子分类：
| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 41 | 高压清洁设备 | CN201080045941.7 | 2010-08-05 | CN102574162A | 2012-07-11 | 迈克尔·博姆; 彼得·普法夫; 维尔纳·施瓦布 |
| 本发明涉及一种高压清洁设备(10)，包括：用于加热可由高压清洁设备(10)排出的液体的可以加热的换热器(36)；带有联接在其上的流动通道(44)的风机(40)，以便给换热器(36)输送燃烧空气；以及用于调整可以输送给换热器(36)的燃烧空气数量的调整机构(72)，包括可以在流动通道(44)内定位的和可以相对该流动通道运动的通道缩窄区段(118)用于改变流动通道(44)的自由横截面面积。为了这样地改进依据分类的高压清洁设备，即，可以输送给换热器的燃烧空气数量可以更好地调整，提出如下，即，通道缩窄区段(118)能相对流动通道(44)移动地构造。 | ||||||
| 42 | 采用蒸汽注入的化学清洗方法和系统 | CN200980153710.5 | 2009-12-03 | CN102272521A | 2011-12-07 | 小罗伯特·D·瓦里恩; M·J·利特尔 |
| 本发明公开了一种用于清洗热交换器和类似容器的方法和装置，其通过引入化学清洗溶液和/或溶剂并且同时通过将蒸汽直接注入到清洗溶液中以保持目标温度范围而进行清洗。该蒸汽可被直接注入到热交换器，或者被注入到用于使清洗溶液再循环的临时侧蒸汽回路，或者与注入到热交换器的流体相混合。所公开的方法适于在化学还原条件下从热交换器中移除金属氧化物，或者在化学氧化条件下移除诸如铜的金属物。为了通过直接蒸汽注入而进一步提高清洗溶剂的热传递效率，可通过气体喷射或者通过在同时清洗多于一个热交换器时在热交换器之间输送液体来增强在热交换器的第二侧上的混合。 | ||||||
| 43 | 清洗方法及其装置 | CN201110035382.8 | 2011-01-31 | CN102194473A | 2011-09-21 | 宫岛俊英; 布赖恩·拉特雷 |
| 本发明提供清洗方法及清洗装置。在清洗盘等的基板的装置中，为了减少清洗所需的纯水量、且将装置小型化而将装置全体的地板面积变小，本发明的清洗装置具有：在对基板的两面供给纯水的同时使刷子旋转，从而将基板的两面摩擦而清洗的擦洗清洗单元；将用擦洗清洗单元进行了清洗处理的基板的表面用纯水清洗的冲洗单元；以及使利用冲洗单元进行了清洗处理的基板的表面干燥的干燥单元，擦洗清洗单元具有对供给到上述基板的两面的纯水施加超声波的超声波施加机构，并且在对基板的两面供给用该超声波施加机构施加了超声波的纯水的同时使刷子旋转，从而将基板的两面摩擦而清洗。 | ||||||
| 44 | 用于燃气轮机压缩机清洗的吹洗排放阀及相关方法 | CN200810161862.7 | 2008-10-09 | CN101408256B | 2010-12-15 | 罗德尼·W·科勒; 托马斯·瓦格内 |
| 一种含有接入流体管线的阀芯的吹洗排放阀，其包括控制阀和联接到控制阀的致动器以调节流体流。在清洗操作期间，流体在阀芯的供应端和输送端之间流动，以及在吹洗操作期间，控制阀使进入供应端的流体从输送端转向排放支管。清洗系统包括联接到清洗输送系统的输入部的流体供应装置和联接到清洗输送系统的输出部的输送管线。吹洗排放阀可以接入输送管线，从而在清洗操作期间使流体到达清洗装置，并在吹洗操作期间防止流体到达清洗装置。冲洗循环传感器装置可以基于从所清洗的设备流出的流体的电导率向操作员显示是否清洗操作已结束。 | ||||||
| 45 | 循环成核法 | CN200880122355.0 | 2008-10-27 | CN101911261A | 2010-12-08 | 唐纳德·格雷; 里克·普拉维达尔; 夏洛特·弗雷德里克 |
| 本发明公开了用于各种清洗和表面处理应用的使蒸汽泡成核，生长，分离，内爆以及崩溃的表面处理。该方法可以通过，除了真空/压力以外，交替改变温度和化学以在流体中产生脉冲和持续的作用而完成。一方面，热循环成核法使用控制加热和冷却过程的温度循环，并且使用或不用真空循环来清洗精细表面。另一方面，化学循环成核使用化学蒸汽/流体的变化浓度的流体混合物来产生、生长蒸汽泡以通过崩溃或内爆蒸汽泡来处理表面。不同的化学蒸汽或液体可以直接在表面上形成化学混合物来抑制或消除粒子的再沉淀，并且可以被设计来促进表面污染物快速的化学溶解和分解。 | ||||||
| 46 | 防止过早干燥的装置、系统和方法 | CN200880016041.2 | 2008-05-07 | CN101808754A | 2010-08-18 | 尹秀敏; 马克·威尔考克森 |
| 一种用于防止制造操作之间基片表面过早干燥的装置、系统和方法，包括接收待清洁的基片，对该基片表面执行使用多种制造化学物质的多个清洁操作以从该基片表面除去在一个或多个制造操作过程中留下的污染物和制造化学制品，识别饱和气体化学物质并在过渡区域中施加该识别的饱和气体化学物质从而暴露于该过渡区域中的该饱和气体化学物质的该基片表面保持该湿度，由此防止该基片表面过早干燥。该饱和气体化学物质在两个连续的湿法清洁操作之间施加。 | ||||||
| 47 | 一种用于清洗医院设施和护理设施的物件的设备 | CN200880106902.6 | 2008-09-15 | CN101801547A | 2010-08-11 | P·B·詹森 |
| 一种用于确保对医院设施和护理设施(1)的物件进行定期清洁的控制装置。在从自动清洗机系统(2)中将设施部件送出时将控制装置初始化。或者在已经将该设施部件清洁时通过手动促动来将控制装置初始化。开始计时器过程，并且在预定时间届满之后，在指示面板上指出该设施部件需要再次清洁。在同步的过程中，记录下控制装置(12)的促动次数，并且在促动次数超过预定次数时触发清洁请求的指示。 | ||||||
| 48 | 再生装置以及再生方法 | CN200780048311.3 | 2007-12-27 | CN101600517A | 2009-12-09 | 高本德男 |
| 本发明提供一种再生装置以及再生方法。在清洗等处理中，在使用清洗液的同时，可以对使用过的清洗液进行再生，作为再生清洗液来再次使用。提供一种液体再生装置，其具备：对使用清洗液的处理装置的使用过的清洗液进行回收的回收单元；对回收的使用过的清洗液进行再生的再生单元；向所述处理装置供给所述再生清洗液的供给单元；以及控制所述回收单元、所述再生单元以及所述供给单元的控制单元。为了使所述处理装置和所述再生单元可以同时运转，还可以具备在它们之间供给使用过的清洗液以及所述再生清洗液的连接单元。 | ||||||
| 49 | 工业清洁设备 | CN200780050057.0 | 2007-01-18 | CN101600515A | 2009-12-09 | W·迈斯纳 |
| 本发明涉及一种工业清洁设备(1)，其具有至少一个用于清洁物品的处理室(3)，所述物品被含油的、含脂或其它的加工残留物弄脏并用处理介质处理，所述处理介质为了改善处理结果而需要过程热量以加热洗涤活性的清洁液、冲洗液例如纯水或在气流中用于干燥的空气。所述工业清洁设备构成为，使得它的运行总体上改善经济和生态的平衡。一力－热耦合设备(2)集成到清洁设备的过程热量循环中，使得它的过程热量分量满足设备的过程热量需求并能耦合用于加热处理介质，并且所述力－热耦合设备的电流分量满足电/电子装置的电流需求。 | ||||||
| 50 | 饮料供应机 | CN200610006084.5 | 2006-01-26 | CN100515294C | 2009-07-22 | 福岛直人; 山本广; 石井武 |
| 一种饮料供应机1，将饮料原料从饮料供给喷嘴6、12吐出而供给，具有用于洗净上述饮料供给喷嘴的洗净装置30，该洗净装置30包括将高温蒸汽喷射至上述饮料供给喷嘴6、12的蒸汽喷射过程、将水或温水喷射至上述饮料供给喷嘴6、12的喷水过程、以及使上述饮料供给喷嘴表面干燥的干燥过程，并实施洗净运转。 | ||||||
| 51 | 用于燃气轮机压缩机清洗的吹洗排放阀及相关方法 | CN200810161862.7 | 2008-10-09 | CN101408256A | 2009-04-15 | 罗德尼·W·科勒; 托马斯·瓦格内 |
| 一种含有接入流体管线的阀芯的吹洗排放阀，其包括控制阀和联接到控制阀的致动器以调节流体流。在清洗操作期间，流体在阀芯的供应端和输送端之间流动，以及在吹洗操作期间，控制阀使进入供应端的流体从输送端转向排放支管。清洗系统包括联接到清洗输送系统的输入部的流体供应装置和联接到清洗输送系统的输出部的输送管线。吹洗排放阀可以接入输送管线，从而在清洗操作期间使流体到达清洗装置，并在吹洗操作期间防止流体到达清洗装置。冲洗循环传感器装置可以基于从所清洗的设备流出的流体的电导率向操作员显示是否清洗操作已结束。 | ||||||
| 52 | 基板洗净装置及基板洗净方法、和基板洗净程序及程序记录媒体 | CN200680037320.8 | 2006-09-20 | CN101283440A | 2008-10-08 | 泷本雄二 |
| 本发明的基板洗净装置具备多个洗净装置；和根据预定的驱动方案驱动控制各洗净装置的控制装置。控制装置对洗净装置设定优先顺序，根据上位洗净装置的驱动方案与下位洗净装置的驱动方案，计算出能够在洗净装置之间产生干扰的时间，并设定为计算出的待机时间。由上位洗净装置从规定的洗净开始位置开始基板的洗净，使下位洗净装置待机在规定的待机位置。在从上位洗净装置的洗净开始时起算经过了待机时间时或之后，使下位洗净装置从待机位置开始移动，由下位洗净装置开始基板的洗净。 | ||||||
| 53 | 自给式去活性化装置 | CN200680029554.8 | 2006-07-13 | CN101257826A | 2008-09-03 | 吉罗德·E·麦克当诺; 撒迪厄斯·J·米尔尼克; 法兰西斯·J·则琳娜; 迈克·A·森坦尼 |
| 本发明公开一种行动去活性化装置，用于去活性化特定区域内的污染物，此装置包括蒸气式去活性化剂的来源、气体控制系统、支撑部件、驱动装置、控制系统，以及电力系统。其气体控制系统分配蒸气式去活性化剂至特定区域内。支撑部件可于特定区域内移动并支撑其蒸气式去活性化剂的来源与气体控制系统。前述支撑部件能通过驱动装置推动。程序化其控制系统，以控制气体控制系统与驱动装置的操作。电力系统供应电力至前述行动去活性化装置。 | ||||||
| 54 | 内窥镜清洗消毒装置及该装置的药剂供给控制方法 | CN200710140686.4 | 2007-10-09 | CN101204317A | 2008-06-25 | 河内真一郎; 铃木英理; 铃木信太郎 |
| 本发明提供在补充用于对内窥镜进行清洗、消毒等的药剂时防止药剂飞散，输送准确供给量药剂的内窥镜清洗消毒装置及该内窥镜清洗消毒装置的药剂供给控制方法。本发明的内窥镜清洗消毒装置具有用于清洗消毒内窥镜的清洗槽、用于贮存对内窥镜进行清洗消毒用的药剂的容器、对容器内加压的加压部件、使容器与加压部件相连通的气体供给通路、使清洗槽与容器相连通的药剂供给通路、用于向大气释放容器内的压力的排气部件、检测已被供给到清洗槽中的药剂的液量的检测部件、基于检测部件的检测信号驱动控制加压部件及排气部件的控制部件。控制部件在从检测部件输入了被规定的规定量药剂的检测信号时驱动排气部件，将容器内的压力控制为与大气压平衡的状态。 | ||||||
| 55 | 防止流体产品配送机器中的流体产品干涸的设备和方法 | CN200680011053.7 | 2006-04-04 | CN101166585A | 2008-04-23 | 埃马努埃莱·莫尔塞利 |
| 本发明公开了用于防止在配送流体产品的机器的输送头(12)中的所述流体产品干涸的设备(10)和方法，其中，所述输送头(12)设置有多个输送喷嘴(11)。所述设备(10)包括：产生调节流的第一元件(25)；以及第二元件(15，20，21)，所述第二元件(15，20，21)将所述调节流朝着所述输送喷嘴(11)下方的空间(19)输送并且能够在所述空间(19)中产生与在使用中的所述配送机器所处的环境的气氛不同的气氛。所述输送喷嘴被分为至少两组，并且所述空间(19)被分为至少两个不同的调节区(19a，19b，19c，19d)，所述调节区设置地与所述输送喷嘴(11)的所述组相对应。根据由所述输送喷嘴(11)的相应组输送的流体产品的类型，在所述调节区(19a，19b，19c，19d)中产生不同的气氛。 | ||||||
| 56 | 用于空化阈值特征表示和控制的方法和设备 | CN200580031073.6 | 2005-09-16 | CN101019245A | 2007-08-15 | 马克·J.·贝克; 雷蒙德·Y.·利拉德; 埃里克·G.·利布舍尔; 弗兰克·M.·海丁雅克 |
| 一种用于表示空化的特征的设备和方法，所述空化发生在暴露到声能的流体中。所述设备包括：容器(14)，用于容纳流体；声能产生装置(118)，用于产生声能，声能产生装置(118)被定位成当流体容纳在容器(14)中时将声能传递到流体中；和空化检测装置(22)，用于检测容纳在容器(14)中的流体中的空化。在一个优选实施例中，空化检测装置(22)包括光检测装置，例如光电倍增管，其检测来自流体的声致发光。所述方法包括下列步骤：使一定量的工艺流体暴露到特定能级的声能；测量在一定时间段上来自流体的光子输出；并且当光子输出偏离适合的水平时，启动补偿步骤以使光子输出返回到大约适合的水平。 | ||||||
| 57 | 蒸汽清洗装置的停汽机构 | CN200480040327.6 | 2004-12-09 | CN1902427A | 2007-01-24 | 查德·A·里斯 |
| 一种便携式蒸汽清洗装置的停汽安全机构，该停汽安全机构即使在清洗装置触发器处于锁定的打开位置的情况下，也能在连接和分开附件时防止清洗装置喷嘴处排放蒸汽。该机构包括钢销，该钢销被移动至延伸位置，抵靠喷嘴中的肩部，以防止加压的蒸汽从该喷嘴逸出。附件的接头包括具有中央轴的销回缩板，该销回缩板将该销推离该肩部，以允许蒸汽经由销回缩板中的开口流动，并流出汇聚器或者具有触发器的附件软管，以如期望地释放蒸汽。 | ||||||
| 58 | 用来监视洗涤过程的装置 | CN01820413.9 | 2001-11-22 | CN1239123C | 2006-02-01 | 安东尼·奥伯斯; 莱昂纳德·M·弗兰德瑞格; 埃弗特·尼奥科普; 汉克·R·雷恩霍迪特; 亚历山德鲁·沃兰施; 约翰·J·范德沃夫 |
| 这项发明提供一种用来监视机械洗涤装置内部的洗涤过程的装置，该装置包括在所述装置内用来测量洗涤过程的物理和/或机械的参数的传感器装置和用来记录测定的参数的记录装置。这个装置包括用来引导通过传感器装置的洗涤液的装置和用来确定洗涤液和传感器装置之间的某种接触时间的装置。 | ||||||
| 59 | 晶片表面清洗装置及方法 | CN98125767.4 | 1998-12-21 | CN1185691C | 2005-01-19 | 殷晓明; 宁贤洁 |
| 一种去除微电子制造中衬底(13)表面(12)上的污染物(11)的衬底清洗装置(10)和方法。清洗装置(10)包括用于测位和映射衬底表面上的至少一种污染物(11)的物质测位器(15)；分配装置(16)，其形成和规格为沿路径(18)分配清洗剂基本控制的冲击流(17)。一个控制装置(20)耦合到映射装置(15)和分配装置(16)，用于控制冲击流(17)，以便根据冲击流(17)的路径(18)定位探测到的污染物(11)，从而可以基本上进行局部冲击，从衬底表面(12)上去掉污染物(11)。 | ||||||
| 60 | 洗涤装置 | CN99804160.2 | 1999-11-19 | CN1138874C | 2004-02-18 | 内野正英 |
| 本发明的被洗涤物的洗涤装置是在一个洗涤槽上设置有蒸汽洗涤部和蒸汽发生部，进行蒸汽洗涤处理和干燥处理。另外，蒸汽洗涤部和蒸汽发生部的连通或关闭，仅通过设置在两者之间的密闭盖体的沿上下方向的小移动就可以进行，因此，能得到结构紧凑、经济的洗涤装置。通过在上方设置有进行被洗涤物的洗涤、干燥的蒸汽洗涤部3和在下方设置有用于填充洗涤液7并使该洗涤液7蒸汽化的蒸汽发生部4而形成洗涤槽1。该蒸汽洗涤部3与蒸汽发生部4通过连通口10连通，该连通口10通过可沿上下方向移动的密闭盖体11密闭或打开。 | ||||||
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