「新規」ファミリーが、以前に同定されたファミリーに対応するか否かを決定することを可能にし、その結果、データは、既存のファミリーに帰属され得る。 このことは、データのファミリーの総数を効率的に減少させ、データのファミリーまたは群内の高い相関を可能にする。 なお、ファミリーまたは群間のユーザーが規定したバリエーションは、依然として保存される。 他の実施形態において、元々のデータが提供されない場合、最初の実験的に決定されたデータが、「出発」情報として使用され得る（例えば、工程８２０は、所定のウェルまたは情報の所定の断片からのデータを使用し得る）
。

プロセス８００を実行して異なるライブラリーメンバーを分類する、プレ情報システム１００の例示的な例（図１）は、図９〜１２と組み合わせて記載される。 以下の実施例において、データを獲得するデバイス（例えば、赤外線デバイス、ＵＶ−Ｖｉｓ吸収デバイス、ラマンデバイス、Ｘ線デバイス）を使用して試験される、９６ウェルの基板の各ライブラリーメンバーを推定する。 このようなデバイスを使用して、データを、図の形式で配置し得る。 図９は、ラマンデバイスを使用して４つの異なるライブラリーメンバーから得られたスペクトルデータを示す。 このスペクトルデータは、ライブラリーメンバーの各々が、同じ薬物候補の多形体を含むが、同じファミリーまたは群の一部として分類されるに十分類似することを示す。

図１０は、例えばＸ線回折デバイスを使用して、３つの異なるライブラリーメンバーから得られたスペクトルデータを示す。 図１０は、これら３つのライブラリーメンバーもまた、多形体を有するが、各々が互いに異なり、その結果、これらが同じファミリー群の一部ではないことを示す。

図１１は、スクリーニングされたライブラリーメンバーのいくつかのスペクトルグラフを含む、例示的インタラクティブディスプレイスクリーン１１００を示す。 ディスプレイスクリーン１１００は、スペクトル１１０５が、アレイ形式１１０８で配置されることを示す。 好ましくは、スペクトル１１１０は、スクリーニングされた基板のレイアウトと一致するように配置される。 図１１に示されるように、アレイ１１０８の全ての部分がスペクトル要素を有するわけではない。 このことは、結晶が、結晶化（例えば、再結晶化）プロセスの間に形成しないことに起因し得る。

図１１はまた、ユーザーが、スペクトル分類パラメータ１１１０を入力および変更し得ることを示す。 例えば、ユーザーは、最小分類相関係数を入力し得る。 図８と合わせて上記したように、この相関係数を使用して、結晶構造が特定のファミリーに属するか否かを決定し得る。 相関係数として入力された値は、−１と１との間の範囲であり得る。 この相関係数が１に近づくほど、基準は、既存のファミリー中に特定のライブラリー要素を配置するためによりストリンジェントになる。 例えば、１０個のライブラリー要素が存在し、
かつ相関係数が０．９である場合、各ライブラリー要素は、新規ファミリーと相関され得、従って、１０個の異なるファミリーを形成する。 この相関係数が０により近い場合、既存のファミリーに特定のライブラリー要素を一致させることは、より低いストリンジェントになり、その結果、より少ない新規ファミリーを生じる。 相関係数について選択される値は、代表的に約０．５〜約０．９の範囲である。 選択された相関係数は、例えば、プロセス８００の工程８５０で使用される所定の値であり得る。

ユーザーは、ファミリー分類選択を決定する際の基準を提供するために、固定された参照（例えば、所定の参照）を使用するか、または任意の参照（例えば、ライブラリー要素）を使用するかを決定し得る。 当業者は、さらなるパラメータが、本発明の精神の範囲内で適切なように入力または改変され得ることを認識する。 ユーザーはまた、幅および高さのパラメータ１１１５を変化させることによって、アレイ１１０８の画像サイズを変化させ得る。 ユーザーは、送信オーバーレイ１１２０を選択することによって、入力を提出し得るか、またはユーザーは、リセットオーバーレイ１１２２を選択することによって、入力をリセットし得る。

別の実施形態において、分類プロセス８００は、ＸＹデータセットを用いて具体化され得、ここで、ｘｙデータセット間の類似は、−１．０〜＋１．０の範囲の相関係数（ＣＣ
）（＋１．０が、同じ群にわける完全一致であり、不十分な品質と思われるデータに使用される）によって測定される。 ソータは、デフォルト群、すなわちジャンク群を有する。
データがジャンクであるかそうでないかを決定するためのパラメータは、ユーザーによって設定され得、各データセットを、このデフォルト位置に配置される前にチェックして、
これがジャンクであるか否かを調べる。 データセットがデフォルト位置に配置されない場合、新規群を、残存データからのｘｙデータセットを、参照に対して、そして各既存群からの参照セットを使用して、分類されていないサンプルのｘｙデータセットの各々について比較することによって、作製し得る（または各既存群から、全てのセットを引出し得る）。 参照セットに対するサンプルデータの比較は、ＣＣ値を提供し得る（または、これらのセットに対するサンプルの比較によって、これらの比較から最良のＣＣ値を得る）。 その後、最良のＣＣ値およびＣＣ比較が由来する群の保持が続く。 最良のＣＣ値が特定の値未満である場合、このサンプルは、新規群に配置される；さもなければ、このサンプルは、最良のＣＣ値が得られた群に配置される。 ユーザーは、比較を視覚的に実施し、そして手動で群を帰属させることによって自動化分類を覆し得る。 このことはまた、ピーク位置、ピークの高さまたは他のデータに対して実行され得る。 従って、ＸＲＤデータについて、ピーク位置を使用して相関係数を決定することが現在好まれる。

別の実施形態において、このプロセスはまた、ユーザーがリサイクルピンを規定することを可能にし、ここで、データは、相関プロセスによって再試行するために指定され得る。 この様式において、ユーザーは、異なるパラメータに基づいて分類されるべきデータを同定し得る。 なお別の実施形態において、ユーザーは、少なくとも１つの異なるパラメータに基づいて複数の相関を試行することによって、相関プロセスを反復し得る。

図１１Ａは、ユーザーが、スペクトルを相関させる再に使用されるパラメータを規定するための、ダイアログボックス１１５０の１つの例を示す。 ボックス１１５０の１つの側面は、ユーザーが、自動化ジャンク分類１１５２（これは、上記のように、分類ワークフローからのデータの除去亡可能にする）を規定することを可能にする。 チェック１１５４
を実行することは、ボックス１１５２の残りに含まれるこの特徴を、ユーザーが規定し得る設定を用いて、可能にするかまたは不可能にする。 移動平均点１１５６は、データの信号を滑らかにするために使用される。 最小のピークの高さ１１５８は、相関プロセスについてピークであるとみなされるために、ｘｙデータセットにおけるピークが一致しなければならない高さを設定するために使用される（例えば、この特徴は、バックグラウンドのノイズレベルを設定し行、そして相関プロセスがこのノイズを無視することを可能にし得る）。 最小ゼロ交差１１６０は、ユーザーが、各ピークがデフォルトとして２つのゼロ交差を有するという絶対の仮定を用いて、ピークについてゼロ交差の最小数を設定することを可能にする。 最大ゼロ交差１１６２は、ユーザーが、データセット中のゼロ交差を最大数を設定することを可能にし、その結果、このデータは、良好な品質を有するとみなされる。 例えば、多すぎるゼロ交差を有するスペクトルは、このスペクトルが単にノイズを含み得ることを意味し得る。

ボックス１１５０の一致アルゴリズム１１６４側は、相関因数を設定するために使用される。 範囲１１６６は、単一および全てについての設定を有し、単一は、既存のファミリーまたは形態のみのマスターデータまたは参照データに対して、サンプルを比較する。 得られたスコアは、特定のファミリーについて、サンプルと参照データとの間の比較スコアを示す。 全ての設定は、サンプルデータを、すでにファミリーに存在する全てのデータと比較し、この場合、最良の相関スコアは、全ての比較から生じる最良スコアを示す。 方法１１６８は、ユーザーが、データのどの部分が相関について使用されるかを決定することを可能にする。 図１１Ａに示すように、ピーク中心は、ピーク位置に基づいて（ピーク中心のバンド幅１１７２で規定されるような、受容可能な偏差内で）相関を実行する。 相関の他の方法は、総信号相関を含み、これは、相関のためにデータセットの入力を使用する。 相関の異なる信号方法は、サンプルおよび参照データのデジタルの異なる信号（一次偏差）に基づいて、相関を実行する。 基準をずらした相関の方法は、データ中のずらされた曲率および傾きを用いて、データに基づいて相関を実行する。 相関の他の方法は、当業者の範囲内であり、例えば、スペクトル、ピークの高さまたはピークの幅を含む。 代表的な相関係数１１７０は、最良の相関係数を得るために許容できる差異を決定する設定である。 ピーク中心バント幅１１７２は、ユーザーが、スペクトルデータセットのピーク中心において許容できる偏差を設定することを可能にする。 最小のピークの高さ１１７４は、一般に、１１５８と同じ機能を実行し、移動点平均１１７６は、ユーザーが、相関目的のために、データ点のセット数を一結に平均することを可能にする。

図１１Ｂは、ユーザーが、相関を実行するためにパラメータを設定することを可能にする、ダイアログボックス１１８０の例を示す。 ユーザーは、ボックス１１８２を用いて、
上記のように、最小の相関係数を設定する。 ユーザーは、チェックボックスまたは未チェックボックス１１８４のいずれかによって、以前の分類結果が新規分類において使用されることを可能にし、以前の分類結果の使用は、上記のように、データをリサイクルすることを可能にする。 目的の領域１１８６の部分は、ユーザーが、データの特定の部分を規定して、相関ワークフローにおいて考慮することを可能にし、例えば、スペクトルの特定の領域のみが目的で参る場合、この部分は、相関のために使用され得る。 ボックス１１８０
に示すように、この特定の実施形態は、ユーザーが、（低い方の設定（低Ｘ）および高いほうの設定（高Ｘ）を有する）５つの間隔範囲１１９０を設定することを可能にする。

図１１Ｃは、ユーザーが、手動でデータを１つの群（例えば、ファミリーまたは形態）
から別の群（またはファミリー）に移動させることを可能にする、ダイアログボックス１
１９２を示す。 この特徴は、ユーザーが、相関のために使用されるファミリーを手動で作製することか、または手動で相関を変化させることを可能にする。

ユーザーが、送信オーバーレイ１１２０を選択する場合（図１１）、このプロセスは、
ユーザーによって規定されるパラメータに従って、スペクトルデータを分析し得る。 例えばこのプロセスは、図８に示される原理を利用して、各ライブラリー：要素を分析し得、
そして既存のファミリーまたは新規ファミリーにグループ分けし得る。 図１２は、それぞれのファミリーに従って図１２のライブラリー要素の各々を組織した、例示的ディスプレイスクリーン１２００を示す。 特に、ディスプレイスクリーン１２００は、ライブラリー要素が、１２個の異なるファミリーにグループ分けされることを示す。 従って、これらのライブラリー要素の各々は、しかるべくグループ分けされる。

ユーザーは、相関係数を繰り返し変化させ、そして送信オーバーレイ１１２０を選択して、スペクトル１１０５におけるライブラリーメンバーの異なるグループ分けを生成し得る。 例えば、ユーザーが、ライブラリー要素の６個のファミリーを生成することを所望する場合、ユーザーは、相関係数を変化させて、このような結果を達成し得る。 特定の数のファミリーが既知であるかまたは予測されるので、ユーザーは、これを行うことを所望し得る。 異なる試験（例えば、ラマン、吸湿性、ＸＲＤ、融点）が、このような結果を以前に得たので、ユーザーは、どれだけのファミリーが予測されるかを知り得る。

本明細書中に記載されるソフトウェアを使用する１つの利点は、ユーザーが、異なるデータセットに基づくいくつかの分類試験を実行し得ることである。 例えぱ、ユーザーは、
他のスクリーニング技術のうちでも、溶解度、ｌｏｇ Ｐ、結晶化度、融点、吸湿性、結晶多形体および複屈折、ならびにＸ線回折、赤外線（ＩＲ）、近ＩＲ、およびラマン分光法に基づいて、ライブラリーメンバーを分類し得る。 ２以上のこのような試験に基づいて分類が実行された後、各分類の結果を相互参照して、不一致を決定し得るか、そして／または潜在的な新規多形体の知見を確認し得る。

図２Ａ、２Ｂおよび３と合わせて上記されるようにプロセス２００および３００は、ライブラリーメンバーを調製、スクリーニングおよび分析して、異なる多形体にグループ分けする。 本発明の目的は、多形体の高スループット試験を提供することなので、ソフトウェアは、スクリーニングプロセスを最適化するために実行され得る。 ソフトウェアは、特定のライブラリーメンバーについて実行される必要の毒やスクリーニング試験の数を最小化し得る。 従って、多形体について試験され得るライブラリー要素の数を増大し得る。

図１２Ａは、本発明の原理に従ってさらなる試験に供されるべきライブラリーメンバーを決定するソフトウェアプロセス１２７０の、例示的流れ図を示す。 プロセス１２７０は、工程１２７２で開始し、ここで、ライブラリーメンバーの各々は、最初のスクリーニングに供される。 スクリーニングは、上記のように、コンピュータにデータを提供し、そしてこのデータに基づいて、プロセス１２７０は、特定のメンバーが、さらなる試験に適切であるか否かを決定し得る。 好ましくは、この最初のスクリーニングは、比較的速いクリーニング（例えば、複屈折試験）である。

工程１２７４において、プロセス１２７０は、特定のライブラリー要素に関連するデータが、特定の基準を満たすか否かを決定する。 工程１２７５によって提供される基準は、
どのライブラリーメンバーがさらなる試験を実行するために選択されるべきかを選択するための、基準値または閾値を提供するデータを含む。 例えば、複屈折試験が便用される場合、この基準は、いずれの型の結晶構造がライブラリーメンバー中に存在するかであり得る。 閾値を設定するために選択され得る基準は、ユーザーまたは決定を行うコンピュータプログラムによって選択され得る。

１つの実施形態において、後のスクリーニング試験（例えば、ラマン、ＸＲＤなど）は、確定値を上回る算術的平均を有する、複屈折画像を有するサンプルに対してのみ実行され得る。 算術的平均は、この場合、複屈折条件下のライブラリーメンバーの画像からの全てのピクセル強度の平均であり得る。

データが、結晶構造がライブラリーメンバー中に存在することを示す場合、このメンバーは、工程１２７６におけるさらなる試験のために適切である。 しかし、データがライブラリーメンバー中に結晶構造が存在しないことを示す場合、このメンバーは、工程１２７
８におけるさらなる試験のために適切でないと特徴付けられる。 一旦ライブラリーメンバーが選択されると、さらなるスクリーニング試験（例えば、ラマン、ＸＲＤ、融点）が実行され得る。 さらなる試験を実行することは時間がかかるので、プロセス１２７０は、不必要な試験を効率的に排除し、それによって全体のプロセス（例えば、ワークフロー）のスループットを最小化する。

所望される場合、選択的スクリーニングプロセスが進行され得る。 すなわち、特定のライブラリー要素が最初のスクリーニングにおいて選択され、第二のスクリーニング（例えば、ＸＲＤスクリーニング）に供されることを仮定する。 プロセス１２７０に記載される原理を適用して、第二のスクリーニングに基づいた最小基準標準を満たせない場合、同じライブラリーメンバーは、さらなるスクリーニング試験に供される必要はない。

以下に記載するいくつかの装置が庚用されて，塩を選択し、そして多形体を見出すためのプロセスを実行する。 さらに、以下の考察は、このような装置が、図２Ａ、２Ｂおよび３に例示されるプロセスと合わせていかに使用されるかを記載する。

適切な形態の発見および特徴付けのために選択された薬物候補または塩の処理は、コンビナトリアル様式または高スループット様式で実行される、少なくとも２つ（しかし、好ましくは３つ）の工程を必要とする。 必要とされるこの２つの工程は、その薬物候補またはその塩の溶解、および溶液からのその候補の結晶化である。 この溶解工程と結晶化工程との間に存在し得る必要に応じた第３の工程は、濾過または遠心分離により、その溶液から残存するすべての固体を分離することである。 この必要に応じた工程は、この結晶化工程のための核生成部位を除去するために必要であり得る。

一般的なリアクタアセンブリが、図１３に示される。 リアクタアセンブリは、薬物候補、溶媒、酸、塩基などを処方するために使用され得る。 リアクタアセンブリは、塩選択のために溶液を溶解するため、または多形体試験のために溶液を溶解するために、使用され得る。 リアクタアセンブリ（例えば、図１３のリアクタアセンブリ１３００）は、目的の反応を含むために適切である。

図１３は、例えば、本発明の原理に従ってライブラリーのメンバーを調製するために使用され得る、リアクタアセンブリ１３００の断面図を示す。 図１３に示されるように、リアクタアセンブリ１３００は、マイクロタイター形式で構築される。 リアクタアセンブリ１３００は、１つ以上のウェル１３０４を用いて構築されたリアクタブロック１３０２を備える。 各リアクタブロック１３０２は、反応容器１３０６を収容し得る。 薬物候補および溶媒のような物質が、反応容器１３０６において混合される。 反応容器１３０６は、その反応溶液間の相互混入を防ぐために、互いに離れている。 これは、留めデバイス１３１
２（例えば、ボルト、スクリュー、クランプなど）を用いてカバープレート１３１０をリアクタブロック１３０２に留めることにより、反応容器１３０６の上にシーリングシート１３０８を固定することによって、達成され得る。

当業者は、適切な任意の数のウェル１３０４が構築され得ることを、認識する。 例えば、リアクタアセンブリは、９６ウェルを有し得るし、またはリアクタアセンブリは、３８
４ウェルを有し得る。

リアクタブロック１３０２およびカバープレート１３１０は、適切な任意の材料（例えば、金属（例えば、鋼、アルミニウム）、プラスチックおよびセラミックス）から構築され得る。 アルミニウムまたはアルミニウム合金のような材料が、好ましくあり得る。 なぜなら、これらは、望ましい温度特性および構造特性を有するからである。 反応容器１３０
６は、プラスチックまたはガラスであり得、ガラスが好ましい。 シーリングシート１３０
８は、代表的には、反応容器１３０６において生じる目的の反応に対して化学的に耐性であり、かつそのシーリング特性のために弾性的である、材料から作製される。 シーリングシート１３０８は、Ｔｅｆｌｏｎ（登録商標）、シリコーンラバー、Ｖｉｔｒｏｎ（登録商標）、Ｋａｌｒｅｚ（登録商標）または等価物のような材料から構築され得る。 所望される場合、シーリングシート１３０８は、２つ以上のこのような材料を用いて構築され得る。

材料は、手動でかまたは自動ロボットによって、反応容器１３０６中に分配され得る。
自動装置は、工程２１２（図２Ａ）の速度および精度を増加し得る。 液体処理ロボット（
例えば、Ｓｕｎｎｙｖａｌｅ，ＣａｌｉｆｏｒｎｉａのＣａｖｒｏ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉ
ｃ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ，Ｉｎｃ． により販売される、ロボット）が、材料を自動的に分配するために使用され得る。 図６に関連する説明により、本発明がどのようにして反応容器１３０６中に材料を分配するようにロボットを制御し得るかが、より詳細に説明される。

図１３は、本発明において使用され得るそのような１つのリアクタアセンブリの一般的例を提供する。 図１５は、ライブラリーを作製するために使用され得る、より詳細なリアクタアセンブリを示す。 図１５は、この詳細な説明の装置の節において、以下に説明される。 また、その装置の節において記載されるのは、材料の調製を容易にする他のアセンブリおよび手段である。 例えば、図２４〜２８は、このリアクタ容器内に含まれる材料を加熱する、加熱デバイスを示す。

各容器中の反応混合物の加熱および／または攪拌は、しばしば、溶媒中の候補材料の溶解を促進するために使用される。 溶解の前に、混合／攪拌ボールまたは磁気スターラー（
例えば、ノミ（ｆｌｅａ））が、手動によってか、または（以下に詳細に説明されるような）図１４に示されるようなデバイスを用いて、リアクタに添加され得る。 その後、このリアクタブロックは、反応内容物を混合および加熱するための加熱エレメントを備えて固定された、振動プレート、回転プレート、またはボルテックスプレート上に配置され得る。 上記の磁気攪拌装置もまた、この材料を攪拌するために使用され得る。 また、この加熱エレメントは、所望の加熱サイクルを提供するようにプログラム可能であり得る。

各バイアルにガラスボールまたは金属ボールを添加することにより、溶解工程／合成工程の間の攪拌が改善され得る。 図１４および図１４Ａは、それぞれ、対象物分配アセンブリ１４０２の３次元図および分解３次元図である。 この対象物分配アセンブリ１４０２は、本発明の原理に従って、並列していくつかの対象物を分配する。 分配アセンブリ１４０
２は、側壁１４０８から延びて（図１３に示される）リアクタブロック１３０２の外縁と並ぶフラップ１４０９を使用して、リアクタアセンブリ（例えば、リアクタアセンブリ１
３００）上に固定され得る。

分配アセンブリ１４０２は、側壁１４０８と底部プレート１４１１とにより形成される空洞１４０６を覆う、カバー１４０４を有する。 底部プレート１４１１は、好ましくは、
分配アセンブリがバッチリアクタ１３００に取り付けられた場合にバッチリアクタ１３０
０中のレセプタクル（ｒｅｃｅｐｔａｃｌｅ）（例えば、ウェルまたはバイアル）と並ぶ複数のホールを備えて構築される。 また、分配アセンブリに含まれるのは、分離アセンブリ１４１０である。 分離アセンブリ１４１０は、分離プレート１４１２およびスライドプレート１４１４を備える。 分離プレート１４１２は、一群のガイドホールを有し得、このガイドホールは、対象物（例えば、ボールまたは磁気スターラー）を、スライドプレート１４１４のホールへと導く。 分配アセンブリ１４０２の操作は、以下の段落においてより明らかである。

過剰の対象物（例えば、ボール）が、空洞１４０６に保持される。 この過剰の対象物から、アセンブリ１４０２を振動させることにより、１つの対象物が、分離プレート１４１
２の各ガイドホールに配置される。 １つの対象物は、スライドプレート１４１４中のホールを分離プレート１４１２中のガイドホールと並べる第１位置に、スライドプレート１４
１４を移動させることにより、スライドプレート１４１４の各ホールに移される。 この第１位置において、スライドプレート１４１４中のホールは、底部プレート１４１１中のホールとは並ばない。 これらの対象物は、下のリアクタベースにあるレセプタクル中に直接は分配され得ない。 従って、１つのボールが、スライドプレート１４１４の各ホールに保持される。 １つだけのボールが、スライドプレート１４１４に保持される。 なぜなら、このスライドプレート１４１４は、対象物の厚さ（例えば、ボールの直径）と実質的に等しい厚さで構築されるからである。 その後、スライドプレート１４１４は、下のリアクタベース中にあるウェルまたはバイアルと、スライドプレート１４１４中のホールとを（底部プレート１４１１中のホールを介して）並べ、かつ同時に、同じホールを、分離プレート１４１２中のガイドホールと並んだ状態から動かす、第２位置へと移動される。 このことにより、底部スライドプレート１４１４中の各ホールに収容された対象物が、下にある対応するレセプタクル中に落ちることが可能になる。 分配アセンブリ１４０２は、分離アセンブリ１４１０を変化させることによって、異なる直径のボールを分配するように改変され得ることが、注意されるべきである。 図１４に示される並列分配デバイスは、攪拌ノミ（ｆｌｅａ）のような他の小さい固体を分配するために使用され得る。

攪拌対象物（例えば、ボール）がリアクタアセンブリに添加されるか否かに関わらず、
一群の溶媒または溶媒混合物が、リアクタアセンブリ内に収容されたバイアルに添加される。 内容物は、それぞれのバイアル中にシールされ、その後、所定期間の間、特定の温度で攪拌される。 その温度は、代表的には、その群の中で最も揮発性の溶媒の沸点より約２
０℃低い温度から約１０℃低い温度までの範囲である。 その期間は、代表的には、約１時間から約２４時間までの範囲である。 さらに、その混合は、機械的攪拌により加速され得る。 好ましい配置において、その溶液は、ボルテックス、ソニケーター、シェーカー、インキュベーター、または他の適切な振動デバイスおよび加熱デバイスの使用を介して、混合される。

一旦その溶液が完全に混合されると、熱濾過または遠心分離のいずれかによって、その上清液体が、すべての残留固体から単離され得る。 その後、その上清液体中に溶解した固体の濃度が、適切な任意の技術（例えば、液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、赤外分光法またはラマン分光法、およびＵＶ−可視吸収（下記にて考察される））を使用することによって、測定され得る。

それらの材料が混合された後、リアクタアセンブリのカバーが取り外され、そしてその溶液（代表的には、上清または母液）のアリコートが、取り出され、そしてガラス基板または汎用基板に移され、そして冷却される。 ガラス基板（例えば、Ｆｒａｎｋｆｕｒｔ，
ＧｅｒｍａｎｙのＺｉｎｓｓｅｒ Ａｎａｌｙｔｉｃ ＧｍｂＨにより販売される、ホウケイ酸リアクタプレート）が、このプロセスにおいて使用され得る。 この溶液が冷却すると、結晶が形成し得る。 その基板が冷却される速度は、制御され得る。 例えば、その基板は、冷却浴、熱モジュール、または冷却インキュベーター（Ｔｏｒｒｅｙ Ｐｉｎｅｓ
Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ，Ｉｎｃ． ，Ｓｏｌａｎａ Ｂｅａｃｈ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａにより販売される）に供され得る。 あるいは、特に揮発性溶媒が使用される場合、結晶を生成するために、エバポレーション技術が使用され得る。 所望される場合、沈殿技術およびスラリー技術もまた、使用され得る。

冷却、エバポレーション、沈殿、またはスラリーの後、その上清は、適切な様式で（例えば、ピペットを用いて吸引することによって、および／または濾紙を用いてその溶媒を逃がすことによって）除去され得る。 上清の除去は、手動によってか、またはコンピュータ制御デバイスを使用して自動的にかのいずれかで、実施され得る。 上清の除去はまた、
連続して（例えば、迅速な連続様式で）か、または並列して（例えば、並列ピペット操作のために１２チップピペットが使用され得る）、実施され得る。 この上清および結晶は、
両方とも、その組成、正体、および特性について分析され得る。

上記の説明は、リアクタアセンブリおよび基板が、本発明のプロセスを実施するためにどのように使用されるかを記載した。 以下の実施形態は、塩および多形体の生成および高スループットスクリーニングを有利に提供する、種々のアセンブリを記載する。 図１５、
図１６、および図２１は、いくつかの構成成分を共通に有する、３つの異なるアセンブリを示す。 ３つのアセンブリが示されるが、これらのアセンブリの機能が組み合わされて２
つのアセンブリまたは１つのアセンブリになり得ることを、当業者は認識する。 ３つのアセンブリが、各アセンブリを比較的迅速に使用することが意図され得るプロセスを提供するために、本明細書中で使用される。 図１５、図１６、および図２１のアセンブリが、自動ロボットを用いる使用のために組み合わされる場合、そのプロセスは、より迅速かつ正確に実施され得る。

図１５は、本発明の原理に従う反応アセンブリ１５００を示す。 反応アセンブリ１５０
０は、溶解プロセスのために使用され、この溶解プロセスは、例えば、一群の溶媒を薬物候補と混合する工程、およびその混合物を加熱して熱い飽和溶液を調製する工程を包含し得る。 さらに、溶解プロセスは、酸性反応物または塩基性反応物を薬物候補と混合して塩を形成する工程を包含し得る。 さらに、構築アセンブリ１５００に添加される化学物質混合物は、ライブラリーモデルに基づき得る。

反応アセンブリ１５００は、図１３におけるバッチリアクタ１３００とほぼ類似するが、いくつかの点で異なる。 反応アセンブリ１５００は、頂部に位置するショック吸収層１
５１２を有する、底部プレート１５１０を備える。 ショック吸収層１５１２は、発泡体パッドまたは他の弾性材料を備え得る。 これらのパーツの上に位置するのは、リアクタベース１５１４であり、このリアクタベース１５１４は、バイアル１５１６を収容し得る一群のホールを備えて構築されている。 リアクタベース１５１４およびショック吸収層１５１
２が、ボルト１５１１を用いて、底部プレート１５１０に固定される。 障壁シート１５１
８および隔壁シート１５２０が、バイアル１５１６の上に位置する。 障壁シート１５１８
は、バイアル１５１６の頂部開口部をシールし、そして溶媒が他のバイアルと混合することを防ぐように、設計される。 障壁シート１５１８は、Ｔｅｆｌｏｎ（登録商標）または適切な他の材料から作製され得る。 障壁シート１５１８および隔壁シート１５２０の両方は、針またはカニューレにより貫入され得る。 リアクタカバー１５２２が、隔壁シート１
５２０上に配置され、そしてこのリアクタカバー１５２２は、針またはカニューレが通ることが可能なホール１５２３を有する。 リアクタカバー１５２２は、ボルト１５２１を用いて、リアクタベース１５１４に固定される。

ボルト１５１１が本明細書において特に考察されるが、反応アセンブリ１５００の一部を固定するために、他の手段（例えば、クリップ、クランプ、または万力）が、使用され得る。 図１５はまた、パーツ（例えば、リアクタベース１５１４、障壁シート１５１８など）を、一緒に固定する場合に並ばせる、位置決めピン１５１５を示す。 いくつかの位置決めピン１５１５が、正確な整列を提供するために使用され得る。

バイアル１５１６は、バイアル１５１６の底部がショック吸収層１５１２上に載るように、リアクタベース１５１４のホールを通る。 代表的には、バイアル１５１６は、底部が閉じている（すなわち、丸底または平底の試験管のように）。 ショック吸収層１５１２は、バイアル１５１６に下向きの圧力が適用された場合に、垂直方向の位置ずれに対する抵抗を提供する弾力性材料（例えば、発泡体）から作製される。 従って、アセンブリ１５０
０は、そのリアクタ部分が一緒に固定された場合に各バイアルを分離し、かつバイアル１
５１６間の寸法の差異についての許容性を提供する。 図１５は、８×１２アレイ様式の９
６バイアルを示すが、異なるバイアル数または異なるバイアル配置が、特定の任意の実験または形式で使用され得ることを、当業者は認識する。

所望される場合、（図１４に示される）ボール分配アセンブリ１４０２は、リアクタカバー１５２２をシールする前に、各バイアル１５１６中にボールを分配するために使用され得る。

図１６は、本発明の原理に従う濾過アセンブリ１６００の、部分的分解図を示す。 反応アセンブリ１５００中で混合物が調製された後、各バイアルからのアリコートが、濾過アセンブリ１６００中に配置され得る。 濾過アセンブリ１６００は、そのアリコートの粒子（例えば、上清）を分離し、それにより、試験され得るそのアリコートの「核のない（ｓ
ｅｅｄｌｅｓｓ）」溶液を提供する。 さらに、濾過アセンブリ１６００は、一群の親溶液の調製を容易にし、この親溶液群は、さらなる試験のために分割（ｄａｕｇｈｔｅｒｅｄ
）され得る。

液体が、手動または（本明細書中上記のような）自動ピペット装置を使用することにより、この反応アセンブリ１５００の個々のウェルから採取され、そして濾過アセンブリ１
６００中の一群のウェル中の対応するバイアルに移される。 濾過アセンブリ１６００の底部部分は、底部プレート１６１０、留め具（ｆａｓｔｅｎｅｒ）１６１１、ショック吸収層１６１２、リアクタベース１６１４、およびバイアル１６１６を備える。 これらの部分（１６１０〜１６１６）は、反応アセンブリ１５００の部分と、同じ部分（１５１０〜１
５１６）であり得る。 これにより、異なるアセンブリにおいて共通部分を調製し、そして使用することが可能になり、このことは、製造コストを低減する。

濾過アセンブリ１６００は、フィルターサブアセンブリ１６３０および頂部プレート１
６２４を付加することにより、反応アセンブリ１５００と異なる。 さらに、濾過アセンブリ１６００は、シーリング層１６１７を備え、このシーリング層１６１７は、障壁シート１６１８と類似するが、但し、シーリング層１６１７は、濾過された溶液がバイアル１６
１６に入るのを可能にするために、予め形成されたホールを有する。 これらのホールは、
バイアル１６１６よりわずかに小さい直径を有する。 従って、フィルターサブアセンブリ１６３０がベース１６１４に固定される場合、シーリング層１６１７は、バイアル１６１
６間のシールを提供する。

図１６中のフィルターサブアセンブリ１６３０は、主要な２つの機能を有する。 濾過アセンブリ１６３０は、反応アセンブリ１５００から受けられたサンプルの濾過を容易にし、そしてこの濾過アセンブリ１６３０は、バイアル１６１６からの濾液のサンプリングを可能にする。 これらの機能は、フィルターサブアセンブリ１６３０を頂部プレート１６２
４と組み合わせることによって、達成され得る。 頂部プレート１６２４は、濾過アセンブリ１６００中のバイアル１６１６にカニューレまたは針が溶液を送達または吸引するための、少なくとも２つの位置を提供する。 この配置により、バイアル１６１６と、濾過アセンブリ１６００の頂部との間の、流体連絡が可能になる。 具体的には、頂部プレート１６
２４は、ホール１６２５Ａおよび１６２５Ｂを有し、これらは、リアクタベース１６１４
中のバイアル１６１６のうちのいくつかまたはすべてと対応している。 例えば、ホール１
６２５Ａは、流体を導入するために使用され得、そしてホール１６２５Ｂは、バイアル１
６１６から流体を回収するために使用され得る。 バイアル１６１６中に濾過されるべき溶液を導入するため、またはバイアル１６１６から濾過溶液を回収するための、装置の詳細は、以下に考察される。

フィルターサブアセンブリ１６３０を、図１７に詳細に示す。 フィルターサブアセンブリ１６３０は、フィルター層１６３４を支持するための底部中間層１６３２を備える。 フィルター層１６３４を使用して、溶液から核生成部位または他の不溶解物質を分離し、実質的に純粋な溶液がバイアル１６１６（図１６に示される）に提供されるようにする。 フィルター層１６３４には、一体型のフィルターおよびガスケット１６３５が備えられ得る。 シーリングプレート１６３６が、フィルター層１６３４上にはめられ、頂部中間層１６
３８の支持を提供する。 底部中間層１６３２は、受容ホール１６３３Ａおよび隣接ホール１６３３Ｂを有し、これらは、リアクタベース１６１４（図１６）中のバイアルまたはウェルのいくつかまたは全ての上部開口部に位置付けされる。

ホール１６３３Ａおよび１６３３Ｂは、それぞれ、バイアル１６１６（図１６）への溶液の導入および回収を可能にする。 シーリングプレート１６３６は、各領域またはバイアルに対する、大きいＯリング１７４０および小さいＯリング１７４４を支持する。 フィルターサブアセンブリ１６３０が組み立てられた場合、各々の大きいＯリング１７４０は、
シーリングプレート１６３６と頂部中間層１６３８との間にシールを形成する。 大きいＯ
リング１７４０によって形成されたこのシールは、バイアル１６１６間の蒸気のかかり合いを防止する。 別のシールは、針を小さいＯリング１７４４に通した場合に形成される。
当業者は、シールを提供するために他の材料が使用され得ることを認識する。 例えば、シールは、Ｈａｌｆｍｏｏｎ Ｂａｙ，ＣａｌｉｆｏｒｎｉａのＭｅｒｌｉｎ Ｉｎｓｔｒ
ｕｍｅｎｔ Ｃｏ． から販売されるＭｅｒｌｉｎバルブのような、バルブを用いて形成され得る。

図１８は、Ｏリングシート１８５０を例示する。 このＯリングシート１８５０は、本発明の原理に従って、シーリングプレート１６３６（図１６）上に配置され得る。 大きいＯ
リング１８５１および小さいＯリング１８５２は、シーリングプレート１６３６上に容易に配置されるために、シート状で製造され得る。 例示されるように、Ｏリングシート１８
５０は、４×４アレイのＯリングで構築される。 従って、リアクタベースが９６ウェルを有する場合、６個のＯリングシート１８５０が、９６ウェルアセンブリを完全に占めるために必要とされる。 他のサイズのＯリングアレイは、各Ｏリングアレイのサイズおよびリアクタアセンブリ中の領域またはバイアルの総数に基づいて、使用され得る。 例えば、Ｏ
リングは、６×８のアレイ、８×８のアレイ、または任意の他の適切な組み合わせで配列され得る。

図１９は、図１７の一部を拡大した等尺図を示す。 詳細には、図１９は、フィルターサブアセンブリ１６３０が組み立てられて場合に形成される、第１チャネル１９２０および第２チャネル１９３０を示す。 第１チャネル１９２０は、ホール１６３３Ａに対応し得、
これは、このフィルターアセンブリへの液体の導入のために使用され得る。 さらに、図１
９は、底部中間層１６３２とシーリングプレート１６３６との間に配置された、フィルター１６３４を示す。 従って、液体が、ホール１６３３Ａを介して第１チャネル１９２０へ分配される場合、液体は、受容部に分配される前に濾過される。 第２チャネル１９３０は、ホール１６３３Ｂに対応し得、これは、針またはカニューレが濾液を直接回収し得る通路を提供する。

代替的な実施形態において、フィルターは、単一シートの濾紙に代わって、個々のフィルターが底部中間層１６３２に配置されるようなサイズに切り取られ得る。 濾紙は、底部中間層１６３２の部分である刃形リング１９２１によって切断されて、サイズ決めされ得る。 刃形リング１９２１は、例えば、第１チャネルに連結され得る。 ユーザーが底部中間層１６３２上に濾紙を配置し、そして各刃形リング１９２１（１つのみが示される）上に濾紙を押した場合、中間層１６３２上のフィルターディスクのアレイが提供される。

図２０Ａおよび２０Ｂは、ピペットシステム２０６０が、濾過アセンブリ１６００を使用して、バイアル１６１６に材料を分配しそして／またはバイアル１６１６から材料を回収する方法を示す。 詳細には、図２０Ａは、濾過アセンブリ１６００およびピペットシステム２０６０の断面図を示し、ピペットシステム２０６０は、ホール１６２５Ａを通って伸長する針２０２０を有する。 ホール１６２５Ａに針２０２０を通すことによって、このプロセスが濾過アセンブリ１６００を使用することを可能になる。 図２０Ｂは、図２０Ａ
の点線「６Ｂ」で丸を付した、濾過アセンブリ１６００の拡大図を示す。 ここで、針２０
２０は、バリアシート１６１８、隔壁シート１６２０を突き進み、そして小さいＯリング１７４４から突き出るように、ホール１６２５Ａ内に挿入される。 上記のように、針２０
２０および小さいＯリング１７４４が相互作用する場合、シールが形成される。 このシールは、溶媒が、他のバイアルに混入する危険性を伴うことなく、中空チャネル２０６０に分配されるのを可能にする。 溶媒は、中空チャネル２０６０に分配され、そしてフィルター層１６３４またはフィルターディスク（示さず）を通って受容部２０６１に通される。
受容部２０６１は、底部中間層１６３２に位置付けられ、そして代表的には、化学耐性材料（例えば、プラスチック）から作製され、フィルター層１６３４を通って通過する溶媒の流出を防止するように設計される。

針２０２０と小さいＯリング１７４４との間のシールは、液体がチャネル２０６０へ注入されるのを可能にするのに十分な圧力に耐え得るべきである。 底部中間層１６３２、シーリングプレート１６３６、および頂部中間層１６３８は、代表的には、金属（例えば、
ステンレス鋼またはアルミニウム）から作製される。 フィルター層１６３４またはフィルターディスク中の濾過材料は、溶媒媒体に対して安定な、適切な濾過材料から作製され得、これらの材料には、ガラスマイクロファイバーパッド、セルロース、テフロン（登録商標）、紙などの材料、および有機溶媒を用いるサンプル濾過に使用される他の材料が挙げられる。 フィルター層１６３４は、このプロセスが、異なるアレイメンバー間でのコンタミネーションを回避するように実行される限り、単一のシートの濾過材料を含み得る。 あるいは、いくつかの予め切り取られたフィルターが、チャネル２０６１上に配置され得る。

図２０Ｃは、ピペット２０６０がバイアル１６１６へ溶媒を分配し得るかまたはバイアル１６１６から溶媒を直接回収し得るかいずれかの方法を示す。 例えば、針２０２０は、
ホール１６２５Ｂ、バリアシート１６１８、隔壁シート１６２０、およびフィルターアセンブリ１６３０を通って伸長し、バイアル１６１６に直接アクセスし得る。 これは、濾過アセンブリ１６００の濾過シートを使用することなく、針２０２０とバイアル１６１６との間の流体連絡を有利に提供する。

ピペットシステム２０６０は、規定の温度で液体を分配または回収し、所望でない結晶形成または沈殿を防止し得る。 ピペットシステム２０６０は、例えば、熱だめ２０４２およびカートリッジヒータ（示さず）（例えば、ＦＩＲＥＲＯＤヒータ）を利用し、規定の温度を維持し得る。 カートリッジヒータは、空洞２０４３内に収容され得る。 ワイヤ（示さず）が針５２０から伸長し、熱だめ２０４０の周囲に取り付けられる。 ワイヤは熱だめ２０４０に連結されるので、熱だめ２０４０中に発生された熱は、針２０２０に伝達される。 従って、針２０２０は、吸引された液体が冷却されるのを妨げる温度で維持される。
他の設計が、所望の温度で液体を維持するために使用される（例えば、米国特許第６，２
６０，４０７号（これは、その全体が参考として本明細書中に援用される）に示されるような、針上の加熱されたチップ）。

図２１は、本発明の原理に従って結晶の形成を可能にするように設計される、結晶化アセンブリ２１００を例示する。 混合物は、濾過アセンブリ１６００のバイアル１６１６から得られ得、そして結晶化アセンブリ２１００に分配され得る。 あるいは、混合物は、反応アセンブリ１５００（図１５に示される）のバイアル１５１６から得られ得る。 結晶形成は、例えば、混合物を冷却することによって、混合物をエバポレートすることによって、混合物を沈殿させることによって、または混合物をスラリー化することによって、生じ得る。

別々の濾過アセンブリおよび結晶化アセンブリを有する１つの利点は、濾過アセンブリ１６００から採取される濾液のアレイが、２以上の結晶化アセンブリ２１００に配置され得、それにより、異なる条件または方法の下での結晶化を可能にすることである。 例えば、この方法は、１より多い溶液のアレイが各々異なる温度で結晶化される、温度研究を行うことを可能にする。 先に記載されたように、異なるアセンブリ中の交換可能な部分を使用して、インベントリーの効率および部品の均一性を可能にする。 異なるアセンブリはまた、再結晶化手順の各部分についてのプロセスフローにおける柔軟性を可能にする。

結晶化アセンブリ２１００は、さらに下のリアクタベース２１６０を有する。 リアクタベース２１６０は、基板２１６４を受けるように構築される、窪み領域２１６１を有し、
基板２１６４は、パッド２１６２の上部に配置される。 パッド２１６２は、基板の破壊を回避するのを補助するように選択されるべきである。 このパッドは、好ましくは、発泡体、シリコーン、ゴム、または他の弾力性のある材料である。

基板２１６４は、結晶形成のための適切な表面を提供する。 さらに、基板２１６４は、
所望の分析装置に移され、結晶のアレイの特徴付けを可能にし得る。 基板は、必要に応じて、透明の材料（例えば、ガラス）から構築され、基板上の結晶の直接的な光学研究を可能にし得る。 これはまた、プラスチックのような他の材料から作製され得る。 基板２１６
４は、実質的に平らな表面を有し得、その上に結晶が含まれる。 基板２１６４は、その表面上に別々の領域を有し得、結晶形成を支持し得る。 例えば、これらの別々の領域は、丸い領域、四角い領域などであり得る。 これらの領域はまた、結晶を容易に保持するために窪んでいてもよい。 従って、ディンプル（窪み）またはウェルが使用され得る（本明細書中で、ディンプルとは、丸い凹状表面を有する窪みとして規定され、そしてウェルは、１
以上の規定された側壁を有する窪みである）。

上記の基板２１６４は、ホールのアレイ（示さず）を有する、ガスケット２１６６であり、このホールは、基板２１６４上の領域のアレイに対応する。 組み立てられた場合、これらの下部構成要素（パッド２１６２、基板２１６４、およびガスケット２１６６）は、
窪み領域２１６１に適合し、その結果、ガスケット２１６６は、リアクタベース２１６０
の上部外側縁に対して実質的に平らに固定される。 結晶化リアクタ２１６８は、これらの構成要素上に配置され、そしてボルト２１７０または他の固定手段（クリップ、クランプ、ナットなど）を使用して、リアクタベース２１６０に固定される。 固定手段は、ガスケット２１６６を押し付けるのに十分な力を提供すべきであり、次いで、ガスケット２１６
６は、基板２１６４上の領域を潜在的な漏出からシールする。

結晶化アセンブリ２１００はまた、シート２１７２（代表的には、テフロン（登録商標）から作製される）および隔壁２１７４（これらは、それぞれ、バリアシート２１１８および隔壁２１２０と同一であり得る）、ならびに結晶化リアクタ２１６８をカバーするリアクタカバー２１７６を備える。 リアクタカバー２１７６は、反応アセンブリ１５００に対するリアクタカバー２１２２に類似し、これは、針２０２０が通り得る、ホールを有する。 結晶化リアクタ２１６８上の部品は、ボルト２１７８（他のクランピング手段、クリッピング手段または固定手段が使用され得るが）によって結晶化リアクタ２１６８に固定される。 従って、結晶化アセンブリ２１００において、２セットの固定された構成要素が存在する。 第１のセットは、結晶化リアクタ２１６８、ガスケット２１６６、基板２１６
４、パッド２１６２、およびリアクタベース２１６０を備える。 第２のセットは、シート２１７２、隔壁２１７４、およびリアクタカバー２１７６を備え、これらは一緒に、結晶化リアクタ２１６８に連結される。 これらの別々のセットは、結晶化アセンブリ２１００
の底部部分が、上部部分を伴うことなく組み立てられることを可能にし、予備作製の試験のために結晶化アセンブリ２１００の一部または全てを使用し得る点において、より高い柔軟性を生じる。

リアクタカバー２１７６および隔壁２１７４は、結晶化アセンブリ内に含まれる材料サンプルを用いてエバポレーション研究を試験する場合、使用されなくてもよい。

図２１Ａは、本発明の原理に従う結晶の形成を可能にするように設計される、結晶化アセンブリ２１０２の代替的実施形態を例示する。 結晶化アセンブリ２１０２は、リアクタベース２１６０、基板２１６４、およびリアクタ２１６８のような、結晶化アセンブリ２
１００と類似の部品を備える。 結晶化アセンブリ２１０２には、パッド２１６２およびガスケット２１６６は備えられない。 代わりに、基板２１６４が、リアクタベース２１６０
の上部に直接配置され、そしてＯリング２１０４が、結晶化アセンブリ２１０４に付加される。 Ｏリング２１０４は、Ｏリングのシートから構成され得るか（図２１Ｂに示されるような）、またはこれらは、二次元アレイ（例えば、個々のＯリングの４×４のアレイ）
であり得る。 結晶化アセンブリ２１０２が組み立てられると、Ｏリング２１０４は、基板２１６４およびリアクタ２１６８に対して平らにプレスされ、結晶化アセンブリ２１０２
内に分配される材料サンプルの効果的な単離を提供する。

図２１Ｃは、結晶化アセンブリ２１０２の部分断面図であり、これは、リアクタ２１６
８のスルーホールおよび基板２１６４の各々の部分が、Ｏリング２１０４によって互いにどのように分離されているかを示す。 図２１Ｃはまた、Ｏリング２１０４が備えられるウェル２１０６を示す。 従って、基板２１６４がリアクタ２１６８に対してプレスされた場合、Ｏリング２１０６は、基板２１６４およびウェル２１０６に対してプレスされ、それによって、基板の各領域を分離する、実質的に気密なシールを提供する。

針または同様のデバイスを使用してシールされたバイアルから隔壁を通って材料を吸引するかまたはバイアルへ材料を分配する場合、移された材料の容量の制御における正確性は、バイアル内の容積および圧力の変化によって影響され得る。 この問題に対する１つの解決は、同軸の針を使用することであった。 この針は、それらの軸に沿って共に連結された２つの管からなる。 １つの管は、バイアルに材料を移すかまたはバイアルから材料を移すために使用され、そして第２の管は、バイアル内部と周辺との間の圧力を平衡化するためのベントとして使用される。

同軸針デバイスは、いくつかの欠点を示す。 この２管アセンブリは、単一の針よりも非常に大きいので、隔壁を突き通す際により大きな穴が生じ、この隔壁は、針が除去された場合に適切にシールしないかもしれない。 また、管の先端は、互いに対して固定された距離で維持されるので、材料が導入または回収され得るバイアルの深さの範囲が、制限される。 例えば、より深いバイアルへの多量の材料の分配は、ベント管の先端が浸漬する場合に、ベント管からの材料の流出を導き得る。 先行技術のこれらの欠点は、図２２Ａおよび２２Ｂと合わせて記載される、排気針デバイスによって取り組まれる。

図２２Ａは、シールされたバイアルまたは受容部からの材料の吸引またはバイアルまたは受容部への材料の分配に使用され得る、排気針アセンブリ２２００を示す。 排気針アセンブリ２２００は、排気針２２０２、液体処理針２２０４、本体２２０６、ガイド棒２２
０８、ばね２２１０、およびガイドブロック２２１２を備える。 本体２２０６は、液体処理システム（示さず）に取り付けられ、このシステムは、液体処理針２２０４を介する液体の吸引および分配を制御する。 液体処理針２２０４は、本体２２０６から固定された距離だけ伸長し、そして可動ガイドブロック２２１２を通過する。 排気針２２０２はまた、
液体処理針２２０４にほぼ平行な、可動ガイドブロック２２１２を通過し、そしてガイドブロック２２１２の下面から固定された距離だけ伸長する。 ガイドブロック２２１２は、
ガイド棒２２０８に取り付けられ、そしてこれは、液体処理針２２０４の中心軸に沿ってスライドし得るように構成される。 ガイド棒２２０８は、ガイドブロック２２１２の下面に力が付与される場合に、本体２２０６内へスライドするように構成される。 ばね２２１
０は、本体２２０６とガイドブロック２２１２との間で、ガイド棒２２０８上に位置される。 これらのばねは、ガイドブロック２２１２の下面に対する力が存在しない場合、完全に伸長した位置（これは、ガイド棒２２０８の長さによって決定される）に、ガイドブロック２２１２を戻す。

上記のように、リアクタアセンブリ１５００、濾過アセンブリ１６００および結晶化アセンブリ２１００は各々、各バイアルまたは受容部を互いに分離するための封着層（例えば、隔壁）を含む。 簡略および明瞭のために、排気針アセンブリ２２００が、リアクタアセンブリ１５００と関連して記載される。 排気針アセンブリ２２００は、リアクタアセンブリ１５００とともに使用されるだけでなく、封着されたバイアルまたは容器を備える任意の適切なアセンブリとともに使用され得る。 所望ならば、排気針アセンブリ２２００は、ピペットシステム２０６０の代わりに使用され得る。

リアクタアセンブリ１５００が封着される後に、各バイアルは、固定された容量の材料を含む。 通気アセンブリ２２００は、封着されたバイアルから液体を吸引する場合または封着されたバイアルに液体を分配する場合の圧力の変化を防止し、これは、移入された材料の容量を制御する際の精度の向上を可能にする。 通気アセンブリ２２００は、二重針アセンブリを使用することによってこの精度の向上を達成する。 ここで、一方の針は、吸引／分配に使用され、そしてもう一方の針は、このバイアルを通気させるために使用される。

代表的な材料移入プロセスにおいて、通気アセンブリ２２００は、ガイドブロック２２
１２の下方表面がリアクタカバー１５２２の上方表面に接触するまで、手動または機械的手段によってリアクタアセンブリ１５００上に下げられる。 排気針２２０２および液体処理針２２０４の両方は、目的のバイアルの上方のホール１５２３を通って伸長し、隔壁シート１５２０および（存在するならば）バリアシート１５１８を貫通するように、ガイドブロック２２１２から十分離れて伸長する。 排気針２２０２が隔壁シート１５２０（および、存在するならば、バリアシート１５１８）を貫通する場合、排気針２２０２は、バイアルの上部と周囲雰囲気との間に開放通路を提供し、この開放通路は、バイアル内の圧力と周囲圧力（すなわち、封着されたバイアルの外側の圧力）との間の平衡を維持する。 よって、液体処理針２２０４によってバイアルから液体を吸引する場合またはバイアルに液体を分配する場合、その圧力は変化しない。 なぜなら、排気針２２０２は、バイアルに実質的に一定な圧力を提供するからである。

本体２２０６は、液体を分配または吸引するために、液体処理針２２０４（本体２２０
６に取り付けられる）がバイアルの中の所望の深さに達するまで、リアクタアセンブリ１
５００の頂部に向けて押され得る。 本体２２０６は、液体処理針２２０４を予め決められた温度に加熱する機構（示さず）を備え得る。 図２２Ｂに示されるように、液体処理針２
２０４がバイアル内に伸長されるにつれて、ガイドロッド２２０８はさらに、本体２２０
６内にスライドし、そしてばね２２１０が縮む。 この手順の間、排気針２２０２は、封着されたバイアル内の固定された深さに伸長し、好ましくは、排気針２２０２の先端は、存在し得る任意の液体の上の、バイアルの頂部近くに位置する。 よって、このデバイスは、
バイアルの内部と周囲圧力との間の圧力を平衡化する通気路を維持しながら、異なる深さを有するバイアルにおよびこのバイアルから液体を移し得る。 液体の移入が完了すると、
本体２２０６は、リアクタアセンブリ１５００から引き抜かれ得、これにより図２２Ａに示されるように、液体処理針２２０４がバイアルから引き抜かれ、そしてガイドブロック２２１２がその完全に伸長した位置に達するまで、ばね２２１０が伸長する。 リアクタアセンブリ１５００から本体２２０６をさらに引き離して、排気針２２０２および液体処理針２２０４の両方を、ホール１５２３を通ってリアクタアセンブリ１５００から取り外す。 次いで、このデバイスは、異なるバイアル上の別のホールに挿入され得、そして上記の手順が反復される。

温度は、塩の選択および多形体の生成を可能にする種々の処方、濾過および結晶化の操作に重要なパラメータである。 例えば、いくつかの方法論において、リアクタアセンブリ１５００を加熱して、溶媒中に薬物候補を可能な限り多く溶解することが所望される。 温度が重要なプロセス（例えば、結晶化の間）において、アセンブリ１３００、１５００、
１６００または２１００のいずれか（それぞれ、図１３、１５、１６および２１に示される）は、オーブン、クーラーまたは他の温度制御されたチャンバ（例えば、本明細書中に引用されるＴｏｒｒｅｙ Ｐｉｎｅｓインキュベーター）内に置かれ得る。

いくつかのプロセスにおいて、温度の正確な制御が所望され得る。 ワークフローにおける特定の段階の間にアセンブリの温度を制御するための１つの方法は、図２３に示される。 これは、作業面２３３０に据えられた、アーム２３０５および２３１０ならびに複数のポンプ２３３４を有する三軸ロボット２３００を示す。 ポンプ２３３４は、溶媒または他の液体と流体連絡し、そして針２３２０および２３２２と流体連絡する。 加熱されたブロックアセンブリ２３５０は、作業面２３３０上に位置付けられる。 加熱されたブロックアセンブリ２３５０は、特定の反応アセンブリ１５００、濾過アセンブリ１６００、および材料サンプルが混合するのを補助するためのアセンブリを備えるように攻勢される。 濾過プロセスの間、濾過アセンブリ１６００を加熱して結晶化を防ぐことが所望され得る。 図２３に示されないが、磁気攪拌デバイスが、磁気攪拌棒（ｆｌｅａ）を転がしてアセンブリ内に含まれる材料をかき混ぜ得る。 温度制御されたいくつかのハウジング２５００もまた、作業面２３３０上に位置付けされる。 温度制御されたハウジング２５００は、添付の図２５の記載と合わせてより詳細に記載される。 ハウジング２５００は、リアクタアセンブリ１３００、反応アセンブリ１５００、濾過アセンブリ１６００または結晶化アセンブリ２１００のようなアセンブリを含み得る。 図２３はまた、ワークフローにおいて使用するための種々のアセンブリを保持するデッキアセンブリ２３７０を示す。

温度制御されたハウジングの詳細な構造は、本発明に重要ではなく、そして温度制御のための熱電対によって調節される抵抗性ヒーターを有する絶縁された壁を単に含み得る。
これらの型のヒーターが、ＦＩＲＥＲＯＤ ^ＴＭヒーターとしてＷａｔｌｏｗ ｏｆ Ｓｔ
． Ｌｏｕｉｓ，Ｍｉｓｓｏｕｒｉから市販されている。

図２４は、図２３に示される温度制御されたハウジング２３５０の分解図を例示する。
温度制御されたハウジング２３５０は、タブ２４１０ならびにタブサポート取り付け具２
４３０および２４４０を備える。 タブ２４１０は、所望の熱伝導性特性を有する材料（例えば、アルミニウム）から構築される。 示されるように、タブ２４１０は、アセンブリ（
例えば、リアクタアセンブリ１５００または濾過アセンブリ１６００）を備えるためのポケット２４１２および２４１４を有する。 タブ２４１０は、流体チャネルを有し（示さず）、ここで、液体またはガスは、タブを加熱または冷却するために提供される。 流体注入口／出口ポート２３５４は、所望の加熱または冷却流体またはガスがチャネルを通って流れることを可能にする連絡を提供し、これによって、ハウジング２３５０に置かれたアセンブリを加熱または冷却する。 図２４に示される温度制御されたハウジングは、温度制御および安定性を改善するための絶縁層によって囲まれ得る。

リアクタまたはアセンブリの温度制御を容易にする別の実施形態は、図２５に示される。 図２５は、かみあって囲いを形成する頂部２５７０および底部２５８０を有する、熱制御チャンバ２５００を例示する。 頂部２５７０は、そこに空洞２５７２を有し、底部２５
８０は、そこに空洞２５８２を有する。 これらは一緒になって囲いを規定する。 空洞２５
７２は、好ましくはアセンブリ１３００、１５００、１６００または２１００（それぞれ、図１３、１５、１６および２１に示される）の少なくとも１つを適応させるためにサイズ付けされる。

好ましい実施形態において、頂部２５７０は、頂部２５７０および底部２５８０が一緒になって閉鎖される場合、空洞内のアセンブリのこれらの領域、バイアルまたはウェル内に液体を吸引または分配するための、頂部２５７０を通る連絡を可能にする（例えば、針、カニューレまたはピペットによる）ホール２５７４を有する。 熱制御チャンバを加熱または冷却する流体は、頂部２５７０および／または底部２５８０を通って流れ得る。 流体の流れは、好ましくは、そこに含まれるアセンブリの実質的に全体にわたって特定の温度を維持する。 囲まれたアセンブリを横切る約２℃の温度変化は、一般に受容可能であるが、約１℃未満の温度変化が所望される。 頂部２５７０および底部２５８０は、良好な熱伝導特性を有する材料（例えば、アルミニウムなど）で作製される。 十分特徴付けられた熱物理学的特性を有する適切な流体（例えば、水、グリコールなど）は、加熱または冷却のために頂部２５７０および／または底部２５８０を通って流れる。

熱制御チャンバ２５００は、そこに含まれるアセンブリに対して熱プロフィールを適用し得る。 熱プロフィールは、例えば、時間とともに変化する温度範囲、または熱制御チャンバ中の選択された期間の実質的に同一な温度に、アセンブリを供し得る。 例えば、熱制御チャンバの温度は、予め決められた温度にまで特定の速度で上昇し得、予め決められた温度で固定された期間にわたって保たれ得、次いで、特定の期間後に周囲温度に下降し得る。

図２５は、熱制御チャンバ２５００を示す。 ここで、頂部２５７０および底部２５８０
は、頂部および底部がお互いに対して旋回し得るヒンジ２５８６によって連絡される。 この構成は、結晶化アセンブリ２１００（図２１に示される）のようなアセンブリを含む熱制御チャンバの頂部および底部のより容易な配置および固定を可能にする。 頂部２５７０
がヒンジ２５８６の周りを旋回する場合、これは、底部２５８０と整列して、その結果、
空洞２５７２および２５８２が会合してチャンバ内のアセンブリを囲む。

典型的な流体の流れの通路は、以下のように生じ得る。 熱流体は、頂部２５７０または底部２５８０のいずれかに最初に進入し、次いで、注入導管、横導管および出口導管を通って流れる。 次いで、流体は、外部導管２５８８を通り、そして流れパターンが反復される、チャンバの他の半分に入る。 よって、熱流体が頂部２５７０に最初に進入する場合、
熱流体は、頂部を通って流れ、頂部を出、そして底部２５８０に導かれ、底部を通って流れ、次いで、底部を出る。 この流れ方向はまた、所望ならば、反転され得、熱流体は、頂部の前に底部に入る。 回転する流体移動ヒンジ２５８７は、頂部２５７０および底部２５
８０が外部導管２５８８を調整することなくお互いに対して旋回することを可能にするヒンジ２５８６のいずれかの側に提供され得る。 この機能はまた、可撓性の外部導管およびループを用いて達成され得るが、図２５に示される配置は、可撓性チュービングの必要性を避ける場合の好ましい実施形態である。

図２５には示されていないが、チャンバ２５００は、チャンバ２５９０に収容されている材料サンプルのアレイをデバイスがモニターするための手段を提供するウィンドウを有している。 ガラスシートがガスケットを用いてこのウィンドウに結合している。 好ましくは、チャンバ２５９０が温度低下する際に凝縮が進行することを防止するために、乾燥気体（例えば、窒素）のパージが提供される。 これによって、このモニター装置がこの材料サンプルに対する遮るものがない接近することを確かなものにする。 例えば、インサイチュ測定は、結晶化条件に供される材料サンプルをモニターするために遮られずに接近することを必要とする。

流体の流れを容易にする構造が図２６において詳細に示されており、これは、ターミナル制御チャンバ２５００の頂部２５７０および／またはその底部２５８０における流体経路を規定するチャネルの切断図を示す。 この加熱流体／冷却流体が流体注入口２５９０を介して入り込み、これは注入導管２５９２に至る。 複数の横行導管２５９４が注入導管２
５９２から排出口２５９８および流体排出口２５９９へと至る。 注入導管２５９２および排出導管２５９８は、好ましくは、直径において横行導管２５９４よりも大きく、その結果、注入口２５９０に入り込む流体が横行導管２５９４の全体にわたって一様に流れ込む。 加熱流体／冷却流体についての流れパターンは制御チャンバ２５００の一様な加熱または冷却を補助する。

横行導管２５９４は、（存在する場合）ホール２５７４のいずれかの側を通過する。 より大きな導管２５９２および２５９８が、ブロックに複数のホールを穿孔し、次いで、製造を容易にするためにそれぞれのホールの１つの端により大きなプラグ２５９５で栓をすることによって、形成され得る。 より小さな横行導管２５９４が同様の様式で形成され得、穿孔されたホールの両方の端が小さいプラグ２５９６によってキャップオフされている。

操作する際に、熱流体（例えば、水、グリコール、またはグリセロール）は、一定速度または可変速のポンプを使用して流体ライン（ｆｌｕｉｄ ｌｉｎｅ）を通して、一様な温度レザーバ（示さず）から熱制御チャンバ２５００の頂部２５７０または底部２５８２
へと輸送される。 この熱流体は、注入ポート２５９０を介して注入導管２５９０に入る。
この熱流体は、横行導管２５９４を通って流れ、そして、排出導管２５９８へと流れる。
次いで、この熱流体は、流体排出口２５９９を通って出て、この後、この熱流体はそのレザーバへと戻るか、または別の頂部もしくは底部を通って経路が定めら得る。

熱ポンプまたは他のデバイスを使用して、このレザーバ内に位置づけられた熱伝達コイルを介して熱を付加または除去することによって、レザーバ内の熱流体の温度を調節し得る。 １つの実施形態において、プロセッサが、このレザーバ内に位置づけられている温度センサーから信号を受信し、そして、コイルを介してこの熱流体に付加されたかまたは除去された熱量を調整する。 １以上の温度センサー（図示せず）がまた、熱制御チャンバの頂部または底部に備え付けられ得、そしてこのプロセッサに接続されている。 次いで、そのレザーバにおける熱流体の温度およびその導管を通るときの流速の両方を変化させることによって温度制御が達成され得る。 この流体フローシステムを通る熱流体の流速を調整するために、このプロセッサは、レザーバ排出ラインに位置づけられたバルブと連絡する。 このシステムの種々の部分がまた、温度制御および安定性を改善するために断熱され得る。

図２７は、熱制御チャンバ２５００の断面図を示し、その熱制御チャンバ中に結晶化アセンブリ２１００が収容されている。 この図は、断熱材２５９１が熱制御チャンバに収められ得ることを示している。 断面図２７００は、図２１、図２２、図２５、および図２６
に関連して直前に説明された構成要素のさらなる詳細を例示している。

塩および薬物候補の融点を決定することは、スクリーニングプロセスにとって重要な特徴づけ技術である。 特に、所定の化合物の結晶またはアモルファス沈殿物間で融点の差異は、多形体の存在を決定づけるための最良の指標のうちのひとつを構成する。

本発明の１つの実施形態において、融点ステーションが、塩形成、沈降、結晶化またはこのプロセスにおける他の手順後の、アレイの各領域に含まれる固体材料の融点を決定するために使用される。 種々の材料の融点は、このアレイの１つ以上の領域複屈折（存在するならば）をモニタリングしながら、このアレイを含む基板の温度を制御可能に上昇させることによって決定され得る。 アレイの領域からの複屈折画像が消滅する際の温度は、固体から液体状態への転移を示す。 この転移状態は、その領域内の固体物質（一般に、結晶または非晶質固体）の融点に対応する。

一般に、この測定は、他の分野の試みにおいて公知の融点測定に基づく。 例えば、以下を参照のこと：Ｍａｇｉｌｌ，Ｊ． Ｈ． 「Ａ ｎｅｗ ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ ｆｏｌｌ
ｏｗｉｎｇ ｒａｐｉｄ ｒａｔｅｓ ｏｆ ｃｒｙｓｔａｌｌｉｚａｔｉｏｎ． ＩＩ．
Ｉｓｏｔａｃｔｉｃ Ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ． 」Ｐｏｌｙｍｅｒ １９６２，３，
３５−４２；Ｄｉｎｇ，Ｚ． およびＳｐｒｕｉｅｌｌ，Ｊ． Ｅ． 「Ａｎ ｅｘｐｅｒｉｍ
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ｃｒｙｓｔａｌｌｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ ｐｏｌｙｍｅｒｓ ａｔ ｈｉｇｈ ｃｏｏｌ
ｉｎｇ ｒａｔｅｓ」Ｊ． ｏｆ Ａｐｐ． Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ Ｐａｒｔ
Ｂ−Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｈｙｓｉｃｓ，１９９６，３４，２７８３−２８０４；Ｇａｒｅ
ｔｚ，Ｂ． Ａ． ら、「Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ ａｎｄ ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ
ｏｆ ｌｉｇｈｔ ｉｎ ｏｒｄｅｒｅｄ ｂｌｏｃｋ−ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ ｍａｔｅ
ｒｉａｌｓ」Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１９９３，２６，３１５１−３１５５；Ｃ
ａｒｌｓｏｎ，Ｅ． Ｄ． ら、「Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ ａｎｄ Ｔｈｅｒｍａｌ Ｐｒｏ
ｐｅｒｔｉｅｓ ｏｆ Ｅｌａｓｔｏｍｅｒｉｃ Ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ」Ｍａｃ
ｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，（１９９８），３１（１６），５３４３−５３５１；ならびにＣａｒｌｓｏｎ，Ｅｒｉｃ Ｄａｖｉｄ「Ａ ｒｈｅｏ−ｏｐｔｉｃａｌ ｉｎｖｅｓｔ
ｉｇａｔｉｏｎ ｏｆ ｔｈｅ ｒｅｌａｘａｔｉｏｎ ａｎｄ ｃｒｙｓｔａｌｌｉｚ
ａｔｉｏｎ ｂｅｈａｖｉｏｒ ｏｆ ｓｔｅｒｅｏｂｌｏｃｋ ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌ
ｅｎｅ ｓｙｎｔｈｅｓｉｚｅｄ ｆｒｏｍ ２−ａｒｙｌｉｎｄｅｎｅ ｍｅｔａｌｌ
ｏｃｅｎｅ ｃａｔａｌｙｓｔｓ」Ｓｔａｎｆｏｒｄ Ｐｈ． Ｄ． Ｄｉｓｓｅｒｔａｔｉ
ｏｎ（１９９８）（これらの各々が参考として援用される）。

基板上の固体のアレイの融点を決定するために設計された融点装置は、図２８に示される。 融点装置２８００は、相転移についてサンプルの光学特性をモニターすることによって、サンプルのアレイの融点を決定する。 融点装置２８００はまた、サーマルサイクリングの間の再結晶化動態を測定し得る。 融点装置２８００は、サンプルが結晶性構造から非晶質液体に転移する時を決定するために、光散乱または複屈折測定を使用し得る。 複屈折測定を実施する場合、透過技術または反射技術が使用され得る。

装置２８００は、材料サンプルの融点を以下のように検出する。 最初に、サンプルアレイが、結晶化を介して調製される。 当業者は、サンプルアレイが結晶化以外の他の方法によって調製され得ることを認識する。 例えば、エバポレーション法または沈降法が使用され得る。 固体材料（例えば、）が手動またはロボットによる自動化によって調製され得ることもまた、認識される。 サンプルアレイは、キャリアブロックに置かれるガラススライド（例えば、一般的基板）または他の透明な材料の上に含まれ得る。 所望ならば、キャリアブロックは、材料分解の産物から生じる任意の水分（例えば、凝結、溶媒蒸気など）を含むようにカバーされ得る。 最終的に、キャリアブロックは、温度チャンバ（例えば、熱制御チャンバ２５００）内に置かれるか、または準等温性ブロックを形成する２つの絶縁プレート内に置かれる（図２８Ａおよび２８Ｂ）。

材料サンプルが温度チャンバ内に置かれる後に、個々の光源および検出器が、アレイ中の各材料サンプルに対して整列される。 透過様式で操作して、各光源は、材料サンプルに光シグナルを通過させる。 光源は、例えば、発光ダイオード、レーザーまたは白熱光のような任意の適切なデバイスであり得る。 平行な、偏光な、強い、単色光が、操作のために好ましいが、弱い光（例えば、白熱光）もまた使用され得る。 光シグナルは、約３００〜
２０００ナノメートル（ｎｍ）の間の範囲の波長を含み得る。 所望ならば、単一の光源は、例えば、光ファイバー束、テレセントリックレンズ、望遠鏡、平行光または他の類似の装置によって、各材料サンプルに分布され得る。 あるいは、単一の光源または光源のアレイは、単一の材料または一列のこのような材料を同時に照射するために、各材料サンプルを横切って移動され得る。 当業者は、任意の適切な光源の配置を使用して光散乱試験または複屈折試験を提供し得ることを認識する。

反射技術が使用される場合、光路は、材料サンプルを通過しない。 むしろ、結晶性構造からの光の反射が検出される。 この技術は、図３０のインサイチュ測定アセンブリ３００
０と合わせてより詳細に記載される。 反射技術は、一般には以下のように操作する。 光源から放出された光は、第１のポーラライザーを通過し、次いで、光を材料サンプルに再指向するビームスプリッターに達する。 所望ならば、光は、「予め偏光され」得（例えば、
レーザー）、その結果、第１のポーララーザーは必要とされない。 材料サンプルから反射した光は、ビームスプリッターへ戻って通るが、このビームスプリッターを通過する。 光シグナルが材料サンプルによって変更される（例えば、偏光される）場合、次いで、第１
のポーラライザーから９０°回転した第２のポーラライザーを通過し得、そして検出器によって検出され得る。

光源により提供される光は、初めに、偏光フィルターを通過し、次いで、材料サンプルを通過し、第１の偏光フィルターに対して９０°に方向付けられている第２の偏光フィルターを通過する。 材料サンプルが、結晶構造を含まない場合、光シグナルは、第２の偏光フィルターにより消され、それにより、検出器が光シグナルを検出しないようにする。 しかし、材料サンプルが、結晶構造を含む場合、この結晶は、光の偏光を回転し、これにより、光のいくらかが、第２の偏光フィルターを通過することが可能である。 第２の偏光フィルターを通過する任意の光は、光検出器により検出される。

種々の検出方法を用いて、光源により放出される光を検出し得る。 光ダイオードのような個別の検出器（例えば、シリコン光ダイオード、光電池など）は、各々の材料サンプルについて位置決めされる。 各光ダイオードは、各検出器の出力をモニターするコンピュータ（例えば、コンピュータ１１０）に接続される。 光検出器の出力シグナルに基づいて、
コンピュータは、何度で結晶構造が融解するかを決定し得る。 同様に、カメラ、電荷結合デバイス（ＣＣＤ）デジタルカメラ、またはビデオカメラのような検出器が、相転移を検出するために用いられる場合、コンピュータは、転移を記録し、そして融点の温度を計算する。

初めに、チャンバが材料サンプルを加熱し始める前に、各検出器は、結晶構造が存在するか否かを確認し得る。 各検出器は、コンピュータまたは他のデータロギングデバイスに接続されるので、各検出器は、各材料サンプルを絶えずモニターし得る。 材料サンプルが加熱される場合、これらは、最終的に融解し、そして検出器が、この相転移を検出するので、これは有用である。 結晶が融解する場合、これは非結晶となり、そして光は、もはや第２の偏光フィルターを通過し得ない。 検出器が、もはや存在している光シグナルを検出し得ないとき、このときの温度で結晶は融解する。

材料サンプルの温度は、ユーザーが規定した最大の温度まで、ユーザーが規定した速度で上昇する。 温度上昇の速度は、正確に制御され、そして材料サンプルの全体にわたって均一である。 このことにより、装置２８００が、融点の温度を正確に測定することが可能になる。 あるいは、この温度は、制御された増分で段階的に増加する。 さらに、各材料サンプルの温度は、個別に制御され得る。

上記の議論は、主に、複屈折試験に関するが、本発明は、これに限定されない。 異なる複屈折試験が行われ得る。 例えば、一方または両方の偏光板の偏光角が、調節され得る。
光の周波数は、調節され得る。 別のアプローチにおいて、上記の光散乱アプローチは、偏光板を外することにより実行され得る。 光散乱は、例えば、サンプルアレイに含まれる結晶構造を検出するために実行され得る別の試験方法である。

装置２８００は、２つの主要なアセンブリを備える：アレイ（すなわち、サンプルを含む基板）を支持し、かつ制御可能に加熱および冷却し得る熱プラットホーム（ｔｈｅｒｍ
ａｌ ｐｌａｔｈｏｍｅ）２８１０、およびアレイ上のいくつかまたは全ての領域の、同時光学イメージングを可能にするオプト−メカニカル（ｏｐｔｏ−ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ
）プラットホーム２８３０。

熱プラットホーム２８１０は、熱プラットホーム上部２８１２および熱プラットホーム基部２８１４を備え、これらが共に組み立てられる場合、基板または適切な試験プラットホーム（例えば、キャリアプレート）を支持する空胴２８１６を形成する。 熱プラットホーム２８１０は、高い熱伝導性を有する任意の適切な材料（例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、または銅）から作製される。 他の材料（例えば、インジウム、鉛、スズ、
または銀）を用いて、熱プラットホーム２８１０の一部または全てを形成して、伝導性を増大させかつ温度の均一性を改善する。 基板は、ホウケイ酸ガラスから構築され得るか、
Ｚｉｎｎｓｅｒ ^ＴＭプレートであるか、または他の光学的に透明もしくは半透明の材料から作製される。 基板は、好ましくは、熱プラットホーム２８１０との最適な熱伝導を提供するために配置される。 例えば、基板２１６４（図２１）は、熱プラットホーム２８１０
に配置される。

熱プラットホーム２８１０は、図２８Ａおよび図２８Ｂに詳細に示される。 図２８Ａは、熱プラットホーム２８１０および光源アレイ２８３２を示す融点測定器２８００（コンピュータは示されない）の等縮尺図を示す。 上記のように、熱プラットホーム２８１０は、熱プラットホーム上部２８１２および熱プラットホーム底部２８１４を備え、これらもまた、図２８Ａに示される。 熱プラットホーム２８１０は、開放（ＯＰＥＮ）位置にあることが示されている。 すなわち、空気式プレス（ｐｎｅｕｍａｔｉｃ ｐｒｅｓｓ）２８
６０は、熱プラットホーム上部２８１２および熱プラットホーム底部２８１４が、お互いに押し付けられないような位置にある。 空気式プレス２８６０を用いて、熱プラットホーム２８１０の開放および閉鎖を補助する。

図２８Ｂは、図２８Ａの線２８−２８に沿った断面図を示す。 熱プラットホーム２８１
０はまた、開放（ＯＰＥＮ）位置にあることが示されている。 当業者は、熱プラットホーム２８１０が閉鎖される場合に、熱プラットホーム上部２８１２および熱プラットホーム底部２８１４がお互いにぴったりと押し付けられて、これらの中に含まれる基板２８６４
を完全に封入することを理解する。 好ましくは、ガラスカバーシートは、組成物の任意の生成物（例えば、凝縮物、脱気物（ｏｕｔ−ｇａｓｓｉｎｇ））を含むように基板２８４
６を覆って配置される。

熱プラットホーム上部２８１２および熱プラットホーム底部２８１４の両方は、抵抗型発熱体が含まれ得るスルーホール（ｔｈｒｏｕｇｈ ｈｏｌｅ）２８２３を有する。 これらの抵抗型発熱体（これらは以下により詳細に記載される）は、均一の温度分布を維持しながら、制御された速度で基板２８４６を加熱するための機構を提供する。

図２８に戻って参照して、熱プラットホーム基部２８１４は、熱プラットホーム基部２
８１４に装着されるか、または熱プラットホーム基部２８１４内に埋め込まれた要素により加熱されるように設計される。 好ましい実施形態では、熱プラットホーム基部２８１４
は、図２６のコンジット２５９２、２５９４、および２５９８に類似するチャネル（示さず）を備える。 レザバ（示さず）からの熱流体は、上記のように、制御された様式で、これらのチャネルを貫流して基板を加熱し得る。 低い温度での熱流体はまた、これらのチャネルまたはこのようなチャネルの隣接する組を貫流して、熱プラットホーム基部２８１４
を冷却する。

あるいは、１つ以上の抵抗型発熱体２８２２は、熱プラットホーム基部２８１４を加熱するための機構を提供するために、熱プラットホーム基部２８１４に装着されるか、または熱プラットホーム基部２８１４内に埋め込まれ得る。 抵抗型発熱体２８２２は、例えば、巻線型抵抗加熱器、熱電デバイス（例えば、ペルチエ接合器）、および薄膜または厚膜抵抗加熱器を備える。 加抵抗型発熱体２８２２は、熱プラットホーム２８１０における熱の均一性の改善された制御または特定の温度プロフィールを可能にするために、熱プラットホーム基部２８１４に埋め込まれ得るか、または装着され得る。 様々な抵抗型発熱体２
８２２は、様々な量の熱を分布し得る（すなわち、電力消費量が変化し得る）。 様々な電力消費量を有する、種々の加熱抵抗器２８２２は、熱プラットホーム上部２８１２および熱プラットホーム２８１４の上に戦略的に配置されて、均一な温度分布を促し得る。 熱流体および加抵抗型発熱体２８２２により加熱／冷却するために、チャネルの組合わせもまた、用いられ得る。 制御された様式で熱プラットホーム２８１４を加熱または冷却する他の方法もまた、用いられ得ることを、当業者は認識している。

材料サンプルを加熱または冷却するための別の方法は、サンプルを、対流式オーブンにより提供されるようなガス浴に供することである。 さらに別の方法は、各材料サンプルを、別々の加熱器を用いて、別々に加熱するか、または連続的様式で加熱することである。

熱プラットホーム２８１０はまた、１つ以上の埋め込まれたまたは装着された熱センサ２８２０を有し得、このセンサを、適切な外部装置（例えば、データロガー、コンピュータなど）と接続して用いて、プラットホームの温度をモニターし得る。 これらのセンサは、プラットホーム２８１０の上部または底部にあり得、そして以下の１つ以上を備え得る：熱電対、抵抗温度検出器（ＲＴＤ'ｓ）、または半導体ベースのサーミスタ。 これらのセンサの一つ以上は、熱プラットホーム２８１０の上部、熱プラットホーム２８１０の底部、または熱プラットホーム２８１０の上部および下部の両方のいずれかで配置され得る。 これらのセンサから得られたシグナルは、好ましくは、コンピュータ（図１のコンピュータ１１０）に接続されて、温度の自動モニタリングおよび制御を可能にする。 このセンサシグナルは、適切な制御ソフトウェアを用いて処理されて、もし存在すれば、加熱抵抗器内の電流を調節し得るか、あるいは、チャネル内の熱流体の温度および流速を調節し得るか、あるいは、もし存在すれば、熱プラットホーム２８１０における加熱速度および冷却速度の両方のより正確な制御を提供し得る。

種々のセンサ配置を用いて、結晶構造の融点を正確に決定し得る。 各材料サンプルの温度は、別々に測定され得るか、隣接するセンサのアレイから内挿され得るか、または単一のアレイから外挿され得る。 センサは、熱プラットホーム２８１０または他の熱伝達媒体（例えば、対流式オーブン）の上に配置され得る。 センサは、サンプル基板上（例えば、
材料サンプルを含むウェルの真下）に直接配置され得る。

熱プラットホーム２８１０は、熱２８１０プラットホームおよび封入された基板の温度を、周囲温度からユーザーが規定した温度まで、ユーザーが規定した速度で、上昇させ得る加熱系を実行する。 例えば、ユーザーは、約２００℃、２８０℃、３００℃、または任意の他の適切な温度である、最大温度を選択し得る。 温度が上昇または低下し得る速度もまた、ユーザーにより設定され得る。 例えば、ユーザーは、以下の温度偏移の速度を設定し得る：１分間あたり約０．５℃、１分間あたり約１℃、１分間あたり約２．０℃、または別の適切な温度バリエーション。 熱プラットホーム２８１０は、任意の適切な温度まで、封入された基板を加熱または冷却し得ることを当業者は理解する。 さらに、熱プラットホーム２８１０は、封入された基板を、任意の速度で、加熱または冷却し得る。 さらに、
熱プラットホーム２８１０は、温度を循環させて、再結晶化研究を実施し得る。

熱プラットホーム上部２８１２は、上部のオプティカルホール（ｏｐｔｉｃａｌ ｈｏ
ｌｅ）のアレイ２８１３と共に構築される。 上部のオプティカルホールのアレイ２８１３
は、熱プラットホーム基部２８１４の下部のオプティカルホールのアレイ２８１５に対応する。 孔（ｈｏｌｅ）２８１３および２８１５は、図２５に示される熱制御チャンバ２５
６０内の孔２５７４に類似している。 孔２８１３および２８１５は、基板が、熱プラットホーム２８１０内に配置される場合、基板上の領域のいくつかまたは全ての、上または下に配置される。 孔２８１３および２８１５は、基板のある領域と一体となって、熱プラットホーム２８１０を貫通する光学経路を提供するように構築される。 この光学経路は、好ましくは、封入された基板に対してほぼ直角の配向にあり、そして上部孔および下部孔と一体となった基板の領域の少なくとも一部と交差する。

図２８内のオプト−メカニカルプラットホーム２８３０は、熱プラットホーム２８１０
の対向する側面に配置された、光源アレイ２８３２およびセンサアレイ２８３４を備える。 オプト−メカニカルプラットホーム２８３０は、米国特許第６，１５７，４４９号（これは、本明細書中で参考として援用される）に教示されるものと同じであり得る。 光源アレイ２８３２は、１以上のレーザーダイオード、発光ダイオード（ＬＥＤ）、または他の制御可能な光源２８３３を備え得る。 あるいは、このアレイは、ビームのアレイを形成するための鏡またはプリズムによって分離される光源の一つ以上を備え得る。 センサアレイ２８３４は、フォトダイオード、電荷結合デバイス（ＣＣＤ）、または他の光学センサのような、センサ２８３５の群を備える。 これらのセンサは、好ましくは、光源アレイ２８
３２に対向する、熱プラットホーム２８１０の側面上に配置される。 第１の偏光シート２
８４０（代表的には、市販の偏光フィルターまたは偏光鏡）は、光源アレイと熱プラットホームとの間に取り付けられる。 第２の偏光シート２８４２は、第１の偏光シート２８４
０に対して約９０°で交差する偏光配向（ｃｒｏｓｓ−ｐｏｌａｒｉｚｉｎｇ ｏｒｉｅ
ｎｔａｔｉｏｎ）で、熱プラットホーム２８１０とセンサアレイ２８３４との間に取り付けられる。

所望の場合、第２の偏光シート２８４２の配向は、第１の変更シート２８４０に対して９０°で正確に配置されなくてもよい。 むしろ、第２の偏光シート２８４２は、完全に９
０°で交差する偏光よりも数度（例えば、１〜５度）上または下に配置され得る。 完全に交差する偏光からのこのわずかな偏移は、光源によって提供される不変の光シグナルの消滅を防ぐ。 しかし、この偏移は、さらに、複屈折モニタリング技術および／または光散乱モニタリング技術を用いて、結晶中の変化を検出することを可能にする。

光源アレイ２８３２、光センサアレイ２８３４、偏光シート２８４０および２８４２、
ならびに熱プラットホーム２８１０は、光学経路２８５０が、光源の１つ以上と、対向する光センサとの間に存在するように構成され、この経路は、偏光シート２８４０、熱プラットホーム２８１０（このプラットホーム内に取り付けられた基板上の領域を含む）、および第２の偏光シート２８４２を貫通している。 第２の偏光シート２８４２の配向は、光源アレイ２８３２から生じ、そしてどの材料も通過することなく、光学通路２８５０を横切る光のほぼ全てを、フィルタまたはブロックする。 従って、光が材料を貫通し、そして変化した偏光を有する場合、これは、第２の偏光シート２８４２を貫通し得、そして光センサアレイ２８３４により受容され得る。 このことが起きれば、材料（例えば、結晶）の複屈折イメージが得られ得る。

上記の融点装置は、基板の個別のウェルまたは領域において生じ得る、相転移（固体から液体への転換を含む）の検出を可能にする。 特徴づけされるべき、候補塩、中性物質（
ｎｅｕｔｒａｌ）、固体沈殿物、またはろ過物の沈着物を含む基板は、基板の１つ以上の領域に配置され得る。 この基板は、熱プラットホーム２８１２内に配置され得、これは、
次いで、オプト−メカニカルプラットホーム２８３０内へと配置されて、光学スキャンを実行する。 熱プラットホーム２８１０は、上部オプティカルホール２８１３および下部オプティカルホール２８１５が、光学経路２８５０に整列するように構築される。 この操作は、手動で実行され得るか、あるいはサンプルを操作する際の誤りの可能性を減らす、より完全な自動化手順を提供するために、ロボットアーム用いて自動的に実行され得る。

次いで、基板および１つ以上の材料サンプルを含む熱プラットホームの温度は、規定された速度で上昇され、そしてモニターされる。 好ましい実施形態では、基板と接触している１つ以上の温度センサを用いて、コンピュータ（例えば、図１のコンピュータ１１０）
のような外部データ収集および処理デバイスに、リアルタイムの温度データを提供する。
このコンピュータはまた、良好な温度制御ためのフィードバックを提供するために、上記加熱／冷却システムに接続され得る。 代表的なプロセスにおいて、熱プラットホームの温度は、周囲温度から約２００℃、または周囲温度から約３００℃へと、１分間あたり約０
． ５℃、１分間あたり約１．０℃、１分間あたり約２．０℃、または他の適切な割合で上昇される。

各光センサ２８５３により受容される光学シグナルは、リアルタイムにコンピュータでモニターされる。 基板の領域上の材料候補または他の材料の、固体状態から液体状態への転換は、一般的に、この領域またはウェルを貫通する光学経路上に存在する、センサに達する光の量の急激な低下を生じる。 非結晶液体は、固体結晶材料よりも光に対して、より弱い「複屈折偏光効果」を有することに主に起因して、この効果は生じる。 次いで、基板の所定の領域またはウェルと関係する光学シグナルが変化する温度は、コンピュータにより検出および記録されて、特定のサンプルの融点の測定値を与え得る。 基板またはその任意の一部分上の材料のアレイの全体は、単一の熱ランプアップサイクル（ｓｉｎｇｌｅ
ｔｈｅｒｍａｌ ｒａｍｐ−ｕｐ ｃｙｃｌｅ）の間の融点について特徴づけされ得る。
なぜならば、基板の全体の温度が、この領域に配置された材料に関係する融点に達する場合に、各領域に対応する別個のセンサが、別々のシグナルを提供するからである。

より遅い速度の温度上昇は、より正確な融点値を生じ、加熱プラットフォーム（ｔｈｅ
ｒｍａｌ ｐｌａｔｆｏｒｍ）と基板との間の測定可能な（ｆｉｎｉｔｅ）熱伝達遅延と関連した一次的な誤差を減少させる傾向がある。 所定の測定設定について選択された実際の立ち上げ速度は、一般に、正確性と、その設定を完全にするに必要な時間全体との間の妥協を反映する。

多形体の場合、この試験によりより簡単に融点を測定することが可能であり、内部多形体（ｉｎｔｅｒ−ｐｏｌｙｍｏｒｐｈ）遷移もまた、観察され得る。 内部多形体遷移は、
ある多形体から別の多形体への遷移（例えば、固体から固体への遷移）を含み得る。 この場合、センサに達する、フィルタを通った光の強度の検出可能なシフト（ここでこの変化は、増加であっても減少であってもよい）は、特に、基板の同じ領域が、測定の設定の間にいくらか後の時間およびより高い温度にて融解変形を受ける場合に、ある固体形態から別の固体形態への遷移を示す。

図３０は、インサイチュモニタリングアセンブリ３０００を例示し、このアセンブリは、本発明の原理に従ってライブラリーメンバーの結晶化を観察するために使用され得る。
示されるように、インサイチュモニタリングアセンブリ３０００は、図２３の作業面（ｗ
ｏｒｋ ｓｕｒｆａｃｅ）２３３０の下に配置される。 この作業表面は、熱制御チャンバ２５００のようなデバイスの支持を提供する。 この構成において、作業表面２３３０は、
インサイチュモニタリングデバイス３０００が、測定を行い得るように材料が形成される領域をもたらす光学的通路（または容器）を有する。 さらに示されるように、アセンブリ３０００は、種々の熱制御チャンバ２５００の下に配置するために、作業表面２３３０に対して水平に動き得る。 アセンブリ３０００は、熱制御チャンバ２５００のうちの１つの下に配置されて、インサイチュ測定を行い得る。 所望であれば、アセンブリ３０００は、
作業表面２３３０または作業表面２３３０の一部の上に配置され得る。 インサイチュ測定は、結晶構造を形成したライブラリーメンバーの進行指標（ａｄｖａｎｃｅ ｉｎｄｉｃ
ａｔｉｏｎ）を提供し得る。 この情報は、例えば、どのライブラリーメンバーが、結晶化工程が完了した場合に試験するために選択されるべきであるかを決定するための投入データ（ｉｎｐｕｔ）として提供され得る。

また、図３０において、輪３からとった拡大断面図が示される。 この断面図は、インサイチュモニタリングが、光源３０１０、ディフューザー３０１２、ポーラライザー３０１
４、光ビームスプリッター３０１６、第２ポーラライザー３０１８、レンズ３０２０、および検出器３０２２を用いて、どのように達成され得るかを示す。 アセンブリ３０００が存在する場合、好ましくは、このアセンブリは、熱制御チャンバ２５００内に備えられる結晶化アセンブリ（例えば、結晶化アセンブリ２１００）が、レンズ３０２０の全景内にあるように配置される。 このことにより、アセンブリ３０００が、同時に２以上のライブラリーメンバーを走査することが可能になる。 レンズ３０２０が、望遠レンズ（ｔｅｌｅ
ｓｃｅｎｔｒｉｃ ｌｅｎｓ）である場合、レンズにより受容される光は、検出器３０２
２と平行に光を伝達し得、それにより、従来のレンズにより引き起こされる画像のひずみを減少させ得る。 検出器３０２２が、光シグナルを捕捉する場合、材料サンプルの比較的明瞭な写真を提供し得る。 検出器３０２２は、例えば、カメラ、デジタルカメラ、テレビジョンカメラ、電荷結合デバイスであり得る。

アセンブリ３０００は、図２８の複屈折試験機構に関して、以前に記載された原理と実質的に同じ原理で操作する。 しかし、透過走査技術の代わりに、アセンブリ３０００は、
結晶構造の光の反射を検出する反射光学走査技術を使用する。 この反射技術は、一般に、
以下のように操作する。 光源３０１０から発せられた光は、点線により示されるように、
ディフューザー３０１２および第１ポーラライザー３０１４を通過する。 次いで、この光シグナルは、ビームスプリッター３０１６に達し、このビームスプリッターは、例示的な光経路における変化により示されるように、この光シグナルの一部を、材料サンプルに向かって向け直す。 材料サンプルから反射された光は、ビープスプリッター３０１６を通過して戻る。 この光シグナルの任意の一部が、任意の材料サンプルにより変化した場合、この光シグナルは、第１ポーラライザーから９０°回転している第２ポーラライザー３０１
８を通過し得る。 第２ポーラライザー３０１８を通過する光は、レンズ３０２０により受容され、次いで、検出器３０２２により捕捉される。

検出器３０２２は、材料サンプルのアレイ全体の画像を捕捉してもよいし、一部を捕捉してもよい。 検出器３０２２がこのアレイの一部を捕捉する場合、アセンブリ３０００は、アレイの完全な写真または検出が得られ得るように、対応して動かされ得る。

アセンブリ１５００、１６００および２１００を使用することにより、薬物候補の結晶の調合（ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ）における完全な作業フローが可能になる。 １つの実施形態において、この作業フローは、反応アセンブリ１５００のバイアル１５１６に分配される最初の薬物候補で始まる。 その一方、バイアル１５１６は、別個のラックにあるかまたは（例えば、底部プレート１５１０およびリアクタベース１５１４に取り付けられた衝撃吸収層１５１２を備えた）リアクタベース１５１４にあるかのいずれかである。 この薬物候補は、固体状態または溶液もしくは懸濁液状態にあり得るが、薬物候補の最初の形態とともに存在する任意の溶媒は、例えば、エバポレーション、ウィッキング、または当業者に公知の他の方法により除去される。 次いで、上記で議論するように選択された所望の再結晶化溶媒または溶媒混合物は、所望の量にて（代表的には、このバイアル中に飽和溶液を形成するに十分な溶媒で）各バイアル１５１６に分配される。 必要に応じて、（塩選択プロセスにおいて、上記で議論されるように）異なる酸、塩基、または塩が添加される。 また、必要に応じて、混合物体（ｍｉｘｉｎｇ ｏｂｊｅｃｔ）は、（例えば、図１４
のようにデバイス１４０２を使用して）このバイアル中に配置される。

障壁シート１５１８および隔壁１５２０は、リアクタベース１５１４（底部プレート１
５１０は既に取り付けられている）におけるバイアル１５１６の上に配置され、リアクタカバー１５２２は、バイアル１５１６の上にシールを形成するに十分な強度でリアクタベース１５１４に固定される。 次いで、組み立てられた反応アセンブリ１５００は、ヒーター（図２３（または図２４および２５）に示される）に入れられ、必要に応じて、市販の振盪機（ＶＷＲを通じて入手可能であり、ＩＫＡ、ＭＴＳ、ＷＯＲＫＳまたはＬａｂ−ｌ
ｉｎｅにより製造される）上に配置される。 所望の長さの時間にわたり（例えば、２時間以上、４時間以上、または８時間以上）、および所望の温度（例えば、少なくとも４０℃
、少なくとも６０℃または少なくとも８０℃）にて、アセンブリ１５００は、加熱され、
必要に応じて、溶解および／または反応を可能にするように、攪拌または振盪される。

その後、反応アセンブリ１５００は、作業表面に配置され、針またはピペットが使用されて、バイアル１５１６中の熱い液体がサンプリングされる。 このことは、針またはカニューレを、穴１５２３、隔壁１５２０および障壁シート１５１８を通じて挿入し、液体のアリコート（例えば、１０００μＬ未満または１００μＬ未満）を吸入することにより達成される。 このアリコートは、手動または自動で（例えば、上記に記載されるように、図２３Ａに示される機器を用いて）採取され得る。

液体のアリコートは、針またはピペット中で維持され、組み立てられた状態の濾過アセンブリ１６００へと移動される。 この針は、図２０Ａおよび２０Ｂに示される第１の位置へ配置され、穴１６２５Ａ、中隔１６２０および障壁シート１６１８を通って延び、その結果、この針は、小さなｏリング１７４４と密封連絡した状態になる。 この液体は、針２
０２０を通って、開口部２０２０へと分配され、この液体は、バイアル１６１６に入る前に、フィルタ１６３４を通って濾過される。 濾過は、例えば、図２３において上記で記載されるように、濾過アセンブリ１６００をヒーターへ配置することにより所望の温度にて行い得る。

濾過後、濾液（代表的には、所望の温度での）を、針２０２０を穴１６２５Ｂを通して配置することにより、図２０Ｃに示されるように吸引する。 針２０２０は、穴１６２５Ｂ
、中隔１６２０、障壁シート１６１８、フィルタサブアセンブリ１６３０を通り、バイアル１６１６へと延びて、液体の濾液のアリコート（例えば、１０００μＬ未満または１０
０μＬ未満の濾液）を吸引する。 この濾液を、本明細書中に記載のように、温度での溶解度を試験するために使用する。

次いで、針は、結晶化アセンブリ２１００に移動される。 この針は、リアクタカバー２
１７６の穴２１７７を通って、中隔２１７４、障壁層２１７２を通って、側壁２１６９により形成された結晶化容器へと延ばされる。 次いで、液体の濾液は、この容器に分配される。 液体の濾液は、多くの異なる結晶化アセンブリ（例えば、複数の結晶化アセンブリ、
ガラス製マイクロタイタープレートなど）に分配され得、その結果、結晶化が、多くの異なる条件または方法下で生じる。 全ての容器に分配した後、この結晶化アセンブリを、例えば、所望の時間量にわたり（例えば、２時間以上、４時間以上または８時間以上）、アセンブリの温度を低下させる（例えば、約３５℃未満または約２５℃未満または約１５℃
未満または約５℃未満）ことにより、結晶化条件に供する。

割り当てた時間の後、リアクタカバー２１７６、中隔２１７４、および障壁シート２１
７２を外す。 代替的実施形態において、この結晶化アセンブリは、リアクタカバー２１７
６も、中隔２１７４も、障壁シート２１７２なしで使用され得、この濾液は、結晶化チャンバに直接入れられる；この実施形態は、他の結晶化方法論（例えば、エバポレーション）を可能にする。 リアクタカバー２１７６を外すと、母液（ｍｏｔｈｅｒ ｌｉｑｕｏｒ
）または上清が、上記のように、溶解度試験のためにサンプリングされる。 その後、母液または上清の残りは、ピペッティングおよび／またはウィッキングまたは他の方法により除去され、結晶化アセンブリ２１００は分解されて、基板２１６４上に結晶のアレイを提供する。 次いで、このアレイは、本明細書中に記載のように、スクリーニングされ得る。
結晶化作業フローにおいて、本明細書中に記載されたアセンブリを使用する例示については、実施例６を参照のこと。

上記の発明は、薬物候補化合物について記載されてきたが、本発明は、目的の任意の化合物、特に低分子量化合物を用いて実施され得る。 従って、本明細書中に記載の方法、装置およびシステムは、塩選択および／または多形体特徴が所望される任意の化合物について使用され得る。

以下の実施例は、本発明をどのように使用して、上記のプロセスを実施し得るかについての例示的な実施例を提供する。 これらの実施例は、例示のみが目的であって、如何様にも本発明の範囲を限定すると解釈されない。

（実施例１：カフェイン−塩選択）
各ウェルが約１０ｍｇのカフェインを含むように、サイズが７５０μｌであり得る取り外し可能なバイアルを有する８×１２のマイクロタイタープレートリアクタ（図１５に示す）の９６ウェルに、カフェインのジクロロメタン溶液（２５ｍｇ／ｍＬ）を分配した。
エバポレーションにより溶媒を除去した後、ジクロロメタンまたはテトラヒドロフラン（
ＴＨＦ）のいずれかにおける７つの異なる酸溶液（その塩反応物）を分配し、異なる酸溶液を、そのマイクロタイタープレートの異なる行中の１２のウェルの各々に分配し、第１
の行には、酸を加えなかった（溶媒ジクロロメタンのみ）。

以下の酸溶液を、行２〜８の各１２のウェルに添加した：第２行、ジクロロメタン中の酢酸；第３行、ジクロロメタン中のベンゼンスルホン酸；第４行、ジクロロメタン中の塩酸；第５行、ジクロロメタン中のメチルスルホン酸；第６行、ＴＨＦ中のコハク酸；第７
行、ＴＨＦ中の酒石酸；および第８行、ジクロロメタン中のトルエンスルホン酸。 １当量の酸を各ウェルに添加し、総容積を４００μｌにした。 リアクタをシールし、室温にて４
時間振盪した。 カバーを外し、溶媒をエバポレートした。 １２の異なる再結晶化溶媒ウェルに添加し、異なる再結晶化溶媒を、以下のように、各１２の異なる列の８ウェルに添加した：第１列、酢酸エチル；第２列、エタノール；第３列、メチルエチルケトン；第４列、ニトロメタン；第５列、ヘプタン；第６列、アセトニトリル；第７列、２−プロパノール；第８列、ｐ−ジオキサン；第９列、２−メトキシエチルエーテル；第１０列、１−プロパノール；第１１列、トルエン；および第１２列、水。

リアクタをシールし、６０℃まで加熱し、その温度にて４時間加熱した。 カバーを外し、各ウェルのアリコート（例えば、２００μｌ）を、ピペットで取り出し、ガラス製マイクロタイタープレート（Ｚｉｎｓｓｅｒ Ａｎａｌｙｔｉｃｓ製）に分配した。 別のアリコートを取り出し、一連のバイアルに添加し、上記のように、６０℃での化合物の溶解度測定値を得るために、さらなる希釈および液体クロマトグラフィー分析のためにアセトニトリルで希釈した。 ガラス製のマイクロタイタープレとをシールし、７０℃のＴｏｒｒｅ
ｙ Ｐｉｎｅｓインキュベーター中に入れた。 温度を、８時間かけて１０℃まで下げた。
１０℃に少なくとも１０時間おいた後、その母液のアリコートを取り出し、上記のように、ＬＣ分析のためにアセトニトリルで希釈した。 母液中のカフェインの濃度は、溶解度であると見なされ、結果を、以下の表４に示す：

６０℃および１０℃での溶解度測定値を比較して、この場合に得られた結晶の質量を獲得し得ることに注意のこと。

次いで、ガラスプレートを、直交偏光フィルタの間に配置し、湿式複屈折（ｗｅｔ ｂ
ｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）について走査した。 残りの母液を、ピペットで取り出し、残りの溶媒を、濾紙を用いたウィッキングにより除去した。 直交偏光フィルタの間で別の画像を撮り、乾燥式複屈折（ｄｒｙ ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）を得た。 ウェル中の固体の複屈折画像を、直交偏光フィルタを備えた顕微鏡下で得た。 ラマンスペクトルを、上記の手順に従って、ウェルの各々中の個々の結晶で得た。

（実施例２：ナプロキセン−塩選択）
実施例１と同様の一連の実験を、塩基との反応により塩を形成するナプロキセンを用いて行った。 実験の設定は、実施例１と同じであり、各ウェルが１０ｍｇのナプロキセンを含むように、９６ウェルへ分配したジクロロメタン中のナプロキセンの溶液（２５ｍｇ／
ｍＬ）を使用した。 エバポレーションにより溶媒を除去した後、メタノールまたは水のいずれかにおける７つの異なる塩基溶液（塩反応物）を分配し、異なる塩基溶液を、マイクロタイタープレートの異なる行の１２のウェルに分配し、第１行には、塩基を添加しなかった（溶媒メタノールのみ）。

以下の塩基溶液を、各行の１２のウェルに添加した：第２行、メタノール中の水酸化ナトリウム；第３行、メタノール中の水酸化カリウム；第４行；水中の炭酸カルシウム；第５行、メタノール中の水酸化アンモニウム；第６行、メタノール中のエチレンジアミン；
第７行、メタノール中のＬ−アルギニン；および第８行、メタノール中のピリジン。 １当量の塩基を各ウェルに添加し、総容積を４００μｌにした。

リアクタをシールし、室温にて４時間振盪した。 カバーを外し、溶媒をエバポレートした。 １２の異なる再結晶化溶媒をウェルに添加し、異なる再結晶化溶媒を、以下のように、異なる列の各々の８つのウェルの各々に添加した：第１列、酢酸イソプロピル；第２列、エタノール；第３列、ヘプタン；第４列、アセトニトリル；第５列、１−オクタノール；第６列、無水ｐ−ジオキサン；第７列、トルエン；第８列、２−ブタノン；第９列、水；第１０列、ニトロメタン；第１１列、１，２−ジクロロエタン；および第１２列、トリエチルアミン。 リアクタをシールし、６０℃に４時間加熱した。 カバーを外し、アリコート（例えば、２００μｌ）をピペットで取り出し、ガラス製マイクロタイタープレート（
Ｚｉｎｓｓｅｒ Ａｎａｌｙｔｉｃｓ製）に分配した。

別のアリコートを取り出し、バイアルのアレイに加え、６０℃での化合物の溶解度測定値を得るために、上記のように、さらなる希釈および液体クロマトグラフィー分析のために、アセトニトリルで希釈した。 このガラスマイクロタイタープレートをシールして、７
０℃のＴｏｒｒｅｙ Ｐｉｎｅｓインキュベーター中に設置した。 この温度を、８時間かけて１０℃まで下げた。 １０℃で一晩放置した後、上記のように、液体クロマトグラフィー分析による１０℃における溶解度のために、母液のアリコートを取り出し、アセトニトリルで希釈した。 １０℃および６０℃の両方における１−オクタノール中および水中での塩の各々の溶解度をＬＣを使用して得て、これをプロットし使用して、分配係数（これは、ｌｏｇＰとして表され、以下に表５で示される）を計算した（ｐＨ値は、得なかった）
。

表５中におけるこの実験の値は、ｐＨ７．４におけるＰｈｙｓｉｃｉａｎｓ Ｄｅｓｋ

Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ ｆｏｒ Ｎａｐｒｏｘｅｎに公表されたＬｏｇ Ｐ値（１．６〜

１．８）と比較され得る。 この実験は、Ｎａｐｒｏｘｅｎの明らかに異なる塩形態がこの実施例の間に形成されることを証明する。

このガラスプレートを、交差した偏光フィルターの間に設置し、湿式複屈折についてスキャンした。 残りの母液をピペットによって取り出し、残りの溶媒を濾紙に吸い込ませる（ｗｉｃｋ）ことによって除去した。 別の画像を、乾式複屈折についての交差した偏光フィルター間で得た。

（実施例３：フェニルブタゾン−多形体研究）
ジクロロメタン中のフェニルブタゾンの溶液（２５ｍｇ／ｍＬ）を、各ウェルが１０ｍ
ｇのフェニルブタゾンを含むように容量が７５０μｌである取り外し可能なバイアル（図３に示す）を有するマイクロタイタープレートのウェルに分配した。 エバポレーションによる溶媒の除去後、１６個の再結晶溶媒を、以下の表６中に示した比率でウェル中に分配し、その結果、全容量は、８４個の固有の溶媒組成を含むライブラリーを生成する６００
μｌの溶媒であった。 溶媒の混合物について、純粋な溶媒を混合の前に分配し、ウェル中で混合した。 表６中に示した比率は、ｖ／ｖ比であり、従って、例えば８０／２０は、第１に挙げられた溶媒８０部および第２に挙げられた溶媒２０部（すなわち、４８０μｌ／
１２０μｌ）を意味する。 この再結晶溶媒は、水（Ｗ）、ヘプタン（Ｈ）、エタノール（
Ｅ）、ジクロロエタン（Ｄ）、アセトニトリル（Ａ）、メチルエチルケトン（Ｋ）、トルエン（Ｔ）、ジメチルスルホキシド（Ｓ）、１−プロパノール（ＩＰ）、ニトロメタン（
ＮＭ）、α，α，α−トリフルオロトルエン（ＦＴ）、２−プロパノール（２Ｐ）、ｐ−
ジオキサン（Ｉ）、１−オクタノール（１Ｏ）、プロピルアセテート（ＰＡ）、およびシクロヘキサン（ＣＨ）であった。

このリアクタをシールし、４時間かけて６０℃まで加熱した。 このカバーを除去し、アリコート（例えば、２００μｌ）をピペットによって取り出し、ガラスマイクロタイタープレート（Ｚｉｎｓｓｅｒ Ａｎａｌｙｔｉｃｓ）の個々の領域に分配し、９６個の液体のアレイを生成した。 Ｚｉｎｓｓｅｒプレートを晶析装置中でシールし、７０℃のＴｏｒ

ｒｅｙ Ｐｉｎｅｓインキュベーター中に設置した。 この温度を１０℃まで８時間にわたって下げた。 １０℃で一晩放置した後、母液のアリコートを取り出し、アセトニトリルで希釈し、１０℃の種々の溶媒中におけるフェニルブタゾンの溶解度をＬＣ分析により測定した。

この溶媒の残りをピペットによって取り出し、任意の残りの溶媒をフィルターに吸い込ませることによって取り出した。 次いで、このガラスプレートを交差した偏光フィルター間に設置し、乾式複屈折について走査し、交差した偏光フィルターを装備した倍率５倍の顕微鏡下で得た。 上記のように、ウェルの各々における個々の結晶について、自動化された様式で、ラマンスペクトルを得た。 多形体間の相違を示す選択されたスペクトルを、図９に示す。 回収されたラマンスペクトルの全てを本明細書中に記載したソフトウェアを使用して、相関させグループ分けした。 図１１は、アレイフォーマット２００８中のウェルによってスペクトルを示し、そしてユーザーは、最小群化相関係数（括弧内は、推奨されたパラメータである）のソフトウェア２００２中に、固定した基準２００４を使用するか（１の入力）またはその基準として第１のウェルを使用するか（０の入力）を入力する。
図１１はまた、ユーザーがスペクトル画像２００６の幅および高さを変更する能力を示す。 図１２は、このスパクトルを類似性によって１２個のファミリーにグループ分けしたソフトウェアの出力を示す。

全体の再結晶化プロセスを、晶析装置中の異なるガラスプレートを用いて繰り返し、このときに、同じウェルフォーマット中の晶析サブアセンブリ（本明細書中に記載されるように、図２１に示される）内へ直接再結晶するための熱溶液を分配する。 晶析装置サブアセンブリを、シールし、７０℃のＴｏｒｒｅｙ Ｐｉｎｅｓインキュベータ中に設置した。 この温度を、８時間にわたって１０℃まで下げた。 １０℃で一晩放置した後、母液のアリコートを取り出し、アセトニトリルで希釈し、ＬＣ分析によって１０℃の種々の溶媒におけるフェニルブタゾンの溶解度を測定した。 この溶媒の残りを、ピペットによって除去し、任意の残りの溶媒を濾紙に吸い込ませることによって除去した。 晶析装置を分解して、各結晶が、平坦なガラス基板上の別個の領域内にあるように、アレイフォーマット中に結晶を与えた。 次いで、上記のようにガラス基板をＸ線回析装置上に垂直に取り付け、データを選択したエレメント上に得た。 ＸＲＤの２つのシータプロットの比較は、明らかに図１０に示される３つの多形体の存在を示す。

（実施例４：シメチジン−多形体研究）
ジクロロメタン中のシメチジンの溶液（２５ｍｇ／ｍＬ）を、各ウェルが１０ｍｇのフェニルブタゾンを含むように７５０μｌの容量である取り外し可能なバイアルを有するマイクロタイタープレートのウェル内に分散した。 エバポレーションによる溶媒の除去後、
上の実施例３および表６に上述されるように、１６個の再結晶溶媒を分配した。 このリアクタをシールし、４時間かけて６０℃まで加熱した。 カバーを取り外し、個々のサンプルのアリコート（例えば、２００μｌ）をピペットによって取り出し、同じウェルフォーマット中の結晶化アセンブリ（図２１に示され、本明細書中に記載される）に分配した。 別のアリコートを取り外し、バイアルのアレイに加え、さらなる希釈のためにアセトニトリルで希釈し、ＬＣ分析によって、７０℃の種々の溶媒中へのシメチジンの溶解度を測定した。 晶析装置アセンブリをシールし、７０℃のＴｏｒｒｅｙ Ｐｉｎｅｓインキュベータ中に設置した。 ８時間かけて温度を１０℃に下げた。 １０℃で一晩放置した後、母液のアリコートを取り出し、ＬＣ分析のためにアセトニトリルで希釈した。 この溶媒を、ピペットによって取り出し、残りの溶媒を濾紙に吸い込ませることによって除去した。 カバーを取り外し、晶析装置を分解して、平坦なガラス基板上に結晶を与えた。

次いで、このガラス基板を交差偏光フィルター間に設置し、乾燥複屈折を得るために走査し、選択したウェルの複屈折画像を、交差した偏光フィルターを装着した顕微鏡下で得た。 以前の実施例に記載されるように、ラマンスペクトルをウェルの各々における個々の結晶に対して得た。

（実施例５：多形体の特徴づけのためのサンプルコード）
種々のプログラム言語は、本発明の原理に従って、結晶構造の分類を実施し得るソフトウェアを構築するために実施され得る。 以下のリスト１は、図８と関連付けて記載された分類処理を実施するために使用され得るＪａｖａ（登録商標）コードの一部を例示する。

（リスト１）

（実施例６：結晶化のワークフロー）

例示的な結晶化のワークフローを、図３１に示す。 このワークフローにおいて、目的物の結晶化溶媒３１０１および沈殿溶媒３１０３を、ワークフローにおける使用のために溶媒ラック３１０５中に設置する。 反応ステーションからの目的の薬物候補（塩または中性化合物）を含むアレイ３１１０を、リアクタアセンブリ３１２０中に設置する。 このアレイは、８×１２アレイ（例えば、９６ウェルプレート）または当該分野において公知の任意の他のアレイ（例えば、３８４ウェルプレート）であり得る。 溶媒ラックからの結晶化溶媒を、アレイのウェル中に堆積し、このアレイを、溶媒中に薬物候補を少なくとも部分的に溶解するために平衡化する。 １実施形態において、８００μＬの結晶化溶媒を、各ウェルに加えるが、任意の容量の溶媒は、本発明に従って使用され得る。

薬物候補を、溶液を形成するために結晶化溶媒と平衡化した後、この溶液を濾過アセンブリ３１３０中で濾過する。 １つの非限定的な実施形態において、６５０μＬをリアクタアセンブリの各ウェルから取り出し、濾過アセンブリ中で濾過し、各サンプルの６００μ
Ｌのアリコートを濾過後に取り出す。 次いで、このアリコートは、結晶化分析および他の分析のために、１つ以上の異なる装置に分けられ得る。 １実施形態において、５０μＬの各サンプルを高温での溶解度の測定のために、液体クロマトグラフィー（ＬＣ）バイアル３１４０内にアリコートに分け；冷却による結晶化を研究するために、各サンプルから２
５０μＬを晶析装置アセンブリ３１４５にアリコートに分け；エバポレーションによる結晶化を研究するために、各サンプルから２００μＬをエバポレーションプレート３１５０
にアリコートに分け；そして、沈殿による結晶化を研究するために、１００μＬの各サンプルを、４００μＬの沈殿溶媒と共に沈殿プレート３１５５内にアリコートに分けた。

結晶化後、晶析装置アセンブリおよび沈殿プレート内での結晶化に供されるサンプルからの上清を回収する。 結晶化アセンブリからの上清は、低温（例えば、室温またはそれ未満）における薬物候補の溶解度の測定のために、ＬＣバイアル３１６５にアリコートに分けられ得る。 この上清は、所望される任意の目的（例えば、薬物候補のリサイクルまたは廃棄）のために、ステーション３１６０にて回収され得る。

本発明の教示に従う当業者は、結晶化装置および／または結晶化方法の異なる組み合わせを使用し得ることを理解する。 例えば、異なる結晶化温度を使用する多くの晶析装置アセンブリが提供され得るか、または沈殿またはエバポレーション結晶化を実施するために晶析装置アセンブリが使用され得る。 さらに、当業者は、ｌｏｇＰ分析のようなこのワークフローを使用して異なる非結晶化分析が実施され得ることを理解する。

本明細書中で引用される全ての刊行物および特許出願は、あたかも、各個々の刊行物または特許出願が具体的にかつ個々に参考として援用されることが示されるかのように、本明細書中において参考として援用される。 前述の本発明は、理解を明確にするために、例示および実施例により幾らか詳細に記載されてきたが、本発明の教示を考慮して、特定の変更および改変が添付の特許請求の範囲の趣旨または範囲から逸脱することなく、本発明に対して行われ得ることは、当業者にとって容易に明らかである。

本発明の上記の目的および他の目的ならびに上記の利点および他の利点は、添付の図面（ここで、同様の参照文字は、全体にわたって同様の部分を参照する）と組み合わせて、
上記の詳細な説明を考慮して明らかとなる。

図１は、本発明の原理に従う、例示的なプレ処方物発見ツールシステムを示す。

図２Ａは、本発明の原理に従う、例示的な塩選択プロセスのフロー図を示す。

図２Ｂは、本発明の原理に従う、例示的な塩選択プロセスのフロー図を示す。

図３は、本発明の原理に従う、例示的な多形体試験のフロー図を示す。

図４は、本発明の原理に従ってモデル化され得る例示的なライブラリーを示す。

図５は、本発明の原理に従う、ライブラリー設計プロセスの例示的なフロー図を示す。

図６は、本発明の原理に従う、ハードウェアの自動制御によってライブラリーを合成するのを可能にするレシピファイルを作製する例示的なフロー図を示す。

図７は、本発明の原理に従う、複屈折試験で検出され得るいくつかの異なる結晶構造を示す。

図８は、本発明の原理に従って、スクリーニング試験で得られたデータに従って、サンプルを分類するための例示的なフロー図を示す。

図９は、本発明の原理に従って、ラマンスクリーニングデバイスから得られたスペクトルデータのグラフ表示を示す。

図１０は、本発明の原理に従って、Ｘ線スクリーニングデバイスから得られたスペクトルデータのグラフ表示を示す。

図１１は、本発明の原理に従って、材料のアレイにおいて見出された結晶構造のいくつかのスペクトルデータグラフを含む、対話式ディスプレイスクリーンを示す。

図１１Ａは、本発明の原理に従ってデータを相関付けるために使用されるパラメータをユーザが規定することを可能にする、例示的なディスプレイスクリーンを示す。

図１１Ｂは、本発明の原理に従ってデータの相関を実行するためのパラメータをユーザが規定することを可能にする、例示的なディスプレイスクリーンを示す。

図１１Ｃは、本発明の原理に従って、ユーザが特定の多形体ファミリーにデータを関連付けることを可能にする、例示的なディスプレイスクリーンを示す。

図１２は、本発明の原理に従う分類における図１１のスペクトルグラフを示す、例示的なディスプレイスクリーンを示す。

図１２Ａは、本発明の原理に従って、さらに試験するために材料サンプルが選択されるべきか否かを決定するプロセスの流れ図を示す。

図１３は、本発明の原理に従うリアクタアセンブリの断面図を示す。

図１４は、本発明の原理に従うボール分配アセンブリの三次元図を示す。

図１４Ａは、本発明の原理に従う、図１４のボール分配アセンブリの分解三次元図を示す。

図１５は、本発明の原理に従うリアクタアセンブリの分解図を示す。

図１６は、本発明の原理に従う濾過アセンブリの分解図を示す。

図１７は、本発明の原理に従う、図１６のフィルタサブアセンブリの分解図を示す。

図１８は、本発明の原理に従って、図１７のフィルタサブアセンブリにおいて使用され得る、Ｏリングシートの実施形態を示す。

図１９は、本発明の原理に従って、図１６のフィルタアセンブリと組み合わせて使用され得る、フィルタディスクの実施形態を示す。

図２０Ａは、本発明の原理に従って、混合物がどのように、図１６のフィルタアセンブリを使用して濾過されるかを示す。

図２０Ｂは、本発明の原理に従って、混合物がどのように図１６のフィルタアセンブリを使用して濾過されるかを示す。

図２０Ｃは、本発明の原理に従って、濾液がどのように図１６のフィルタアセンブリから抽出されるかを示す。

図２１は、本発明の原理に従う結晶化アセンブリの分解図を図示する。

図２１Ａは、本発明の原理に従う結晶化アセンブリの代替の実施形態の分解図を図示する。

図２１Ｂは、本発明の原理に従って、図２１Ａの結晶化アセンブリと組み合わせて使用される、Ｏリングの二次元アレイを図示する。

図２１Ｃは、本発明の原理に従う、図２１Ａの結晶化アセンブリの部分断面図を図示する。

図２２は、本発明の原理に従う、図２１の結晶化アセンブリの部分断面図を図示する。

図２２Ａは、本発明の原理に従う、拡張位置にある排気針アセンブリを示す。

図２２Ｂは、本発明の原理に従う、圧縮位置にある排気針アセンブリを示す。

図２３は、本発明の原理に従って、流体を分配し得、そしてプラットフォーム上に配置されたアセンブリから流体を吸引し得る、液体処理ロボットを有する、プロセスプラットフォームを示す。

図２４は、本発明の原理に従う、温度制御されたハウジングの上面斜視図および下面斜視図を示す。

図２５は、本発明の原理に従う熱制御チャンバを示す。

図２６は、本発明の原理に従う、図２５の温度制御されたハウジングの流体チャネルの三次元図を示す。

図２７は、本発明の原理に従う、温度制御されたハウジング内に収容された結晶化アセンブリを備える、温度制御されたハウジングの断面図を示す。

図２７Ａは、本発明の原理に従う、図２７の円２７に沿った、温度制御されたハウジングの詳細断面図を示す。

図２８は、本発明の原理に従って、融点試験および屈折または光散乱試験を同時に実施する装置を示す。

図２８Ａは、本発明の原理に従う、図２８の装置の等角図を示す。

図２８Ｂは、本発明の原理に従う、図２８Ａの装置の線２８−２８に沿った断面図を示す。

図２９Ａ、２８Ｂ、および２９Ｃは、表３を示し、この表は、本発明のプロセスのために有用な溶媒を列挙し、この表は、本発明の原理に従う溶媒選択において使用され得る溶媒の、特定の物理的特性を含む。

図２８Ｂは、表３を示し、この表は、本発明のプロセスのために有用な溶媒を列挙し、この表は、本発明の原理に従う溶媒選択において使用され得る溶媒の、特定の物理的特性を含む。

図２９Ｃは、表３を示し、この表は、本発明のプロセスのために有用な溶媒を列挙し、この表は、本発明の原理に従う溶媒選択において使用され得る溶媒の、特定の物理的特性を含む。

図３０は、本発明の原理に従ってインサイチュ測定を実施するための装置を示す。

図３１は、本発明の方法および装置を使用する、例示的な結晶化ワークフローを示す。