| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 81 | 원형 가속기 | KR1020080122431 | 2008-12-04 | KR1020090109464A | 2009-10-20 | 다나카히로후미; 히후미다카시; 요시다가츠히사; 야마모토가즈오; 구로다요이치 |
| PURPOSE: A circular accelerator is provided to reduce beam adjusting time by outputting beam with a simple control. CONSTITUTION: A circular accelerator comprises a deflection electromagnet, a 6 electromagnet, and an irradiating apparatus. The deflection electromagnet generates the deflection magnetic field. The 6 electromagnet generates the magnetic field to correct the difference of the betatron oscillation by the difference of the energy of the charged particle beam. The irradiating apparatus extracts the charged particle beam with the outside of the circular accelerator from the equilibrium orbit. The deflection electromagnet includes an endpack(34). The endpack prepares a first projection part(34a), and a second projection part(34b). The first projection part is formed in the diametric direction outer portion from the beam equilibrium orbit. The second projection is formed in the diametric direction of the endpack. | ||||||
| 82 | 반도체 기판을 위한 ＲＦＱ 선형 가속기를 이용한 입자 제공 장치 및 방법 | KR1020097011510 | 2007-11-08 | KR1020090083443A | 2009-08-03 | 헨리,프랑수아,제이.; 람,앨버트; 아디비,바박 |
| A system for forming one or more detachable semiconductor films capable of being free-standing. The apparatus includes an ion source to generate a plurality of collimated charged particles at a first energy level. The system includes a linear accelerator having a plurality of modular radio frequency quadrupole (RFQ) elements numbered from 1 through N successively coupled to each other, where N is an integer greater than 1. The linear accelerator controls and accelerates the plurality of collimated charged particles at the first energy level into a beam of charge particles having a second energy level. RFQ element numbered 1 is operably coupled to the ion source. The system includes an exit aperture coupled to RFQ element numbered N of the RFQ linear accelerator. In a specific embodiment, the system includes a beam expander coupled to the exit aperture, the beam expander being configured to process the beam of charged particles at the second energy level into an expanded beam of charged particles. The system includes a process chamber coupled to the beam expander and a workpiece provided within the process chamber to be implanted. ® KIPO & WIPO 2009 | ||||||
| 83 | 높은Q대역필터를동조시키기위한방법및장치 | KR1019970047090 | 1997-09-12 | KR100436193B1 | 2004-07-16 | 샨티-파반옌들루리; 고피나탄베누고팔; 나가라즈크리쉬나스와미 |
| A high Q bandpass filter (102) is tuned by applying a transient (204) to the filter to cause it to ring. The ringing of the filter produces an output damped oscillatory waveform (206) whose zero crossings (208) are converted to a pulse train (210) and counted in a digital counter (112) to a predetermined number n. The output (214) of the counter is compared to an accurate timing signal (216) which has a time duration equal to the time of n pulses when the filter is accurately tuned. The output of the comparator (118) is applied to an integrator (122) to generate a control signal Vc to tune the filter. The high frequency tuning problem is thus converted to a low frequency, time domain problem which is readily implemented. <IMAGE> | ||||||
| 84 | 투영 노광 장치용 가용 출력 빔을 생성하기 위한 EUV 광원 | KR1020177014121 | 2013-10-22 | KR1020170060187A | 2017-05-31 | 생거,잉고; 마울,만프레드; 헨네르케스,크리스토프; 루오프,요하네스; 크라머,다니엘 |
| EUV 광원(2)은투영리소그래피용투영노광장치(1)를위한 EUV 조명광의가용출력빔(3)을생성하기위한역할을한다. 광원(2)은 EUV 미가공출력빔을생성하는 EUV 생성장치(2c)를갖는다. 후자는원형으로편광된다. 가용출력빔(3)의편광을설정하기위한목적으로그리고편광방향에있어서편광설정장치(32; 39)는미가공출력빔 상의선형편광효과를갖는다. 이것은해상도최적화된조명을위하여개선된출력빔을제공하는 EUV 광원을이끌어낸다. | ||||||
| 85 | 리소그래피 방법 및 시스템 | KR1020167001430 | 2014-06-17 | KR1020160022357A | 2016-02-29 | 니키펠로브안드레이; 프린스올라브; 드브리스고세; 룹스트라에릭; 바닌바딤; 드야거피터; 돈커릴포; 니엔후이스한-광; 크라징아보르게르트; 엥엘런바우터르; 라위턴오트헤르; 아케르만요한네스; 흐리밍크레오나르두스; 리트비넨코블라디미르 |
| 자유전자레이저를사용하여 EUV 방사선을생성하는단계; 상기 EUV 방사선을리소그래피기판상에투영하는리소그래피장치로상기 EUV 방사선을전달하는단계; 및피드백-기초제어루프를사용하여상기자유전자레이저를모니터링하고모니터링에상응하여상기자유전자레이저의동작을조절함으로써, 상기리소그래피기판에전달된 EUV 방사선의파워의요동(fluctuation)을감소시키는단계를포함하는, 리소그래피기판의패터닝방법. | ||||||
| 86 | 투영 노광 장치용 가용 출력 빔을 생성하기 위한 EUV 광원 | KR1020157008809 | 2013-10-22 | KR1020150053958A | 2015-05-19 | 생거,잉고; 마울,만프레드; 헨네르케스,크리스토프; 루오프,요하네스; 크라머,다니엘 |
| EUV 광원(2)은투영리소그래피용투영노광장치(1)를위한 EUV 조명광의가용출력빔(3)을생성하기위한역할을한다. 광원(2)은 EUV 미가공출력빔을생성하는 EUV 생성장치(2c)를갖는다. 후자는원형으로편광된다. 가용출력빔(3)의편광을설정하기위한목적으로그리고편광방향에있어서편광설정장치(32; 39)는미가공출력빔 상의선형편광효과를갖는다. 이것은해상도최적화된조명을위하여개선된출력빔을제공하는 EUV 광원을이끌어낸다. | ||||||
| 87 | 주기가변 영구자석 언듈레이터 | KR1020120093102 | 2012-08-24 | KR101360852B1 | 2014-02-11 | 정영욱; 이기태; 박성희; 신상인; 장규하; 문정호; 니콜라이비노쿠로프 |
| The object of the present invention is to provide a variable-period permanent magnet undulator which is applicable to not only a planar undulator but also a helical undulator. More particularly, the object of the present invention is to provide a variable-period permanent magnet capable of easily and precisely controlling the period of the permanent magnet through a structure to efficiently widen a distance between the permanent magnets by a repulsive force between the permanent magnets by the magnetic flux saturation of a ferromagnetic body interposed between the permanent magnets in the undulator on which the permanent magnet and the ferromagnetic body are alternatively arranged. | ||||||
| 88 | 자기장 프로파일을 변경시키기 위한 수단을 포함하는 사이클로트론 및 관련된 방법 | KR1020137001658 | 2011-07-04 | KR1020130138171A | 2013-12-18 | 클리벤,윌럼 |
| 본 발명은 제 1 “질량당 전하” 비율(q/m)에 의해 정의된 가속된 하전 입자들의 제 1 빔 또는 상기 제 1 “질량당 전하” 비율(q/m)보다 작은 제 2 “질량당 전하” 비율(q/m)에 의해 정의된 가속된 하전 입자들의 제 2 빔을 산출할 수 있는 사이클로트론에 관련되며, 상기 사이클로트론은 다음을 포함한다: 사이클로트론의 중심 축에 수직한 중앙 평면에 대해 대칭으로 위치되고 하전 입자들의 흐름을 위해 제공되는 간격에 의해 분리되는, 바람직하게 상부 극 및 하부 극인 두 개의 극들을 포함하는 전자석, 각각의 상기 극들은 “언덕들”이라고 불리는 좁은-간격 영역들 및 “골들”이라고 불리는 넓은-영역이 교대하도록 위치된 몇몇의 구역들을 포함함; 상기 극들 사이의 간격 내에 본질적으로 일정한 주된 유도 자계를 발생시키기 위해 사용되는 주된 유도 코일; 및 상기 골들 중의 하나 내에 존재하고 사이클로트론의 중심에 가까운 영역에서 외주부를 향해 방사상으로 연장하는 강자성부를 포함하여, 가속될 입자들의 “질량당 전하”비율에 따라 자기장 프로파일을 변경시키기 위한 수단, 상기 강자성부는 상기 골의 바닥과 자기 회로를 형성하여, 상기 제 1 질량당 전하 비율(q/m)을 구비하는 상기 제 1 빔의 입자들을 가속시키기에 충분히 강한 추가적인 자기장을 발생시킴; 다음을 특징으로 한다: 상기 제 2 질량당 전하 비율(q/m)'을 구비하는 상기 제 2 빔의 입자들을 가속시키기 위해 상기 강자성부에 의해 제공된 추가적인 자기장의 분포를 감소시키고 상기 주된 유도 코일에 의해 상기 강자성부 내에 유도된 자기장에 반대되는 자기장을 유도할 수 있도록 상기 강자성부 주위에 위치된 이차 유도 코일.
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| 89 | 사이클로트론 및 사이클로트론의 제어방법 | KR1020130058191 | 2013-05-23 | KR1020130131248A | 2013-12-03 | 채종서 |
| The present invention relates to a cyclotron and a method for controlling the cyclotron. The cyclotron includes: a main body; a chamber which is positioned inside the main body and forms a space in which particles are accelerated; a magnetism unit which is arranged in a position which is close to the chamber and forms a magnetic field in order to accelerate the particles which process in the chamber; multiple discharge units which are connected to the chamber and are asymmetrically arranged based on the center of the chamber; and a sensor unit which is installed in a position which is close to the discharge unit and senses the discharge state of the chamber. The present invention is able to improve the driving precision of the cyclotron by minimizing the influence of a particle acceleration driving which is caused by a discharge process because a uniform discharge is possible while minimizing the disturbance of the internal space of the chamber during the discharging work of the chamber. | ||||||
| 90 | 비정질 금속 모듈을 이용한 펄스 전자석 및 펄스 전자석 조립체 | KR1020110108367 | 2011-10-21 | KR101268392B1 | 2013-05-28 | 이우상; 신진우; 박수용 |
| 본발명의일 실시예에따르는펄스전자석은중공을구비한원통형코일부및 상기코일부의외주를따라법선방향으로연장되어배치되는비정질금속모듈을포함함으로써, 냉각이용이하고, 맴돌이전류의발생을최소화할수 있다. | ||||||
| 91 | 비정질 금속 모듈을 이용한 펄스 전자석 및 펄스 전자석 조립체 | KR1020110108367 | 2011-10-21 | KR1020130044090A | 2013-05-02 | 이우상; 신진우; 박수용 |
| PURPOSE: A pulsed magnet using amorphous metal modules and a pulsed magnet assembly including the same are provided to prevent generation of a parasitic magnetic field and to enhance an insulating property. CONSTITUTION: A pulsed magnet comprises a coil part(100) which is cylindrical and has a hollow opening. Amorphous metal modules are disposed along the outer circumference of the coil part. The amorphous metal modules have a block structure where an amorphous metal ribbon and an insulating film are laminated on each other in an alternate manner. | ||||||
| 92 | 사이클로트론용 홀더조립체 및 이를 포함하는 사이클로트론 | KR1020100017808 | 2010-02-26 | KR1020110098270A | 2011-09-01 | 채종서; 송호승; 이병노 |
| 본 발명은 각각의 에너지 준위를 갖는 복수의 빔에 대응되는 박막을 구비함과 아울러 각각의 에너지 준위를 갖는 복수의 빔을 선택적으로 양성자 빔으로 변환시킬 수 있도록 구조가 개선된 사이클로트론용 홀더조립체 및 이를 포함하는 사이클로트론에 관한 것이다. 본 발명에 따른 입자 가속화된 각각 상이한 에너지 준위를 갖는 복수의 빔(beam)이 생성되는 본체를 갖는 사이클로트론용 홀더조립체는 본체 내부에 입자 가속화된 각각 상이한 에너지 준위를 갖는 빔들에 대응되어 입자 가속화된 빔을 양성자 빔으로 변환시키는 복수의 박막과, 복수의 박막이 일정 간격을 두고 원주 방향으로 배치되고 복수의 박막이 선택적으로 입자 가속화된 빔에 대응되도록 회전되는 회전지지부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에, 각각의 상이한 에너지 준위 및 회전 반경을 갖는 복수의 빔을 선택적으로 양성자 빔으로 변환시킬 수 있도록, 상이한 두께를 가진 복수의 박막과 함께 회전 운동 및 왕복 이동이 가능한 홀더조립체를 마련함으로써, 빔의 변환 효율을 향상시킬 수 있다.
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| 93 | 사이클로트론 | KR1020100017792 | 2010-02-26 | KR1020110098259A | 2011-09-01 | 채종서; 김현욱 |
| 본 발명은 빔의 인출 유도 각도의 편향을 방지하기 위해 홀더조립체의 배치 위치를 조절할 수 있도록 구조가 개선된 사이클로트론에 관한 것이다. 본 발명에 따른 사이클로트론은 일정한 회전 반경과 궤도를 가지고 입자 가속화된 빔(beam)이 생성되는 챔버(chamber) 및 챔버 내부의 빔이 인출되는 빔 인출부가 형성되는 본체와, 본체 내부에 빔의 가속 방향에 대해 가로 방향으로 배치되고 본체 내부에서 가속화된 빔을 양성자 빔으로 변환하는 박막을 가지며, 박막에서 변환되어 빔 인출부로 유도되는 양성자 빔의 유도 각도를 조절하는 홀더조립체를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 홀더조립체가 회전 운동 가능하도록 배치되어 빔 인출부로 유도되는 양성자 빔의 편향 발생 시, 홀더조립체의 위치를 조절하여 빔 인출부로 유도되는 양성자 빔의 유도 각도를 조절 할 수 있고, 이에 따라 인출되는 빔의 인출 효율을 향상시킬 수 있다.
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| 94 | 원형 가속기 | KR1020080122431 | 2008-12-04 | KR101048973B1 | 2011-07-12 | 다나카히로후미; 히후미다카시; 요시다가츠히사; 야마모토가즈오; 구로다요이치 |
| 원형 가속기로부터 하전 입자빔을 외부로 출사하는 경우, 빔 궤도의 변화에 기인하는 튠의 변화를 정적으로 보정하여, 튠을 선형으로 변화시켜, 빔 출사 조정을 용이하게 한 원형 가속기를 제공한다. 편향 전자석(3)의 하전 입자빔이 출입하는 자극 에지부(32)에 엔드팩(endpack)(34)을 마련하며, 이 엔드팩(34)의 중심 에너지 빔의 평형 궤도(33a)보다 직경 방향 외측 부분(32a)에 제 1 돌기부(34a)를, 중심 에너지 빔의 평형 궤도(33a)보다 직경 방향 내측 부분(32b)에 제 2 돌기부(34b)를 마련하고, 그 제 1, 제 2 돌기부(34a, 34b)의 형상을, 가속 에너지, 즉, 에너지가 다른 빔의 베타트론 진동수가 일정하게 혹은, 에너지에 대해서 선형으로 되도록 설정한다. | ||||||
| 95 | Proton irradiation using spot scanning | US15402080 | 2017-01-09 | US10213625B2 | 2019-02-26 | Holger Goebel |
| In one embodiment of the invention, a method for irradiating a target is disclosed. A proton beam is generated using a cyclotron. A first information is provided to an energy selection system. An energy level for the protons is selected using an energy selection system based on the first information. The first information comprises a depth of said target. The proton beam is routed from the cyclotron through a beam transfer line to a scanning system. A second information is provided to the scanning system. The second information comprises a pair of transversal coordinates. The proton beam is guided to a location on the target determined by the second information using a magnet structure. The target is irradiated with the protons. | ||||||
| 96 | High efficiency radiation-induced triggering for set-on-command compositions and methods of use | US15543964 | 2015-02-17 | US10151170B2 | 2018-12-11 | Samuel J. Lewis |
| Systems and methods that produce bremsstrahlung radiation may facilitate the setting of a settable composition. For example, a method may include providing a settable composition in a portion of a wellbore penetrating a subterranean formation, a portion of the subterranean formation, or both; conveying an electron accelerator tool along the wellbore proximal to the settable composition; producing an electron beam in the electron accelerator tool with a trajectory that impinges a converter material, thereby converting the electron beam to bremsstrahlung photons; manipulating the trajectory of the electron beam in a radial direction, an axial direction, or both of the wellbore with a rastoring device of the electron accelerator tool; and irradiating the settable composition with the bremsstrahlung photons. | ||||||
| 97 | GENERATION AND ACCELERATION OF CHARGED PARTICLES USING COMPACT DEVICES AND SYSTEMS | US15865056 | 2018-01-08 | US20180343734A1 | 2018-11-29 | Amit Lal; Yue Shi; Serhan Ardanuc; June-Ho Hwang; Farhan Rana |
| A system that generates short charged particle packets or pulses (e.g., electron packets) without requiring a fast-switching-laser source is described. This system may include a charged particle source that produces a stream of continuous charged particles to propagate along a charged particle path. The system also includes a charged particle deflector positioned in the charged particle path to deflect the stream of continuous charged particles to a set of directions different from the charged particle path. The system additionally includes a series of beam blockers located downstream from the charged particle deflector and spaced from one another in a linear configuration as a beam-blocker grating. This beam-blocker grating can interact with the deflected stream of charged particles and divide the stream of the charged particles into a set of short particle packets. In one embodiment, the charged particles are electrons. The beam blockers can be conductors. | ||||||
| 98 | COMPAC CARBON ION LINAC | US15713238 | 2017-09-22 | US20180343733A1 | 2018-11-29 | Brahim Mustapha; Alireza Nassiri; Peter N. Ostroumov; Alexander S. Plastun; Aditya Goel |
| The invention provides a method for accelerating protons and carbon ions up to 450 MeV/u in a very compact linac, the method comprising subjecting the particles to a radio frequency quadrupole field to accelerate the particles to at least 3 MeV/u, a drift tube linac (DTL) to an energy of 20 MeV/u, followed by a coupled DTL to 45 MeV/u and finally a high-gradient section made of CCL-type standing wave cavities or negative harmonic traveling wave cavities operating at S-band frequencies and capable of delivering voltage gradients of 40 to 60 MV/m. Focusing the accelerated particles while accelerated to higher energy is provided by appropriately placed constant field permanent magnets and electromagnetic quadrupoles. The compactness and power efficiency of the linac is enabled by using high-gradient structure in the S-band frequencies for lower energy particles than ever before. The low-intensity required for hadron therapy allows the use of small-aperture S-band structures and the operation at very high gradient compared to high-intensity machines for research. Operating with very short sub-microsecond pulses at repetition rates up to 400 Hz allows the fast and flexible beam energy and intensity tuning not provided by existing hadron therapy machines. The designed linac is capable of accelerating ions as heavy as neon to the full 450 MeV/u energy, therefore allowing fast beam switching if different ion sources are installed in the front-end of the linac. | ||||||
| 99 | Cyclic accelerator for accelerating charge carriers and method for manufacturing a cyclic accelerator | US15000777 | 2016-01-19 | US10136508B2 | 2018-11-20 | Karl Haberger |
| What is shown is a cyclic accelerator for accelerating charge carriers. The cyclic accelerator includes a charge carrier source configured to generate free charge carriers, a vacuum chamber configured to receive the free charge carriers, wherein the vacuum chamber is produced by means of MEMS technology, and wherein at least a main surface region of the vacuum chamber has a semiconductor material. In addition, the cyclic accelerator has electrodes configured to accelerate the free charge carriers in the vacuum chamber by means of an alternating current field, and a magnetic field generator configured to generate a magnetic field perpendicularly to the direction of movement of the charge carriers. | ||||||
| 100 | ROTARY MODULE FOR AN ACCELERATOR SYSTEM | US15769380 | 2016-09-22 | US20180317310A1 | 2018-11-01 | Chen Xiao; Michael Maier |
| A rotary module for a measuring device of an accelerator facility includes a first radial bearing including a first bearing side configured to be paired with an accelerator-side flange connection and further including a second bearing side configured to receive the measuring device on the first radial bearing in a bearing manner such that the measuring device is connected to the accelerator facility by the first radial bearing; and a drive configured to control a rotational movement of the measuring device about an axis of rotation. | ||||||
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