首页 / 国际专利分类库 / 作业;运输 / 磨削;抛光 / 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺 / 使用磨削或抛光带的机床或装置 / .用于磨削平面 / ..包括在有限接触面积上使砂带压到工件上的部件,如滑越全部被磨面积的导向件(B24B 21/12优先)
序号 专利名 申请号 申请日 公开(公告)号 公开(公告)日 发明人
1 一种用于散热片加工的可移式三拉丝 CN201710769427.1 2017-08-31 CN107378702A 2017-11-24 陶振宇
发明公开了一种用于散热片加工的可移式三拉丝机,涉及散热器生产加工的技术领域;所述机架一侧依次设有摇把和控制面板;机罩设在所述机架上方,内部设有砂纸带,所述砂纸带依次绕过第一转筒、第二转筒和第三转筒;所述机罩两端均设有碎料出口;所述手压板设在机罩下方开口处,且位于工件正上方;所述机架底部设有一组滑轮,所述机罩底部设有与外部显示器相连的视觉传感器;所述控制面板、手压板以及工作台的表面均涂覆有自发光层,所述自发光层由长余辉发光材料制成;本发明拉丝机操作简单,拉丝精度和拉丝效率都得到了极大提高,适用范围广,安全性好,搬运及维修保养方便快捷,保证了拉丝工作长时间高效稳定地进行。
2 滤色片的突起缺陷高度测量仪器以及修复装置 CN201180035424.6 2011-06-17 CN103003659B 2016-06-29 大渊一人; 小桧山真广
发明涉及一种滤色片的突起缺陷高度测量仪器以及修复装置。具体地,对于在着色层的边界部分具有将相邻的着色层的端缘部分相互层叠的隔壁等的突起状构造物的滤色片,可以通过触头的扫描,来对超越突起状构造物高度的突起缺陷进行高精度地测量。因此,将触头(304a)、(504a)的棱线(304b)、(504b)设定成相对于扫描方向呈45度交叉的方向,且将棱线(304b)、(504b)的长度设定成棱线(304b)、(504b)同时搁于在扫描方向上相间隔的两个隔壁(105)(突起状构造物)上的长度(L)。由此,触头(304a)、(504a)在扫描中不会落入隔壁(105)之间的着色层(101)~(103)上,一边与隔壁(105)的顶点接触一边扫描,将隔壁(105)的顶点作为基准高度,对超过该基准高度(H2)的高度突起缺陷(FA)进行测量。
3 一种地板加工用带式磨砂机 CN201510856617.8 2015-11-30 CN105382661A 2016-03-09 陈永林
发明公开了一种地板加工用带式磨砂机,包括机架,所述机架的两端顶面分别固定有两个竖直板,传动辊的两端铰接在两个对应的竖直板上,两个传动辊之间的机架的顶面上固定有两个支撑板,支撑板靠近对应的传动辊,两个支撑板之间的机架的顶面的两侧处分别固定有两个无杆移动气缸,每一侧的两个无杆移动气缸的滑动相对设置,两个滑动块压靠在机架的顶面上,所述待加工木板放置在机架的顶面上,待加工木板的四个插套在对应的四个滑动块上具有的插槽中,插槽的顶面具有压紧机构,压紧机构的压块压靠在待加工木板的顶面上,它可以自动夹持并移动待加工木板并对木板进行打磨,其效率高,大大降低人工成本。
4 一种砂带打磨机上的砂带支撑结构 CN201410154277.X 2014-04-17 CN103894909A 2014-07-02 陈启岳
发明提供了一种砂带打磨机上的砂带支撑结构,属于机械技术领域。它解决了现有的砂带打磨机上砂带内侧空间少、影响工件正常打磨的问题。本砂带打磨机上的砂带支撑结构,设置于砂带打磨机的机架上并位于砂带内侧,该砂带支撑结构包括铰接于机架一侧顶部且靠近砂带内侧处的撑板以及设于机架一侧顶部的驱动件,撑板与砂带内侧相正对,驱动件与撑板相联且在驱动件的驱动下撑板能够绕着铰接点转动并顶靠在砂带的内侧。本砂带打磨机上的砂带支撑结构具有机架空间占用少、不影响工件打磨、工件表面打磨精度统一等优点。
5 一种自动化打磨设备 CN201310427154.4 2013-09-18 CN103495921A 2014-01-08 徐成炳; 胡济凡
发明公开了一种自动化打磨设备,包括工作台、设置在工作台上的运输带和至少一个设置在运输带上方的打磨机构,其中,所述打磨机构包括分别设置在运输带两侧的主动轮和从动轮、与主动轮连接并为主动轮提供动的打磨电机和卷绕在主动轮和从动轮表面的砂带;所述砂带卷绕连接主动轮和从动轮,并与被打磨材料接触形成打磨平面。本发明打磨效率高,打磨效果好,精准度高,特别适合对不同材料进行打磨加工。
6 滤色片的突起缺陷高度测量仪器以及修复装置 CN201180035424.6 2011-06-17 CN103003659A 2013-03-27 大渊一人; 小桧山真广
发明涉及一种滤色片的突起缺陷高度测量仪器以及修复装置。具体地,对于在着色层的边界部分具有将相邻的着色层的端缘部分相互层叠的隔壁等的突起状构造物的滤色片,可以通过触头的扫描,来对超越突起状构造物高度的突起缺陷进行高精度地测量。因此,将触头(304a)、(504a)的棱线(304b)、(504b)设定成相对于扫描方向呈45度交叉的方向,且将棱线(304b)、(504b)的长度设定成棱线(304b)、(504b)同时搁于在扫描方向上相间隔的两个隔壁(105)(突起状构造物)上的长度(L)。由此,触头(304a)、(504a)在扫描中不会落入隔壁(105)之间的着色层(101)~(103)上,一边与隔壁(105)的顶点接触一边扫描,将隔壁(105)的顶点作为基准高度,对超过该基准高度(H2)的高度突起缺陷(FA)进行测量。
7 抛光 CN200710163299.2 2007-02-15 CN101244535A 2008-08-20 本杰明·A·邦纳; 彼得·麦克雷诺; 格雷戈里·E·门克; 格沛拉克里西那·B·普拉布; 阿南德·N·莱尔; 加伦·C·勒温; 史蒂文·M·苏尼加; 埃里克·S·朗登; 亨利·H·奥
发明提供一种抛光装置。该抛光装置包括:可旋转压盘;驱动机构,用于以线状方向逐渐推进具有抛光表面的抛光片通过所述压盘;在所述压盘上的子垫,用于支撑所述抛光片,所述子垫具有形成于其中的凹槽;以及真空源,其与所述子垫的凹槽相连接并且配置用于提供足以将部分所述抛光片拉入所述子垫的凹槽中的真空,以在所述抛光表面形成凹槽。
8 抛光表面 CN200710085240.6 2007-02-15 CN101058169A 2007-10-24 本杰明·A·邦纳; 彼得·麦克雷诺; 格雷戈里·E·门克; 格沛拉克里西那·B·普拉布; 阿南德·N·莱尔; 加伦·C·勒温; 史蒂文·M·苏尼加; 埃里克·S·朗登; 亨利·H·奥
发明提供一种抛光装置。该抛光装置包括:可旋转压盘;驱动机构,用于以线性方向逐渐推进具有抛光表面的抛光片通过所述压盘;在所述压盘上的子垫,用于支撑所述抛光片,所述子垫具有形成于其中的凹槽;以及真空源,其与所述子垫的凹槽相连接并且配置用于提供足以将部分所述抛光片拉入所述子垫的凹槽中的真空,以在所述抛光表面形成凹槽。
9 使用皮带式抛光垫抛光平面的设备和方法 CN98106465.5 1998-02-20 CN1083754C 2002-05-01 艾伯特·胡; 伯福德·J·弗曼; 穆罕穆德·阿布沙班
发明涉及晶片、平板显示器(FPP)和硬驱动盘(HDD)的化学机械平面化(CMP)的设备和方法。优选设备包括相对于地面以垂直方向空间定位的环形皮带。抛光垫粘到该皮带的外表面上。皮带的内表面具有多个晶片支架电机用于驱动环形皮带在两皮带轮上运转。调节装置用于调节皮带的张位置。该新型CMP设备能多方位地进行安装,从而节省制造空间。
10 一种散热片加工用带检测功能三拉丝机的工作方法 CN201710769299.0 2017-08-31 CN107378701A 2017-11-24 陶振宇
发明公开了一种散热片加工用带检测功能三拉丝机的工作方法,涉及散热器生产加工的技术领域;工作人员根据工件的材质和尺寸在控制面板上设定相应的转筒速度,第一转筒、第二转筒以及第三转筒在电机驱动下带动砂纸带运行起来;工作人员通过手动转动摇把,或者通过控制面板电动调节工作台高度至适当位置;工作人员通过按压手压板进行工件表面的拉丝工作,通过检测机构实时监测拉丝机周围的环境,当发生火灾等意外情况时其自动报警器立即响应;另外通过可旋转的清洗机构及时对工作台表面进行冲洗;本发明工作方法人员操作简单,拉丝精度和拉丝效率都得到了极大提高,适用范围广,安全性好,使用寿命长,保证了拉丝工作长时间高质量地进行。
11 一种散热片加工用带排功能三拉丝机的工作方法 CN201710769235.0 2017-08-31 CN107378700A 2017-11-24 陶振宇
发明公开了一种散热片加工用带排功能三拉丝机的工作方法,涉及散热器生产加工的技术领域;工作人员根据工件的材质和尺寸在控制面板上设定相应的转筒速度,第一转筒、第二转筒以及第三转筒在电机驱动下带动砂纸带运行起来;工作人员通过手动转动摇把,或者通过控制面板电动调节工作台高度至适当位置;工作人员通过按压手压板进行工件表面的拉丝工作;借助风扇降低了工作台周围的温度,并且当发生火灾等意外情况时,工作人员通过紧急关闭按钮可以快速切断总电源;本发明工作方法人员操作简单,拉丝精度和拉丝效率都得到了极大提高,适用范围广,安全可靠,具有便捷的冷却降温功能。
12 一种建筑板材表面抛光 CN201610039519.X 2016-01-21 CN105479303A 2016-04-13 华寿庆
一种建筑板材表面抛光机,由主机架输送机和若干个抛光机构、抛光机架、升降机构组成,一个抛光机构、一个抛光机架、一个升降机构组成一套独立的抛光系统;抛光机架与主机架作上下滑动连接,抛光机构装在抛光机架上,在抛光机架下部与主机架之间装有升降机构;抛光机构可以有两种结构形式:一种是抛光机构中的胶辊通过砂带与被加工产品表面线接触的结构,另一种是在胶辊和从动胶辊之间设有方形弹性压件并与被加工产品表面面接触结构;抛光机构的砂带与置放在输送机上面的被加工产品表面接触连接。本表面抛光机能单独快速调节每套抛光系统的上下位移量,能满足生产线的连续生产要求,生产效率高,抛光质量和抛光效果甚好。
13 研磨装置 CN201310239374.4 2013-06-17 CN103317419B 2016-02-10 杨顺
发明公开一种研磨装置,用于面板(300)的研磨,该研磨装置包括:研磨带(210),夹持所述面板(300)的上表面(310)和下表面(320),以同时研磨所述面板(300)的两面;带传动机构(220),将所述研磨带(210)进行传动;带按压机构,用于将所述研磨带(210)按压于所述面板(300)的上表面(310)和下表面(320)。本发明的研磨装置,只使用一根研磨带对面板的上表面和下表面同时进行研磨,减少一次研磨周期耗用的研磨带数量,节约了生产成本,而且一根研磨带同时转动,使得研磨带对面板的上表面和下表面施加均匀的,提高面板的两表面的平整度。
14 基板的背面的研磨方法及基板处理装置 CN201410039682.7 2014-01-27 CN103962941A 2014-08-06 石井游; 伊藤贤也; 中西正行; 户川哲二
一种研磨方法,用基板保持部(17、42)对基板(W)进行保持,一边使基板(W)旋转,一边使研磨件(22、44)与基板(W)的整个背面滑动接触,由此研磨整个背面。背面研磨工序包括:一边用基板保持部(17)对基板(W)的中心侧区域进行保持,一边对背面的外周侧区域进行研磨;一边用第2基板保持部(42)对基板(W)的伞形部进行保持,一边对背面的中心侧区域进行研磨。采用本发明,能以较高的去除率去除附着在晶片等基板整个背面上的杂质。
15 研磨方法 CN201410043731.4 2014-01-29 CN103962918A 2014-08-06 户川哲二; 吉田笃史; 渡边敏史
一种研磨方法,使基板(W)旋转,按压第1研磨件(3A)使其与基板(W)的边缘部接触而对该边缘部进行研磨,按压第2研磨件(3B)使其与边缘部接触而对该边缘部进行研磨,所述第2研磨件在基板(W)的径向配置在第1研磨件(3A)的内侧,第1研磨件(3A)具有比第2研磨件(3B)粗的研磨面。采用本发明,可提高研磨速率,且可在基板的边缘部上形成平滑的垂直面。
16 气动控制打磨机 CN201310622395.4 2013-11-30 CN103659537A 2014-03-26 李胜峰
发明公开了一种气动控制打磨机,包括U型压、气压控制装置、动控制装置、固定架、磨砂带、传送带和感应系统,气压传动装置和动力传动装置分别和感应系统相连组成控制系统,控制系统设置在固定架的下方,气压控制装置和U型压块相连,磨砂带置于U型压块的正下方,磨砂带下方还设有传送带,传送带位于磨砂带的平面并且垂直于磨砂带。本发明采用控制系统对磨砂带和传送带进行控制,自动打磨木料,整个打磨过程无需劳烦人力,可用于批量打磨加工,提高了生产效率,节约了人工劳作,减少工人的疲劳度,节约了人工成本。
17 研磨装置 CN201310239374.4 2013-06-17 CN103317419A 2013-09-25 杨顺
发明公开一种研磨装置,用于面板(300)的研磨,该研磨装置包括:研磨带(210),夹持所述面板(300)的上表面(310)和下表面(320),以同时研磨所述面板(300)的两面;带传动机构(220),将所述研磨带(210)进行传动;带按压机构,用于将所述研磨带(210)按压于所述面板(300)的上表面(310)和下表面(320)。本发明的研磨装置,只使用一根研磨带对面板的上表面和下表面同时进行研磨,减少一次研磨周期耗用的研磨带数量,节约了生产成本,而且一根研磨带同时转动,使得研磨带对面板的上表面和下表面施加均匀的,提高面板的两表面的平整度。
18 半导体装置的制造方法以及研磨装置 CN02153589.2 2002-11-26 CN1421903A 2003-06-04 中村賢朗; 宫下直人; 依田孝; 奥村勝弥
半导体装置的制造时,在基片的表面上形成元件的一部分,利用研磨体研磨上述基片的至少周边部分,该研磨体被从上述周边部分向上述基片面内方向撑开设置,使得研磨面与上述周边部分的被研磨表面滑动接触
19 研磨装置及研磨方法 CN99802406.6 1999-03-30 CN1289281A 2001-03-28 大桥勇志; 桐山和夫
研磨装置,它通过由推压构件从背后推压砂带而将其推压在工件上的同时使工件旋转来研磨工件,其中,为了提高推压构件对于工件的追随性,设有摇动型保持装置260,该摇动型保持装置260可绕与工件10的旋转轴线垂直地立体交叉的摇动轴线LS相对保持推压构件96的夹头摇动地保持推压构件。在研磨中,通过使推压构件96相对夹头72摇动而使推压构件96追随工件10。
20 使用皮带式抛光垫抛光平面的设备和方法 CN98106465.5 1998-02-20 CN1195595A 1998-10-14 艾伯特·胡; 伯福德·J·弗曼; 穆罕穆德·阿布沙班
发明涉及晶片、平板显示器(FPP)和硬驱动盘(HDD)的化学机械平面化(CMP)的设备和方法。优选设备包括相对于地面以垂直方向空间定位的环形皮带。抛光垫粘到该皮带的外表面上。皮带的内表面具有多个晶片支架电机用于驱动环形皮带在两皮带轮上运转。调节装置用于调节皮带的张位置。该新型CMP设备能多方位地进行安装,从而节省制造空间。
QQ群二维码
意见反馈