| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 61 | Method and means of effecting charge exchange in particle beams | US32318373 | 1973-01-12 | US3806749A | 1974-04-23 | YNTEMA J |
| The usable lifetime of carbon stripping foils used to effect charge exchange in particle beams is extended by depositing a thin electrically conducting layer on the foil, mounting the foil on a holder selected to control thermal expansion, and heating the foil before and during the time it is used for stripping.
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| 62 | High energy neutral particle beam source | US3742219D | 1971-06-23 | US3742219A | 1973-06-26 | POST R; DAMM C; OSHER J |
| An ion source directs a beam of low energy positive ions through a first gas charge exchange cell forming a beam of neutral particles with some negative ions therein. The neutral particle component of the beam is then directed through an aligned series of similar charge exchange cells in each of which some of the neutral particles are converted into negative ions. A magnetic field is applied to the mixed particle beam emerging from each cell to deflect the negative ions so as to converge to form a common negative ion beam which is passed through a charged particle accelerator to yield a high energy negative ion beam then through a gas cell to strip electron therefrom forming a high energy neutral particle beam which may then be directed into the magnetic containment zone of a controlled fusion reactor to be ionized and trapped to form a plasma therein.
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| 63 | Double cell high intensity ion source | US3663852D | 1970-04-01 | US3663852A | 1972-05-16 | LUCE JOHN S |
| The instant invention involves a system for generating high current density charged particle beams. The system includes a plurality of high intensity ion sources in combination with two charge exchange cells aligned linearly with one another. The ions are converted from one type of charge to an opposite charge in two stages. In the first stage, several beams of positive ions, for example, derived from a plurality of positive ion sources are beamed into a charge exchange cell and converted into neutrals. The several beams of neutrals from the first cell are then directed into a second charge exchange cell where the neutrals are converted into negative ions.
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| 64 | Process for producing negative hydrogen ions from protons | US3424904D | 1965-05-03 | US3424904A | 1969-01-28 | DONNALLY BAILEY L |
| 65 | Vapor target for particle accelerators | US51975966 | 1966-01-10 | US3395302A | 1968-07-30 | BROWN JR RICHARD S; MARTIN ROOS |
| 66 | Process for producing negative helium ions | US54780066 | 1966-05-05 | US3374384A | 1968-03-19 | DONNALLY BAILEY L |
| 67 | Plurally charged ion beam generation method | US4598360 | 1960-07-28 | US3136908A | 1964-06-09 | ADOLF WEINMAN JAMES |
| 68 | Negative ion source | US57713356 | 1956-04-09 | US2816243A | 1957-12-10 | HERB RAYMOND G; WEINMAN JAMES A |
| 69 | Source of highly stripped ions | US30172252 | 1952-07-30 | US2754422A | 1956-07-10 | LOFGREN EDWARD J; EUKEL WARREN W |
| 70 | Device for the generation of large amounts of negative ions | US25494839 | 1939-02-06 | US2232030A | 1941-02-18 | ISRAEL KALLMANN HARTMUT; ERNST KUHN |
| 71 | 修正装置 | JP2014146187 | 2014-07-16 | JP2015062170A | 2015-04-02 | 荒巻 文朗; 八坂 行人; 松田 修; 杉山 安彦; 大庭 弘; 小堺 智一; 相田 和男 |
| 【課題】試料へのダメージが小さく、長期間に亘って安定かつ効率良くマスクなどの微細箇所の修正を行なう。 【解決手段】修正装置10は、先鋭化されたティップを有するガス電界電離イオン源と、ティップを冷却する冷却手段と、ガス電界電離イオン源において発生したガスのイオンを集束させて集束イオンビームを形成するイオンビーム鏡筒11と、イオンビーム鏡筒11により形成された集束イオンビームが照射される試料を設置して移動可能な試料ステージ15と、試料ステージ15を内蔵する試料室13と、集束イオンビームによって試料としてのマスク14またはナノインプリントリソグラフィのモールドを修正する制御部20と、を少なくとも備える。ガス電界電離イオン源は、イオンを窒素とし、イオンを発生可能な単一の頂点を有するイリジウム単結晶により構成されたティップを備える。 【選択図】図1 |
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| 72 | x-ray method and apparatus in combination with a charged particle cancer therapy system | JP2011510455 | 2009-05-21 | JP5497750B2 | 2014-05-21 | エゴロヴィチ バラキン、ウラジミール |
| 73 | タンデム加速装置および電荷交換器 | JP2012544176 | 2011-11-04 | JPWO2012066940A1 | 2014-05-12 | 元 和田; 貴弘 剣持; 眞實子 笹尾; 純男 北島; 岡本 敦; 岡本 敦; 健祐 寺井 |
| 負イオンから正イオンへの変換効率が高く、長寿命で構造も簡単な電荷交換器と、それを用いたタンデム加速装置を提供する。タンデム加速装置は、イオン源2から引き出される負イオン(D-)を静電加速する低エネルギー側加速管、入射する前記負イオン(D-)を正イオン(D+)に変換する電荷交換器、および変換された正イオン(D+)を再び静電加速する高エネルギー側加速管が、圧力タンク内にこの順序で収容されている。電荷交換器は、高融点金属で作製された複数の板61が、所定の間隔を隔てて並列に並べられて構成されたものであり、複数の板61の一方の面61Sは滑らかな表面を持ち、各板61は負イオン(D-)の入射方向に対して一方の面61Sのなす角度が10度以下となるように設置され、負イオン(D-)は板61の一方の面61Sで反射して正イオン(D+)に変換される。 | ||||||
| 74 | Tumor treatment apparatus for treating tumors using charged particles accelerated by the synchrotron | JP2011510454 | 2009-05-21 | JP5450602B2 | 2014-03-26 | エゴロヴィチ バラキン、ウラジミール |
| 75 | Charged particle beam extraction method and apparatus used in combination with a charged particle cancer treatment system | JP2011510456 | 2009-05-21 | JP2011523169A | 2011-08-04 | エゴロヴィチ バラキン、ウラジミール |
| 本発明は、癌腫瘍の荷電粒子照射と併用する荷電粒子ビーム抽出方法及び装置を有する。 そのシステムは、高周波空洞システムを使用して荷電粒子の流れのベータトロン振動を誘導する。 荷電粒子の流れの十分な振幅変調によって、荷電粒子の流れは箔などの部材を叩く。 箔は荷電粒子の流れのエネルギーを低下させ、シンクロトロン１３０内の荷電粒子の流れの曲率半径が十分に小さくし、エネルギーが低下した荷電粒子の流れを最初の荷電粒子の流れから物理的に分離することができる。 次に、物理的に分離された荷電粒子の流れは、供給される磁場及び偏向器の使用によって、シンクロトロン１３０から取り除かれる。
【選択図】図４ |
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| 76 | A charged particle beam accelerating method and apparatus as part of the charged particle cancer therapy system | JP2011510454 | 2009-05-21 | JP2011521425A | 2011-07-21 | エゴロヴィチ バラキン、ウラジミール |
| 本発明は、癌腫瘍の多軸荷電粒子照射治療の一部として使用される荷電粒子ビーム加速方法及び装置を有する。 加速器は、方向転換磁石、エッジ・フォーカス磁石、磁場収束磁石、及び抽出の利点を有するシンクロトロン、及び、シンクロトロンの全体のサイズを最小にし、厳しく制御された陽子ビームを供給し、必要な磁場のサイズを直接低減し、必要な動作電力を直接低減し、及びシンクロトロンから陽子を抽出する処理中であってもシンクロトロンにおける陽子の連続的な加速を可能にし、抽出された荷電粒子ビームのエネルギー及び強度を独立して制御する制御要素を備えている。
【選択図】図２ |
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| 77 | 電荷中和装置 | JP2006513892 | 2005-05-24 | JPWO2005117059A1 | 2008-04-03 | 伊藤 裕之; 裕之 伊藤; 訓之 作道; 佐々木 雄一朗; 雄一朗 佐々木; 水野 文二; 文二 水野 |
| 5eV以下望ましくは2eVの水準の低エネルギーの電子を供給することで最先端デバイスに対してもイオン注入によるチャージアップと電子によるダメージをなくし、且つ、大面積の基板(113)に対応できる電荷中和器を提供する。マイクロ波発生手段(104)と、前記マイクロ波発生手段で発生せしめられたマイクロ波によって電子プラズマを発生するプラズマ生成手段(101)と、前記プラズマ生成手段で生成された電子プラズマを、イオンビームを含むビームプラズマ領域に接触させる接触手段(107)とを備えたことを特徴とする。 | ||||||
| 78 | Extreme-ultraviolet light source device | JP2006148054 | 2006-05-29 | JP2007317598A | 2007-12-06 | KOMORI HIROSHI; ENDO AKIRA |
| <P>PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently ionize neutral particles emitted from plasma, in an extreme-ultraviolet light source device discharging debris containing high-speed ions and neutral particles by the action of a magnetic field. <P>SOLUTION: This extreme-ultraviolet light source device includes: a target supply device 11, a target nozzle 12 and a laser device 15 for generating plasma emitting at least extreme-ultraviolet light by a pulse operation; an EUV focusing mirror 17 focusing the extreme-ultraviolet light emitted from the plasma; a microwave generator 20, a microwave waveguide 21 and a microwave antenna 22 for ionizing neutral particles emitted from the plasma by radiating microwaves by a pulse operation to a space with a magnetic field formed therein to generate cyclotron resonance; and electromagnetic coils 19a and 19b generating the magnetic field and forming a magnetic field for trapping at least the ionized particles. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT | ||||||
| 79 | Charge exchange device for a charged particle accelerator | JP2002555423 | 2001-12-20 | JP2004523742A | 2004-08-05 | バーレット，ポール; ファーフィー，ポール; ラフォンテーヌ，マーヴィン・アール |
| 【課題】イオンビーム加速器に典型的に使用される電荷交換装置が，電荷交換チェンバーを画成し，イオンビームが当該電荷交換管に出入りできるようにするビーム口を画成する電荷交換管と，電荷交換管の外に取り付けられる収納管（電荷交換材のための入口をもつ），ならびに電荷交換管と収納管との間に取り付けられる，少なくともひとつの中間管を含む。 電荷交換管および少なくともひとつの中間管は，電荷交換チェンバーに入り，そこを通る，電荷交換材のカラム状流を可能にするために，電荷交換チェンバーの向かい合う側で整列した，流れ口の少なくともひとつのｓセットを有する。 電荷交換材の，ビーム口からの漏れは，従来技術の電荷交換装置と比較して減少する。 | ||||||
| 80 | Method for manufacturing gas sensor element | JP2002302212 | 2002-10-16 | JP2004138451A | 2004-05-13 | IWATA ATSUSHI |
| <P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a gas sensor element with less variation in responsiveness. <P>SOLUTION: A radius R of a solid electrolytic body 10 is measured at a radius measuring position A on a protective layer forming surface of the electrolytic body 10. A molten material for a protective layer is sprayed on the forming surface by using a plasma spraying device to form a protective layer 12. A radius S of the electrolytic body 10 including the protective layer 12 is measured at an intersection point B of a normal line in the measuring position A with the surface of the protective layer. With a difference between S and R regarded as the thickness of the protective layer 12, the amount of material sprayed by the spraying device for the protective layer is controlled based on the thickness, thereby forming the protective layer 12 equipped with a desired thickness. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO | ||||||
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