| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 201 | ガスパージユニット、ロードポート装置およびパージ対象容器の設置台 | JP2015108741 | 2015-05-28 | JP2016225410A | 2016-12-28 | 佐々木 睦夫; 江本 淳; 五十嵐 宏 |
| 【課題】流通口とノズル口との間のシール特性に優れ、パーティクルなどを混入させることなく、パージ対象容器の内部を清浄化ガスで満たすことが可能なガスパージユニット、ロードポート装置およびパージ対象容器の設置台を提供すること。 【解決手段】ガスパージユニットは、清浄化ガスを吹き出すノズル口26を持つ給気ノズル28と、ノズル28の筒状突起部28bの周囲を囲むようにリング状に配置され、給気ポート5に対して着脱自在に接触可能な接触部34が先端部に形成してある揺動体31と、揺動体31の後端とノズル28の基部28aとの間で筒状突起部28bの長手方向に沿って圧縮弾性変形可能に保持されるリング状のOリング35と、を有する。接触部34は、弾力性部材で構成してある。 【選択図】図3A |
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| 202 | 医療用製品、歯科用製品、研究室用製品、および／または製薬用製品を洗浄、消毒、および／または滅菌するためのシステム | JP2016546147 | 2013-10-03 | JP2016539753A | 2016-12-22 | アンナ・ペッテション; ペル・ノーリン |
| 本開示は、医療用製品、歯科用製品、研究室用製品、および/または製薬用製品を洗浄、消毒、および/または滅菌するためのデバイス(3)と、デバイス(3)に供給される前または供給時にデバイスに専用の媒体のパラメータを示す値を決定するように構成されたパラメータ決定ユニット(13、23)と、を備えるシステム(1)に関する。本開示はまた、媒体のシステム(1)への供給のためのプロセスに関する。 | ||||||
| 203 | 基板洗浄および乾燥のための方法および装置 | JP2016502730 | 2014-03-14 | JP2016513888A | 2016-05-16 | フォンセカ，カーロス，エー; カーカシ，マイケル，エー |
| 半導体製造における洗浄および乾燥プロセスを最適化するための方法および装置が開示される。前記最適化は、プロセシングスループットを最大化する一方で、低い欠陥数および高いデバイス生産量を維持することを試み、シミュレーションおよび実験データを使用して、前記洗浄および乾燥プロセスについての最適なプロセスパラメータを設定する。また、洗浄液およびパージガスノズルの動きの改善された方法が開示される。 | ||||||
| 204 | 処理チャンバ洗浄ガスの乱流を誘発するための方法および装置 | JP2013515416 | 2011-06-13 | JP5813104B2 | 2015-11-17 | チュン, ファー; トン, シーツー; マウン, キャウィン; 塙 広二; カン, サンウォン; コーク, デーヴィッド エイチ.; オルガド, ドナルド ジェー.ケー.; ブール, デーヴィッド; スー, ウェイ−ヤン; タム, アレキサンダー; チャン, アンチョン; アチャリア, スメダ |
| 205 | 基板処理装置及び方法 | JP2013115322 | 2013-05-31 | JP5665919B2 | 2015-02-04 | チョウ，ジョンヒ; ソン チェ，ヒ |
| 206 | 粒状材料の円筒形脱塵装置 | JP2010059097 | 2010-03-16 | JP5618349B2 | 2014-11-05 | |
| 207 | Cleaning compositions and methods | JP2014051340 | 2014-03-14 | JP2014181405A | 2014-09-29 | HULSE RYAN; KANE COOK |
| PROBLEM TO BE SOLVED: To provide cleaning compositions that are effective to remove residue from certain parts formed from metals and metal alloys without negatively affecting one or more of the important properties of the metal, especially for example, without negatively affecting the brittleness of the metal, with regard to metal components, especially metal components used for high-stress applications for aircrafts and the like; and to provide cleaning methods.SOLUTION: A composition comprises at least about 50% by weight of a compound shown by the following formula, preferably l-chloro-3,3,3-trifluoropropene (HCFO-1233zd). The composition is brought into contact with a cleaning composition containing at least one of ethanol and methanol as a solvent. (R1 to R4 are each independently selected from H, F, Cl, and substituted or unsubstituted C1 alkyl.) | ||||||
| 208 | Method and system for supplying cleaning gas into the process chamber | JP2011514671 | 2009-05-28 | JP5538376B2 | 2014-07-02 | ランプラカッシュ サンカラクリシュナン，; ボワ， デール デュ; ガネシュ バラサブラマニアン，; カーティック ジャナキラマン，; フアン カルロス ロチャ−アルバレス，; トーマス ノワック，; ヴィスウェスウォレン シヴァラマクリシュナン，; ハイチェム マサード， |
| A method and apparatus for cleaning a process chamber are provided. In one embodiment, a process chamber is provided that includes a remote plasma source and a process chamber having at least two processing regions. Each processing region includes a substrate support assembly disposed in the processing region, a gas distribution system configured to provide gas into the processing region above the substrate support assembly, and a gas passage configured to provide gas into the processing region below the substrate support assembly. A first gas conduit is configured to flow a cleaning agent from the remote plasma source through the gas distribution assembly in each processing region while a second gas conduit is configured to divert a portion of the cleaning agent from the first gas conduit to the gas passage of each processing region. | ||||||
| 209 | Supercritical processing apparatus and supercritical processing method | JP2010049567 | 2010-03-05 | JP5506461B2 | 2014-05-28 | 孝之 戸島; 光秋 岩下; 一行 光岡; 秀一 岡本; 英夫 生津 |
| 210 | Static elimination and dust collection device | JP2013161001 | 2013-08-02 | JP2014078491A | 2014-05-01 | TAKAYANAGI MAKOTO |
| PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a static elimination and dust collection device which performs static elimination and removes foreign matter.SOLUTION: A static elimination and dust collection device includes a large container and a small container arranged therein. The large container has a lower end part and an upper end part made open so as to suck up and discharge foreign matter. A cyclone and a tornado are generated in the small container, which is in a columnar shape or a truncated conic shape. Further, the static elimination and dust collection device includes an ion generator and a dry compressed air jet port formed in the small container so as to jet compressed air for generating the cyclone and tornado in the small container. | ||||||
| 211 | Substrate processing apparatus | JP2007199027 | 2007-07-31 | JP5248058B2 | 2013-07-31 | 雅洋 基村 |
| 212 | Method and apparatus for cleaning the optical surfaces of the plasma-based radiation sources | JP2008147928 | 2008-06-05 | JP5175626B2 | 2013-04-03 | シュリーヴァー グイード |
| 213 | Suppressing device scale formation in wet flue gas desulfurization system | JP2008066435 | 2008-03-14 | JP4787283B2 | 2011-10-05 | ジェー ラスロ デニス |
| A system & Method for Preventing Scaling in a Flue Gas Desulphurization System is provided. The system includes an injector configured to direct a barrier fluid toward a surface that is otherwise susceptible to scaling when it comes in contact with super-saturated alkaline solutions such as slurry used to capture SO2 from a flue gas stream. | ||||||
| 214 | Heating resistor type fluid flow measuring device and the internal combustion engine of a control device provided with it | JP2003331552 | 2003-09-24 | JP4357250B2 | 2009-11-04 | 信弥 五十嵐; 喜一 大▲高▼; 康修 小嶋; 千尋 小林; 毅 森野; 泰司 西 |
| 215 | A method of cleaning the cavity of the gas turbine component | JP2008531524 | 2006-09-16 | JP2009509082A | 2009-03-05 | ティーマン・カール−ゲオルク |
| 本発明は、ガスタービンコンポーネント、特にガスタービンブレードの空洞を洗浄するための方法に関し、この目的のため、エッチング洗浄溶剤及び続くフラッシング溶剤が、ガスタービンコンポーネントの洗浄対象の前記又は各空洞を通して特に繰り返し導かれる。 本発明に従えば、洗浄溶剤及びフラッシング溶剤による前記又は各空洞の処理前に、ガスタービンコンポーネントの前記又は各空洞は、不活性ガスで満たされ、前記又は各空洞において不活性ガス雰囲気が維持された状態のガスタービンコンポーネントは、次に、好適には反復的な熱処理を施され、コンポーネントは、この目的のため、第１の期間中加熱され、第２の期間中この温度に保持され、次に、第３の期間中冷却され、次に、洗浄溶剤及びフラッシング溶剤が、前記又は各空洞を通して導かれる。 | ||||||
| 216 | Substrate processing apparatus | JP2007199027 | 2007-07-31 | JP2008109086A | 2008-05-08 | KIMURA MASAHIRO |
| <P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent poor drying caused by complicated structures (trenches and holes) formed on the surfaces of a substrate. <P>SOLUTION: After the completion of a cleaning process by deionized water on a substrate 9 in a processing bath 31, alcohol is supplied to the processing bath 31 by an alcohol supply part 37 to replace processing liquid 91 in first processing bath 31 by alcohol. Then, a cleaning process by a liquid of fluorinated solvent is executed on the substrate 9 in a processing bath 41 in the chamber 40. After that, the substrate 9 are lifted out of the processing bath 41 to be subjected to a drying process by gas of fluorinated solvent in the chamber 40. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT | ||||||
| 217 | Method and apparatus for removing liquid from the surface of the strip | JP2007505418 | 2005-03-11 | JP2007531628A | 2007-11-08 | ギュンター クーン，; フランク ゴルゲルス，; ゲルト ミュッケ， |
| ストリップの表面から液体を除去する方法であって、液体が振動するように励起されることを特徴とする、方法が提供される。 本発明は、ストリップの表面から液体を除去するという問題の根底は接着力にあり、これらの接着力は液体が振動するように液体を励起することによって克服されるという認識に基づく。 その振動は、液体が自らストリップの表面から分離するようにさせ、そうすると、たとえば低圧による吸引、ストリッパーによる吹き込みまたはストリッピングによって、液体は容易に運び去られ得る。 | ||||||
| 218 | Dry cleaning device and dry cleaning method | JP2006053852 | 2006-02-28 | JP2007029945A | 2007-02-08 | OKAMOTO YOICHI; FUCHIGAMI AKIHIRO; MUTO TOSHIYUKI; HIRASAWA TOMOYASU; SATO TATSUYA |
| <P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dry cleaning device capable of increasing cleaning quality and cleaning efficiency by raising the moving speed and cleanliness of a dry cleaning medium and performing cleaning without scratching parts and leaving incompletely cleaned areas even if the parts are of sophisticated shapes. <P>SOLUTION: The dry cleaning device comprising the steps of forming space into which the cleaning medium M that removes adherent materials from a cleaning target W to which the adherent materials adhere and the cleaning target W, introducing a gas into an inside of the space through an inflow inlet 4a, having a cleaning tank 10 that discharges the gas from the inside through a sucking inlet 3a and stream formation means 3, 4 that form a stream by the gas in the tank 10, and removing the adherent materials by allowing the cleaning medium M to fly by the stream to impact the cleaning target W, the device is configured by providing a separating means 2 having an opening that allows the gas and the adherent materials to be penetrated and does not allow the cleaning medium M to be penetrated between the tank 10 and the means 3, 4 to allow the cleaning medium M adhering to the means 2 to fly again. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT | ||||||
| 219 | Processing unit | JP23022197 | 1997-08-12 | JP3425592B2 | 2003-07-14 | 義明 佐々木; 輝雄 浅川 |
| 220 | Method and device for cleaning subject to be cleaned by compressed cleaning fluid | JP2001342412 | 2001-11-07 | JP2002192093A | 2002-07-10 | LOEHR KARSTEN |
| PROBLEM TO BE SOLVED: To easily remove powdery and different impurities from the recessed part, the blind holes or the opened hollow chamber provided in the subject to be cleaned. SOLUTION: This device for cleaning the subject to be cleaned by using a compressed cleaning fluid is constituted so that a cylindered piston unit 22 is arranged, which has a cylindered piston 24 connected to a compressor 14 through a drive and is partitioned into two chambers 28, 30, the first chamber 28 is connected to a pressure reservoir 16 through the first valve 32, the pressure reservoir 16 is connected to the outlet of the compressor 14, and is connected to a pressure vessel 20 through the second valve 18 and the second chamber 30 is connected to the pressure vessel 20 through the third valve 38 and is connected to a separator 42 for separating the impurities through the fourth valve 40. COPYRIGHT: (C)2002,JPO | ||||||
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