| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 61 | 导体组件和导体组件的制造方法 | CN200880115796.8 | 2008-10-01 | CN101855682A | 2010-10-06 | 雷纳·迈因克 |
| 一种导体组件，该类型的导体组件在传导电流时生成磁场或者在存在变化磁场的情况中感生电压。在所述组件的一个实施例中，管形的第一层围绕轴形成。该轴包括弯曲部分，可沿该弯曲部分安置导体以限定第一导体路径。第一层也包括弯曲部分，第一层的弯曲部分具有包括沿轴的弯曲部分延伸的弯曲的形状。第一导体围绕第一层的弯曲部分以第一螺旋配置布置，这种配置包括螺旋形的并且围绕轴的弯曲部分形成的弯曲段。该配置能够承受具有沿所述轴的横向取向的多极分量的磁场。 | ||||||
| 62 | 用于高功率微波源聚焦与回旋电子装置的超导磁体系统 | CN201010152524.4 | 2010-04-16 | CN101819845A | 2010-09-01 | 王秋良; 胡新宁; 严陆光; 戴银明; 王晖 |
| 一种用于高功率微波源聚焦与回旋电子装置的超导磁体系统，其超导磁体(15)包括内层超导主线圈(1)、外层超导主线圈(2)、两个端部补偿线圈、调节线圈(4)和中心调节线圈(5)。线圈由Nb3Sn/Cu超导线绕制形成。通过制冷机(11)与高压氮气形成的固态氮使得超导磁体(15)可以脱机运行。超导磁体(15)与超导开关(18)构成的闭合回路实现磁场稳定，不受外界电磁干扰。超导磁体系统能够提供具有特殊空间分布的高稳定性的磁场。 | ||||||
| 63 | 高能多能离子选择系统、离子束治疗系统及离子束治疗中心 | CN200480015328.5 | 2004-06-02 | CN101006541B | 2010-07-07 | 马长明 |
| 提供了用于产生基于能级而在空间上分开并被调制的激光加速高能多能正离子束的设备和方法。所述空间上分开并被调制的高能多能正离子束用于放射治疗。另外，提供了使用由在空间上分开并被调制过的正离子束所提供的适合治疗的高能多能正离子束来用于治疗放射治疗中心内的患者的方法。还提供了使用在空间上分开并被调制过的激光加速高能多能正离子束来制造放射性同位素的方法。 | ||||||
| 64 | 偏转和分裂束的切隔电磁铁、电磁铁、及偏转束的方法 | CN02106911.5 | 2002-03-07 | CN1222958C | 2005-10-12 | 酒井泉 |
| 制备一种由其导体划分成一个第一束偏转磁极空间和一个第二束偏转磁极空间的切隔电磁铁。然后，使电流在包括切隔导体的线圈中流动，并因而在第一束偏转磁极空间和第二束偏转磁极空间中分别产生一个第一磁场和一个第二磁场。第一磁场的方向与第二磁场的方向相反，并且使穿过第一束偏转磁极空间的带电粒子束，在对于穿过第二束偏转磁极空间的带电粒子束的相反方向上偏转一个给定角度。 | ||||||
| 65 | 用于超高真空的永磁体及其制造方法 | CN96192129.3 | 1996-12-20 | CN1091537C | 2002-09-25 | 菊井文秋; 池上雅子; 吉村公志 |
| 为了提供可用于超高真空气氛的永磁体，所述磁体可用于要求低于1×10-9Pa的超高真空气氛的波动器，具有优异的磁性能，并涂敷致密的附着膜，避免产生气体或者排出气体；利用以下顺序的工艺在R-Fe-B系永磁体表面涂敷各种膜，亦即，(1)利用离子溅射法清洁磁体表面区域，(2)通过薄膜形成技术例如离子镀法形成Ti下涂层，(3)利用薄膜形成技术例如离子镀法，在氩气和氮气的混合气体中，形成具有朝向Ti涂敷层缓慢增大的氮浓度的氮扩散层(TiNx，x＝0～1)；或者利用离子镀法在Ti涂敷层上形成Al涂敷层；或者利用离子反应技术，在N2气氛中在所述Al涂敷层上形成AlN涂敷膜；或者在含N2气氛中提供离子反应镀法，在Al涂敷层上形成复合化合物Ti1-xAlxN。 | ||||||
| 66 | 混合型摆动器 | CN99102596.2 | 1999-03-03 | CN1230092A | 1999-09-29 | 小林秀树; 飞田辉昭; 河合正之; 月野德之 |
| 用作诸如电子加速器中的一种插入装置的新型混合型摆动器。这种混合型摆动器不同于普通的混合型摆动器,它由两个相互面对的磁体阵列组成,每个磁体阵列又由多块永磁体和多块用软磁材料制作的极板交替排列组成,从而能在两个磁体阵列的间隔空间中生成一个周期性正弦曲线磁场,促使电子束蜿蜒游动。各极板在横向上被夹在一对辅助磁体之间,使在间隔空间中的周期性磁场大大得到强化。 | ||||||
| 67 | 用于插入装置的磁铁块组件 | CN98106910.X | 1998-04-14 | CN1199232A | 1998-11-18 | 大桥健; 河合正之 |
| 公开了一种用于Halbach型或混合型的插入装置的新颖的复合磁铁组件,本发明的磁铁块组件由多个对面放置的复合磁铁块组成,它们各自由一个单一的具有多条槽的基础磁铁块形成,在这些槽里插着镶嵌磁铁片或镶嵌磁极片,这样为改善磁场的规则性的沿磁铁块组件长度方向的尺寸精度要求大大下降。在Halbach型组件中的基础磁铁块与镶嵌磁铁片一样能用脉冲磁场在组装后被磁化。 | ||||||
| 68 | 用于超高真空的永磁体及其制造方法 | CN96192129.3 | 1996-12-20 | CN1176016A | 1998-03-11 | 菊井文秋; 池上雅子; 吉村公志 |
| 为了提供可用于超高真空气氛的永磁体,所述磁体可用于要求低于1×10－9Pa的超高真空气氛的波动器,具有优异的磁性能,并涂敷致密的附着膜,避免产生气体或者排出气体;利用以下顺序的工艺在R－Fe－B系永磁体表面涂敷各种膜,亦即,(1)利用离子溅射法清洁磁体表面区域,(2)通过薄膜形成技术例如离子镀法形成Ti下涂层,(3)利用薄膜形成技术例如离子镀法,在氩气和氮气的混合气体中,形成具有朝向Ti涂敷层缓慢增大的氮浓度的氮扩散层(TiNx,x=0～1);或者利用离子镀法在Ti涂敷层上形成Al涂敷层;或者利用离子反应技术,在N2气氛中在所述Al涂敷层上形成AlN涂敷膜;或者在含N2气氛中提供离子反应镀法,在Al涂敷层上形成复合化合物Ti1－xAlxN。 | ||||||
| 69 | 이온 조사 장치, 이온 조사 방법 | KR1020157023726 | 2015-02-27 | KR101645503B1 | 2016-08-05 | 유즈,타쿠미; 테라사와,토시히로 |
| 이온원으로부터이온가속장치(16)에입사되고, 이온가속관(24) 내를비행하는정이온을이온가속관(24)의내부에배치한복수의가속전극(2a~2h)에의해가속하여, 조사대상물에조사한다. 이온가속관(24)내에는, 자석장치(5)를복수배치하고, 각자석장치(5)가각각형성하는자력선의방향을, 인접하는자석장치(5)에서 0도보다크고, 90도이하의각도로다르게하고, 각자력선을이온가속관(24)내에서, 한방향으로회전시킨다. 이온가속관(24)내에서역진하는전자를자력선과교차시키고, 전자로역진시키면서, 비행축으로부터의거리를증가시킨다. 전자는이온가속관(24)내의부재와충돌하고, 고에너지가되기전에정지하므로, 고에너지 X선은발생하지않는다. | ||||||
| 70 | 이온 조사 장치, 이온 조사 방법 | KR1020157023726 | 2015-02-27 | KR1020150121016A | 2015-10-28 | 유즈,타쿠미; 테라사와,토시히로 |
| 이온원으로부터이온가속장치(16)에입사되고, 이온가속관(24) 내를비행하는정이온을이온가속관(24)의내부에배치한복수의가속전극(2a~2h)에의해가속하여, 조사대상물에조사한다. 이온가속관(24)내에는, 자석장치(5)를복수배치하고, 각자석장치(5)가각각형성하는자력선의방향을, 인접하는자석장치(5)에서 0도보다크고, 90도이하의각도로다르게하고, 각자력선을이온가속관(24)내에서, 한방향으로회전시킨다. 이온가속관(24)내에서역진하는전자를자력선과교차시키고, 전자로역진시키면서, 비행축으로부터의거리를증가시킨다. 전자는이온가속관(24)내의부재와충돌하고, 고에너지가되기전에정지하므로, 고에너지 X선은발생하지않는다. | ||||||
| 71 | 고에너지 이온주입장치 | KR1020140046075 | 2014-04-17 | KR1020140140479A | 2014-12-09 | 가바사와미츠아키; 와타나베가즈히로; 사사키하루카; 이나다고오지 |
| 고에너지의 이온빔을 전장에 의하여 주사하고, 전장에 의하여 평행화하여, 전장에 의하여 필터링하는 고에너지 이온주입장치를 제공한다.
고에너지 이온주입장치(100)는, 이온빔을 가속하여 고에너지 이온빔을 생성하는 고에너지 다단직선가속유닛(14)과, 고에너지 이온빔을 반도체 웨이퍼를 향하게 하여 방향 변환하는 편향유닛(16)과, 편향된 고에너지 이온빔을 웨이퍼까지 수송하는 빔수송라인유닛(18)을 구비한다. 빔수송라인유닛(18)은, 빔정형기(32)와, 고에너지용의 빔주사기(34)와, 고에너지용의 전장식의 빔평행화기(36)와, 전장식의 최종 에너지 필터(38)를 가진다. |
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| 72 | 사이클로트론 장치 | KR1020100017870 | 2010-02-26 | KR1020110098312A | 2011-09-01 | 채종서; 이용석; 이병노 |
| 본 발명은 사이클로토론 장치는 진공 용기와, 상기 진공 용기 내 또는 진공 용기 밖에 설치되는 전자석과, 상기 진공 용기 내에서 상기 전자석과 미리 결정된 간격을 두고 설치되는 전극과, 상기 전자석과 상기 전극 사이의 진공 공간에 삽입되는 유전체를 포함한다. 본 발명에 의하면, 사이클로트론 장치에서 전자석과 전극 사이의 진공 공간에 유전체를 삽입함으로써 전체 사이클로트론 장치의 크기 또는 부피를 줄일 수 있는 효과가 있다.
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| 73 | 알에프큐 가속기 및 이온 주입장치 | KR1019980709411 | 1998-03-26 | KR1020000015861A | 2000-03-15 | 후지사와,히로시 |
| PURPOSE: An RFQ(radio frequency quadrapole) electrode will have such an optimum configuration as to provide a high power efficiently, an excellent cooling efficiency, a sufficiently strong mechanical strength, and a large beam acceptance. CONSTITUTION: The RFQ electrode (1) which can accelerate a large-current ion beam without causing divergence and is used for an accelerating tube, etc., of a high-energy ion implanter is constituted in such a way that the radius R1 of a beam passing space (9) surrounded by four RFQ electrodes (1) ranges from 5 to 9 mm for a resonance frequency as low as about 33 MHz suitable for heavy ions of B, P, As, etc., and that the electrode has a surface on which crests (3) and valleys (8) are repetitively formed in the forward direction of the beam, with each crest having a radius R2 of curvature of 5 to 9 mm in the direction perpendicular to the axial direction, and a height H which is 4 to 6 times as large as the radius R1 (H/R1:4 to 6) from the bottom of the valley to the top of the crest. When the height H of the electrode is lowered, the shunt impedance increases and the power efficiency is improved, though the cooling performance of the electrode becomes insufficient, because the cross section of a cooling water path cannot be made larger. In addition, such a problem that the electrode tends to vibrate due to an insufficient mechanical strength is apt to occur. | ||||||
| 74 | 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치의 조명 장치용 EUV 광원 | KR1020167029604 | 2015-02-27 | KR1020160136427A | 2016-11-29 | 파트라,미카엘 |
| 마이크로리소그래픽투영노광장치의광 장치를위한 EUV 광원본 발명은마이크로리소그래픽투영노광장치의조명장치용 EUV 광원으로서, 상기 EUV 광원은전자빔을생성하기위한전자원(110), 상기전자빔을가속하기위한가속기유닛(120) 및상기전자빔을편향함으로써 EUV 광을생성하기위한언듈레이터장치(100)를포함하고, 상기언듈레이터장치(100)는제1 편광상태를갖는 EUV 광을생성하기위한제1 언듈레이터(101); 및제2 편광상태를갖는 EUV 광을생성하기위한적어도하나의제2 언듈레이터(102)를포함하고, 상기제2 편광상태는상기제1 편광상태와상이하고; 상기제2 언듈레이터(102)는상기전자빔의전파방향을따라상기제1 언듈레이터(101)의다운스트림에배열되며; 상기언듈레이터장치(100)는제1 동작모드 - 상기제1 동작모드에서, 상기제1 언듈레이터(101)는 EUV 광의생서에관하여포화상태임 - 및적어도하나의제2 동작모드 - 상기제1 언듈레이터(101)는 EUV 광의생성에관하여포화상태가아님 - 를갖도록구성된다. | ||||||
| 75 | 빔 전달 장치 및 방법 | KR1020167010774 | 2014-09-24 | KR1020160063361A | 2016-06-03 | 바니네,바딤; 바르트레이,페트루스; 반고르콤,라몬; 아멘트,루카스; 드야거,피터; 데브리스,고쎄; 돈케르,릴포; 엥엘런,바우터; 프린스,올라프; 그림밍크,레오나르두스; 카타레닉,안델코; 루프스트라,에릭; 니엔후이스,한-광; 니키펠로프,안드레이; 렌켄스,미카엘; 얀센,프란시스쿠스; 크루이진가,보거트 |
| 리소그래피시스템내에서사용되는전달시스템이개시된다. 빔전달시스템은방사선소스로부터방사선빔을수용하고 1 이상의방향들을따라방사선의부분들을반사하여 1 이상의툴로의제공을위한 1 이상의브랜치방사선빔을형성하도록배치되는광학요소들을포함한다. | ||||||
| 76 | 중이온 가속기용 ECR 이온원의 초전도 자석 보호장치 및 이를 포함하는 중이온 가속기용 ECR 이온원 | KR1020140013364 | 2014-02-06 | KR1020150093260A | 2015-08-18 | 강형구; 최석진; 김용환; 홍인석; 전동오 |
| 본 발명은 중이온 가속기용 ECR 이온원 초전도 자석 보호 장치를 개시한다. 일 실시예에 의한 중이온 가속기용 ECR 이온원 초전도 자석 보호 장치는, 코일이 권취되어 형성되고, 극저온 상태에서 전류가 흐르면 주위에 고자기장을 발생시키는 초전도 자석; 및 상기 초전도 자석을 지지하고, 상기 초전도 자석의 열 수축 및 고자기장에 의해 발생하는 기계적 응력에 의한 변형을 억제하는 지지부를 포함할 수 있다.
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| 77 | 사이클로트론 장치 | KR1020140002313 | 2014-01-08 | KR1020140011416A | 2014-01-28 | 채종서; 이용석; 이병노 |
| A cyclotron apparatus according to the present invention includes a vacuum container, an electromagnet which is installed inside or outside the vacuum container, an electrode which is separated from the electromagnet with a preset space in the vacuum container, and a dielectric which is inserted into a vacuum space between the electromagnet and the electrode. According to the present invention, the total size or volume of the cyclotron apparatus is reduced by inserting the dielectric into the vacuum space between the electromagnet and the electrode. | ||||||
| 78 | 영구자석을 이용한 전자석 나선형 언듈레이터 | KR1020110069072 | 2011-07-12 | KR1020130008366A | 2013-01-22 | 정영욱; 박성희; 이기태; 장규하; 문정호 |
| PURPOSE: An electromagnet helical undulator using a permanent magnet is provided to increase the output power of the emitting light and the threshold gain of a free electron laser by generating magnetic field strong and finely adjustable. CONSTITUTION: An electromagnet helical undulator using a permanent magnet includes an equipotential buses(40,45), ferromagnetic magnetic poles(10), permanent magnets(20) and an electromagnet coil(30). The equipotential buses consist of a structure having buses connected to a box type frame consisting of a ferromagnetic material and a ferromagnetic pole. The ferromagnetic poles are fixed to the equipotential buses. The permanent magnets are located among the ferromagnetic poles. The electromagnet coil is formed on the outer surface of the equipotential buses. | ||||||
| 79 | 개선된 입자 가속기 및 입자 가속기용 자기 코어 장치 | KR1020127000807 | 2010-06-04 | KR1020120096453A | 2012-08-30 | 크로슨,월터,프레드릭,존; 칼텐본,마크,에이취. |
| 입자 가속기(100)는 전원 공급 장치(110), 복수의 고체-상태 스위치된 드라이브 섹션(120), 복수의 자기 코어 섹션(130) 및 스위치 제어 모듈(140)로 구성된다. 상기 드라이브 섹션(120)은 상기 전원 공급 장치(110)에 연결되어 그것으로부터 전력을 받으며, 각각의 드라이브 섹션은 드라이브 섹션의 출력에서 드라이브 펄스를 선택적으로 제공하기 위하여, 턴-온(turn-on) 및 턴-오프(turn-off)시 전자 제어 가능한 고체-상태 스위치로 구성된다. 상기 자기 코어 섹션(130)은 중심 빔 축을 따라 대칭적으로 배치되고, 상기 섹션의 자기 코어 각각은 상기 드라이브 섹션의 출력에 연결된 전기 권선을 통해 각각의 드라이브 섹션(120)에 결합된다. 상기 스위치 제어 모듈(140)은 상기 드라이브 섹션(120)에 연결되어, 상기 고체-상태 스위치의 턴-온 및 턴-오프를 제어하는 제어 신호를 제공하여, 자기 코어를 선택적으로 구동하도록 함으로써 전기장을 유도하여 하전된 입자들의 빔이 빔 축을 따라 가속되도록 한다.
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| 80 | 사이클로트론 | KR1020100017798 | 2010-02-26 | KR1020110098264A | 2011-09-01 | 채종서; 이용석; 이병노 |
| 본 발명은 코일부의 무게 및 부피를 감소시킴과 함께 일정 크기의 자기장의 세기를 유지할 수 있도록 구조가 개선된 사이클로트론에 관한 것이다. 본 발명에 따른 사이클로트론은 입자 가속화된 빔(beam)이 생성되는 챔버가 형성되는 본체와, 본체와 일정 간격을 두고 양측면의 적어도 일측면에 배치되어 외부로부터 전원을 공급 받아 전기장 및 자기장을 형성하는 적어도 하나의 코일부와, 본체와 코일부 사이에 배치되어 본체 내부로 전달되는 자기장을 형성하는 적어도 하나의 자력발생부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 코일부와 본체 사이에 자기장을 형성시키는 자력발생부를 배치하여 동일한 자기장의 세기 조건 상에서 코일부 도선 감은 횟수를 감소시킴으로써, 코일부의 슬림화를 구현할 수 있고, 이에 따라 사이클로트론의 전체적인 볼륨을 슬림화 시킬 수 있다.
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