| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 101 | 一种氧化铝陶瓷片处理工艺 | CN201610061914.8 | 2016-01-29 | CN105565876A | 2016-05-11 | 解伟伟 |
| 一种氧化铝陶瓷片处理工艺，步骤如下：（1）蒸馏水清洗：将陶瓷片放置在100%纯水中清洗，烘干；（2）酮洗：将清洗过的陶瓷片放置在10-20%丙酮中浸泡，烘干；（3）碱洗：将酮洗过陶瓷片置于20-30%碳酸钠溶液中浸泡，烘干；（4）酸洗：将步骤（3）中烘干的陶瓷片放置在10%硫酸溶液内浸泡，烘干；本发明的有益效果是：硬度大，耐磨性能极好，重量轻，表面吸附力强，是未经处理的陶瓷片的表面吸附力的10-20，通过胶水与橡胶结合后非常牢固、耐用。 | ||||||
| 102 | 一种氧化铝陶瓷片处理工艺 | CN201610061483.5 | 2016-01-29 | CN105565870A | 2016-05-11 | 解伟伟 |
| 一种氧化铝陶瓷片处理工艺，步骤如下：（1）蒸馏水清洗：将陶瓷片放置在100%纯水中清洗，烘干；（2）酮洗：将清洗过的陶瓷片放置在10-20%丙酮中浸泡，烘干；（3）碱洗：将酮洗过陶瓷片置于30-40%碳酸钠溶液中浸泡，烘干；（4）酸洗：将步骤（3）中烘干的陶瓷片放置在8-12%硫酸溶液内浸泡，烘干；本发明的有益效果是：硬度大，耐磨性能极好，重量轻，表面吸附力强，是未经处理的陶瓷片的表面吸附力的10-20，通过胶水与橡胶结合后非常牢固、耐用。 | ||||||
| 103 | 一种氧化铝陶瓷片处理工艺 | CN201610061222.3 | 2016-01-29 | CN105565862A | 2016-05-11 | 解伟伟 |
| 一种氧化铝陶瓷片处理工艺，步骤如下：（1）蒸馏水清洗：将陶瓷片放置在100%纯水中清洗，烘干；（2）酮洗：将清洗过的陶瓷片放置在20-30%丙酮中浸泡，烘干；（3）碱洗：将酮洗过陶瓷片置于60-70%碳酸钠溶液中浸泡，烘干；（4）酸洗：将步骤（3）中烘干的陶瓷片放置在8-12%硫酸溶液内浸泡，烘干；本发明的有益效果是：硬度大， 耐磨性能极好，重量轻，表面吸附力强，是未经处理的陶瓷片的表面吸附力的10-20，通过胶水与橡胶结合后非常牢固、耐用。 | ||||||
| 104 | 一种氧化铝陶瓷片处理工艺 | CN201610060737.1 | 2016-01-29 | CN105565861A | 2016-05-11 | 杨莉 |
| 一种氧化铝陶瓷片处理工艺，步骤如下：（1）蒸馏水清洗：将陶瓷片放置在100%纯水中清洗，烘干；（2）酮洗：将清洗过的陶瓷片放置在30-40%丙酮中浸泡，烘干；（3）碱洗：将酮洗过陶瓷片置于40-50%碳酸钠溶液中浸泡，烘干；（4）酸洗：将步骤（3）中烘干的陶瓷片放置在10%硫酸溶液内浸泡，烘干；本发明的有益效果是：硬度大，耐磨性能极好，重量轻，表面吸附力强，是未经处理的陶瓷片的表面吸附力的10-20，通过胶水与橡胶结合后非常牢固、耐用。 | ||||||
| 105 | 一种氧化铝陶瓷片处理工艺 | CN201610060598.2 | 2016-01-29 | CN105565858A | 2016-05-11 | 杨莉 |
| 一种氧化铝陶瓷片处理工艺，步骤如下：（1）蒸馏水清洗：将陶瓷片放置在100%纯水中清洗，烘干；（2）酮洗：将清洗过的陶瓷片放置在40-50%丙酮中浸泡，烘干；（3）碱洗：将酮洗过陶瓷片置于50-60%碳酸钠溶液中浸泡，烘干；（4）酸洗：将步骤（3）中烘干的陶瓷片放置在10%硫酸溶液内浸泡，烘干；本发明的有益效果是：硬度大，耐磨性能极好，重量轻，表面吸附力强，是未经处理的陶瓷片的表面吸附力的10-20，通过胶水与橡胶结合后非常牢固、耐用。 | ||||||
| 106 | 一种氧化铝陶瓷片处理工艺 | CN201610060449.6 | 2016-01-29 | CN105565857A | 2016-05-11 | 杨莉 |
| 一种氧化铝陶瓷片处理工艺，步骤如下：（1）蒸馏水清洗：将陶瓷片放置在100%纯水中清洗，烘干；（2）酮洗：将清洗过的陶瓷片放置在40-50%丙酮中浸泡，烘干；（3）碱洗：将酮洗过陶瓷片置于70-80%碳酸钠溶液中浸泡，烘干；（4）酸洗：将步骤（3）中烘干的陶瓷片放置在10%硫酸溶液内浸泡，烘干；本发明的有益效果是：硬度大，耐磨性能极好，重量轻，表面吸附力强，是未经处理的陶瓷片的表面吸附力的10-20，通过胶水与橡胶结合后非常牢固、耐用。 | ||||||
| 107 | 一种氧化铝陶瓷片处理工艺 | CN201610060447.7 | 2016-01-29 | CN105565856A | 2016-05-11 | 杨莉 |
| 一种氧化铝陶瓷片处理工艺，步骤如下：（1）蒸馏水清洗：将陶瓷片放置在100%纯水中清洗，烘干；（2）酮洗：将清洗过的陶瓷片放置在40-50%丙酮中浸泡，烘干；（3）碱洗：将酮洗过陶瓷片置于80-90%碳酸钠溶液中浸泡，烘干；（4）酸洗：将步骤（3）中烘干的陶瓷片放置在10%硫酸溶液内浸泡，烘干；本发明的有益效果是：硬度大，耐磨性能极好，重量轻，表面吸附力强，是未经处理的陶瓷片的表面吸附力的10-20，通过胶水与橡胶结合后非常牢固、耐用。 | ||||||
| 108 | 一种氧化铝陶瓷片处理工艺 | CN201610062455.5 | 2016-01-29 | CN105541401A | 2016-05-04 | 孙英 |
| 一种氧化铝陶瓷片处理工艺，步骤如下：（1）蒸馏水清洗：将陶瓷片放置在100%纯水中清洗，烘干；（2）酮洗：将清洗过的陶瓷片放置在40-50%丙酮中浸泡，烘干；（3）碱洗：将酮洗过陶瓷片置于10-20%碳酸钠溶液中浸泡，烘干；本发明的有益效果是：硬度大，耐磨性能极好，重量轻，表面吸附力强，是未经处理的陶瓷片的表面吸附力的10-20，通过胶水与橡胶结合后非常牢固、耐用。 | ||||||
| 109 | 一种氧化铝陶瓷片处理工艺 | CN201610062420.1 | 2016-01-29 | CN105541400A | 2016-05-04 | 孙英 |
| 一种氧化铝陶瓷片处理工艺，步骤如下：（1）蒸馏水清洗：将陶瓷片放置在100%纯水中清洗，烘干；（2）酮洗：将清洗过的陶瓷片放置在10-20%丙酮中浸泡，烘干；（3）碱洗：将酮洗过陶瓷片置于40-50%碳酸钠溶液中浸泡，烘干；本发明的有益效果是：硬度大，耐磨性能极好，重量轻，表面吸附力强，是未经处理的陶瓷片的表面吸附力的10-20，通过胶水与橡胶结合后非常牢固、耐用。 | ||||||
| 110 | 一种氧化铝陶瓷片处理工艺 | CN201610062417.X | 2016-01-29 | CN105541399A | 2016-05-04 | 孙英 |
| 一种氧化铝陶瓷片处理工艺，步骤如下：（1）蒸馏水清洗：将陶瓷片放置在100%纯水中清洗，烘干；（2）酮洗：将清洗过的陶瓷片放置在10-20%丙酮中浸泡，烘干；（3）碱洗：将酮洗过陶瓷片置于20-30%碳酸钠溶液中浸泡，烘干；本发明的有益效果是：硬度大，耐磨性能极好，重量轻，表面吸附力强，是未经处理的陶瓷片的表面吸附力的10-20，通过胶水与橡胶结合后非常牢固、耐用。 | ||||||
| 111 | PDC切割器的高温高加热速率处理 | CN201310117634.0 | 2013-04-07 | CN103468912A | 2013-12-25 | F·贝林; V·钦塔曼内尼 |
| 本发明提供PDC切割器的高温高加热速率处理。一种用于降低出现在组件中的残余应力的后制备方法和设备。该组件包括衬底、耦接至衬底的聚晶结构和出现在其中的残余应力。该方法包括从组件类别获得组件，确定组件类别的组件结构上损坏的临界温度和临界时间周期，基于临界温度和临界时间周期确定热处理温度和热处理时间周期，及在热处理时间周期内将来自组件类别的一个或多个剩余组件加热至热处理温度。该设备包括限定加热腔室的加热器和位于加热腔室中的熔池。组件放置在预加热的熔池中并且在加热处理时间周期的加热至热处理温度期间与氧气隔离。 | ||||||
| 112 | 烃膜保护的耐火碳化物构件及其使用 | CN201210540580.4 | 2012-12-14 | CN103161577A | 2013-06-19 | W.P.米尼尔; R.S.班克; N.D.乔希; A.T.埃武莱特 |
| 本发明涉及烃膜保护的耐火碳化物及其使用。公开一种具有由来自高碳活度气体的烃提供的增强的耐火碳化物稳定的涡轮功率发生系统。本公开也包括一种使用高碳活度气体来使热气路径构件稳定的方法。 | ||||||
| 113 | 制造缎面光表面的方法 | CN200710089705.5 | 2007-03-27 | CN101045644B | 2013-03-13 | F·贝森; S·鲍查德 |
| 本发明涉及一种在零件上制造缎面光表面的方法，所述零件包括至少一个被抛光的表面，其由维氏硬度大于1000HV的材料制成，所述方法主要包括以下步骤：取该零件的支架和脉冲激光器，其能够彼此相对地在XY平面内相对运动；使所述被抛光的表面局部暴露于激光器脉冲，使用足够的能量以引起被抛光的表面局部熔融，使得形成微坑；重复该激光器脉冲，同时使该物件相对于该激光器相对运动，从而示踪在被抛光的表面上的微槽，其是通过校准若干相继部分重叠的微槽形成的，该微槽基本上彼此平行且等距，并且共同限定了该缎面光表面。 | ||||||
| 114 | 装饰陶瓷部件的方法 | CN200710091556.6 | 2007-03-27 | CN101045645B | 2011-11-09 | F·贝松; S·布卡尔 |
| 本发明提出了一种对由金属氧化物类型的陶瓷材料制成的部件进行局部着色的方法，该方法主要包括以下步骤：设置所述部件的支承件和一激光器，该支承件和激光器能够沿XY平面彼此相对地移动；使用包含选自氮和碳中的一种元素的气体对所述部件进行等离子处理，以便将金属氧化物的表面层转变为选自金属氮化物和金属碳化物的基本按化学计量组成的陶瓷；使用激光束局部照射所述部件以便提供足够的能量，以通过改变所述表面层的化学计量关系而引起局部变色；以及使用所述激光束扫描所述部件的表面以形成确定的图案。 | ||||||
| 115 | 处理半导体加工部件的方法及由之形成的部件 | CN200480015166.5 | 2004-04-14 | CN100479112C | 2009-04-15 | Y·纳伦德拉; R·F·巴克利; A·G·黑尔; R·R·亨斯特 |
| 公开了各种半导体加工部件及其制造方法。一个实施方式中，半导体加工部件由SiC形成，部件的外表面部分的表面杂质水平不大于体杂质水平的10倍。另一个实施方式中，处理半导体加工部件的方法包括将部件在升高温度下暴露于卤素气体中，氧化所述部件形成氧化层，并除去该氧化层。 | ||||||
| 116 | 装饰陶瓷部件的方法 | CN200710091556.6 | 2007-03-27 | CN101045645A | 2007-10-03 | F·贝松; S·布卡尔 |
| 本发明提出了一种对由金属氧化物类型的陶瓷材料制成的部件进行局部着色的方法，该方法主要包括以下步骤：－设置所述部件的支承件和一激光器，该支承件和激光器能够沿XY平面彼此相对地移动，－使用包含选自氮和碳中的一种元素的气体对所述部件进行等离子处理，以便将金属氧化物的表面层转变为选自金属氮化物和金属碳化物的基本按化学计量组成的陶瓷，－使用激光束局部照射所述部件以便提供足够的能量，以通过改变所述表面层的化学计量关系而引起局部变色；以及－使用所述激光束扫描所述部件的表面以形成确定的图案。 | ||||||
| 117 | 制造缎面光表面的方法 | CN200710089705.5 | 2007-03-27 | CN101045644A | 2007-10-03 | F·贝森; S·鲍查德 |
| 本发明涉及一种在零件上制造缎面光表面的方法，所述零件包括至少一个被抛光的表面，其由维氏硬度大于1000HV的材料制成，所述方法主要包括以下步骤：取该零件的支架和脉冲激光器，其能够彼此相对地在XY平面内相对运动；使所述被抛光的表面局部暴露于激光器脉冲，使用足够的能量以引起被抛光的表面局部熔融，使得形成微坑；重复该激光器脉冲，同时使该物件相对于该激光器相对运动，从而示踪在被抛光的表面上的微槽，其是通过校准若干相继部分重叠的微槽形成的，该微槽基本上彼此平行且等距，并且共同限定了该缎面光表面。 | ||||||
| 118 | 耐火材料及其应用和处理耐火材料的方法 | CN200580009997.6 | 2005-03-26 | CN1938242A | 2007-03-28 | A·维茨曼; U·特林克斯; R·阿特曼 |
| 本发明提出一种用于处理由耐火粘土、轻质耐火砖、硅线石砖、锆砖和含锆砖以及含Al2O3、SiO2、ZrO2和/或MgO或CrO成分的熔体浇铸砖制成的耐火材料的方法，以使其耐腐蚀，从而能较长时间耐受与玻璃熔体的接触。所述表面用激光辐射处理。形成厚度为100－1000μm的玻璃状表面层。 | ||||||
| 119 | 聚合物表面的改性方法及具有改性表面的聚合物 | CN96193367.4 | 1996-02-29 | CN1107124C | 2003-04-30 | 高锡勤; 丁炯镇; 宋锡均; 崔源国; 尹荣洙; 赵俊植 |
| 本发明涉及使聚合物表面改性的方法，它包括在真空条件下将带有能量的离子颗粒从预定的照射距离照射在所述表面上，同时将反应性气体吹在所述表面上，从而减小湿润角或增加该表面的粘附强度，并涉及具有以这种方法改性了表面的聚合物。 | ||||||
| 120 | 用可光聚合糊状物烧结陶瓷厚膜电路的方法及由此得到的产品 | CN91109870.4 | 1991-09-24 | CN1062445A | 1992-07-01 | S·S·坦汉卡; M·J·基施纳; M·马尔齐; R·J·沃尔夫 |
| 一种陶瓷制品的热处理方法，该制品上具有导电糊剂的导电金属图，该糊剂含有可光成象的粘结剂，该方法包括在促使初始粘结剂烧尽的条件下加热，然后烧结该导体组合物以生成最终的陶瓷制品。本发明特征在于至少在烧结步骤，最好同时在粘结剂烧尽步骤和烧结步骤的气体气氛中存在约0.25—2％(体积)含量的水分。还可选择性地含有至多约10ppm，最好约2—3ppmH2，在另一个实施方案中，主要气体为N2。用该气氛热处理的导电陶瓷制品同时具有多种改进的性能，包括合格的金属图粘结性及其与陶瓷衬底的粘结性，还具有改进的导电性和介电性能。 | ||||||
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