| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 对准传感器、光刻设备和对准方法 | CN201480025903.3 | 2014-04-25 | CN105190446B | 2017-02-08 | A·J·登博夫; S·马蒂杰森; P·蒂内曼斯 |
| 公开了一种对准传感器及相关方法，包括诸如白光源之类的照明源，具有可操作成在取决于波长的角度下的衍射高阶辐射的照明光栅；以及用于将衍射的辐射从至少两个相反方向递送至对准光栅上的照明光学器件。针对入射在对准光栅上的每个分量波长、以及针对每个方向，从两个相对方向的一个入射的辐射的第零阶衍射重叠了从另一方向入射的辐射的高阶衍射。这采用重叠的第零阶衍射光学放大了高阶衍射。 | ||||||
| 2 | 用于对准的照明装置和具有该照明装置的曝光装置 | CN201110346598.6 | 2011-11-04 | CN102466983A | 2012-05-23 | 种村次记; 中岛裕; 名古屋淳; 大矢佳幸 |
| 本发明涉及用于对准的照明装置和具有该照明装置的曝光装置。在CCD摄像机(3)周围对标记进行照明的环形照明装置(1)具有：照明装置(1)、照明亮度控制装置(10)、照明高度控制装置(11)、照明颜色控制装置(12)以及控制上述这些装置的控制器(5)，所述照明装置1在照明高度和照明颜色的组合为K＝1到M，且将照明亮度以1％为一步，从1％变为100％的情况下，通过CCD摄像机(3)对标记进行检测，并且由对比度检测/确定装置(23)对标记对比度进行检测以及由变换检测/确定装置(24)对变化进行检测，随后基于所述变化确定最佳照明条件。 | ||||||
| 3 | 用于光刻设备中的晶片粗对准的方法 | CN200910126844.X | 2009-03-20 | CN101539725B | 2011-04-13 | 帕特里克·沃纳阿; 法兰西斯卡·戈德弗瑞德斯·卡斯珀·碧嫩 |
| 本发明公开了一种用于光刻设备中的晶片粗对准的方法，其中，衬底包括在划线中的标记，所述划线沿作为第一方向的纵向方向延伸。所述标记具有在所述第一方向上的周期性结构。所述方法包括：提供照射束，用于在垂直于标记的周期性结构的方向上沿跨过所述标记的第一扫描路径扫描所述标记；沿跨过所述标记的第二扫描路径扫描照射束斑，所述第二扫描路径平行于所述第一扫描路径，其中，相对于所述第一扫描路径将所述第二扫描路径被移动了第一位移，所述第一位移对应于所述周期性结构的重复距离的一部分。 | ||||||
| 4 | 用于确定两个基本平面元件之间的相对位置的装置 | CN200680033039.7 | 2006-08-11 | CN101263433A | 2008-09-10 | R·库尔茨; M·坎农; W·胡伯切; H·格鲁姆 |
| 本发明涉及一种用于确定两个基本平面元件之间在X－Y平面中的相对位置的装置，这两个基本平面元件沿Z方向隔开且基本彼此叠置，其中，所述装置具有至少一个光学传感器，该光学传感器设置在元件之间，且能够传感元件的相互面对的表面的至少两个点，所述装置还具有计算单元，在该计算单元中，可以相对于在X－Y平面中的相对位置来计算图像点。在这种情况下，光学传感器具有至少一个线传感器，该线传感器可以相对于两个元件移位，以使元件的相互面对的表面可以扫描器的方式至少局部地被光学扫描。 | ||||||
| 5 | 位置测量方法、位置测量设备、光刻设备以及装置制造方法、光学元件 | CN201380026279.4 | 2013-02-07 | CN104321703B | 2017-09-22 | J·克洛泽; A·登博夫; S·马蒂杰森 |
| 设备(AS)测量在光刻衬底(W)上的标记(202)的位置。照射装置(940、962、964)从至少第一和第二区域提供离轴辐射。第一和第二源区域相对于光轴(O)在直径上彼此相对并且限定在角范围内。区域可以是根据被测量的标记的周期性方向而选择的小光斑，或者更大区段。可以通过在单个源馈送位置提供辐射至自参考干涉仪而产生在源区域的所选配对处的辐射。改良的半波片位于干涉仪的下游，其可以用于位置测量设备中。改良的半波片使其在一个部分中的主轴相对于在直径上相对的另一部分中的快轴成45°。 | ||||||
| 6 | 用于交互式图像标注的系统与方法 | CN201280054843.9 | 2012-10-30 | CN103918008B | 2017-08-08 | T·比洛; K·梅茨; M·贝格特尔特 |
| 一种用于实现对图像102的交互式标注的系统100，包括用户输入部160，其用于接收来自用户的放置命令162，所述放置命令指示标记140在图像102中的第一放置位置；以及处理器180，其被布置为(i)对所述图像中的区域130应用图像处理算法，所述区域基于所述第一放置位置，并且所述图像处理算法对视觉上与所述标记140相对应的图像部分作出响应，用于建立一方面、所述标记与另一方面、所述区域内的多个图像部分(132、134、136、138)之间的多个匹配度，(ii)根据所述多个匹配度和相应的多个图像部分建立第二放置位置，用于将所述标记匹配到所述图像中的所述区域，并且(iii)将所述标记140放置在所述图像102中的所述第二放置位置处。 | ||||||
| 7 | 一种步进式光刻机对位监控方法 | CN201410295485.1 | 2014-06-26 | CN105223781A | 2016-01-06 | 姚振海 |
| 本发明提供了一种步进式光刻机对位监控方法，包括提供包括多个视场的测试版，基于每个视场得出一组overlay值；根据每个视场的overlay值计算一组补偿量；将产品的对位补偿值与每一个视场的每组补偿量进行比较，利用产品的对位补偿值对该产品进行对位补偿，其中，该产品的对位补偿值与其中一个视场的一组补偿量接近。本发明兼顾了各种视场的产品，不论视场大小，均可以做到精确补偿，可以加工前就给出预估补偿值，大大降低对位偏移发生的概率，本发明在不增加成本与人力的基础上，有效的改善对位控制。 | ||||||
| 8 | 用于对准的照明装置和具有该照明装置的曝光装置 | CN201110346598.6 | 2011-11-04 | CN102466983B | 2015-02-18 | 种村次记; 中岛裕; 名古屋淳; 大矢佳幸 |
| 本发明涉及用于对准的照明装置和具有该照明装置的曝光装置。在CCD摄像机(3)周围对标记进行照明的环形照明装置(1)具有：照明装置(1)、照明亮度控制装置(10)、照明高度控制装置(11)、照明颜色控制装置(12)以及控制上述这些装置的控制器(5)，所述照明装置1在照明高度和照明颜色的组合为K＝1到M，且将照明亮度以1％为一步，从1％变为100％的情况下，通过CCD摄像机(3)对标记进行检测，并且由对比度检测/确定装置(23)对标记对比度进行检测以及由变换检测/确定装置(24)对变化进行检测，随后基于所述变化确定最佳照明条件。 | ||||||
| 9 | 位置测量方法、位置测量设备、光刻设备以及装置制造方法、光学元件 | CN201380026279.4 | 2013-02-07 | CN104321703A | 2015-01-28 | J·克洛泽; A·登博夫; S·马蒂杰森 |
| 设备(AS)测量在光刻衬底(W)上的标记(202)的位置。照射装置(940、962、964)从至少第一和第二区域提供离轴辐射。第一和第二源区域相对于光轴(O)在直径上彼此相对并且限定在角范围内。区域可以是根据被测量的标记的周期性方向而选择的小光斑，或者更大区段。可以通过在单个源馈送位置提供辐射至自参考干涉仪而产生在源区域的所选配对处的辐射。改良的半波片位于干涉仪的下游，其可以用于位置测量设备中。改良的半波片使其在一个部分中的主轴相对于在在直径上相对的另一部分中的快轴成45°。 | ||||||
| 10 | 光学设备、位置检测设备、显微镜设备以及曝光设备 | CN201210405108.X | 2012-10-23 | CN103091840A | 2013-05-08 | 山口渉; 稻秀树 |
| 本发明提供了光学设备、位置检测设备、显微镜设备以及曝光设备。该光学设备包括：孔径光阑，包括第一孔和第二孔并且被固定在照明光学系统的光瞳面上，第一孔被配置为将用于照射照明表面的照明条件限定为第一条件，第二孔被配置为将照明条件限定为第二条件；遮光板；以及驱动单元，被配置为在将照明条件设定为第一条件时定位遮光板以使得遮光区域遮蔽从光源通过第二孔延伸到照明表面的第二路径，以及在将照明条件设定为第二条件时定位遮光板以使得遮光区域遮蔽从光源通过第一孔延伸到照明表面的第一路径。 | ||||||
| 11 | 一种步进式光刻机对位监控方法 | CN201410295485.1 | 2014-06-26 | CN105223781B | 2017-06-23 | 姚振海 |
| 本发明提供了一种步进式光刻机对位监控方法，包括提供包括多个视场的测试版，基于每个视场得出一组overlay值；根据每个视场的overlay值计算一组补偿量；将产品的对位补偿值与每一个视场的每组补偿量进行比较，利用产品的对位补偿值对该产品进行对位补偿，其中，该产品的对位补偿值与其中一个视场的一组补偿量接近。本发明兼顾了各种视场的产品，不论视场大小，均可以做到精确补偿，可以加工前就给出预估补偿值，大大降低对位偏移发生的概率，本发明在不增加成本与人力的基础上，有效的改善对位控制。 | ||||||
| 12 | 一种离轴对准系统及对准方法 | CN201210402248.1 | 2012-10-19 | CN103777476B | 2016-01-27 | 张鹏黎; 徐文; 王帆 |
| 本发明涉及一种离轴对准系统及方法，该系统包括照明模块、干涉模块及探测模块，照明模块包括光源、多波长入射光纤及分光元件；干涉模块包括偏振分束器，偏振分束器与照明模块和探测模块所在的一侧相对的一侧设有第一1/4波片和第一反射镜，偏振分束器的另外两侧分别设有第二1/4波片、角锥棱镜和第三1/4波片、第二反射镜及透镜，第二反射镜位于透镜的后焦面上，角锥棱镜的底面中心位于透镜的光轴上；探测模块包括探测透镜组、偏振装置、探测光纤及光电探测器。采用离轴对准系统的光栅二次衍射技术，入射光束先后两次经过对准标记，且第二次衍射光束方向与原入射方向完全相反，以确保对准标记倾斜和/或离焦时，探测结果不会受到影响。 | ||||||
| 13 | 对准传感器、光刻设备和对准方法 | CN201480025903.3 | 2014-04-25 | CN105190446A | 2015-12-23 | A·J·登博夫; S·马蒂杰森; P·蒂内曼斯 |
| 公开了一种对准传感器及相关方法，包括诸如白光源之类的照明源，具有可操作成在取决于波长的角度下的衍射高阶辐射的照明光栅；以及用于将衍射的辐射从至少两个相反方向递送至对准光栅上的照明光学器件。针对入射在对准光栅上的每个分量波长、以及针对每个方向，从两个相对方向的一个入射的辐射的第零阶衍射重叠了从另一方向入射的辐射的高阶衍射。这采用重叠的第零阶衍射光学放大了高阶衍射。 | ||||||
| 14 | 压印装置以及物品的制造方法 | CN201410327893.0 | 2014-07-10 | CN104281003A | 2015-01-14 | 篠田健一郎 |
| 本发明提供一种压印装置以及物品的制造方法，所述压印装置通过使用模具将图案形成在基板上的压印材料上，所述压印装置包括：第一光学元件，其被置于照明光学系统和检测光学系统与模具之间，并且被构造为将来自所述照明光学系统的第一光和来自所述检测光学系统的第二光引导到所述模具；以及第二光学元件，其被置于所述第一光学元件与所述检测光学系统之间，并且被构造为透射由形成在所述模具上的标记或形成在所述基板上的标记反射、通过所述第一光学元件向所述检测光学系统行进的所述第二光，并遮断通过所述第一光学元件向所述检测光学系统行进的所述第一光。 | ||||||
| 15 | 用于交互式图像标注的系统与方法 | CN201280054843.9 | 2012-10-30 | CN103918008A | 2014-07-09 | T·比洛; K·梅茨; M·贝格特尔特 |
| 一种用于实现对图像102的交互式标注的系统100，包括用户输入部160，其用于接收来自用户的放置命令162，所述放置命令指示标记140在图像102中的第一放置位置；以及处理器180，其被布置为(i)对所述图像中的区域130应用图像处理算法，所述区域基于所述第一放置位置，并且所述图像处理算法对视觉上与所述标记140相对应的图像部分作出响应，用于建立一方面、所述标记与另一方面、所述区域内的多个图像部分(132、134、136、138)之间的多个匹配度，(ii)根据所述多个匹配度和相应的多个图像部分建立第二放置位置，用于将所述标记匹配到所述图像中的所述区域，并且(iii)将所述标记140放置在所述图像102中的所述第二放置位置处。 | ||||||
| 16 | 一种离轴对准系统及对准方法 | CN201210402248.1 | 2012-10-19 | CN103777476A | 2014-05-07 | 张鹏黎; 徐文; 王帆 |
| 本发明涉及一种离轴对准系统及方法，该系统包括照明模块、干涉模块及探测模块，照明模块包括光源、多波长入射光纤及分光元件；干涉模块包括偏振分束器，偏振分束器与照明模块和探测模块所在的一侧相对的一侧设有第一1/4波片和第一反射镜，偏振分束器的另外两侧分别设有第二1/4波片、角锥棱镜和第三1/4波片、第二反射镜及透镜，第二反射镜位于透镜的后焦面上，角锥棱镜的底面中心位于透镜的光轴上；探测模块包括探测透镜组、偏振装置、探测光纤及光电探测器。采用离轴对准系统的光栅二次衍射技术，入射光束先后两次经过对准标记，且第二次衍射光束方向与原入射方向完全相反，以确保对准标记倾斜和/或离焦时，探测结果不会受到影响。 | ||||||
| 17 | 具有二维对准测量装置的光刻设备和二维对准测量方法 | CN200510003559.0 | 2005-12-22 | CN1794089B | 2010-04-07 | F·B·M·范比森 |
| 光刻设备具有用来移动带有标记(M3)的对象的执行器，所述标记具有多个排列成行和列的结构(19)。对准装置包括光源、光学系统和检测器。光源和光学系统产生在与列平行的第一方向延伸的第一斑点部分(24x)和在与行平行的第二方向延伸的第二斑点部分(24y)。光学系统把对准辐射束射向标记(M3)，接收从标记(M3)返回的对准辐射，并把对准辐射传送给检测器。检测器把对准信号传送给处理器，处理器根据对准信号计算标记(M3)的二维位置。 | ||||||
| 18 | 用于光刻设备中的晶片粗对准的方法 | CN200910126844.X | 2009-03-20 | CN101539725A | 2009-09-23 | 帕特里克·沃纳阿; 法兰西斯卡·戈德弗瑞德斯·卡斯珀·碧嫩 |
| 本发明公开了一种用于光刻设备中的晶片粗对准的方法，其中，衬底包括在划线中的标记，所述划线沿作为第一方向的纵向方向延伸。所述标记具有在所述第一方向上的周期性结构。所述方法包括：提供照射束，用于在垂直于标记的周期性结构的方向上沿跨过所述标记的第一扫描路径扫描所述标记；沿跨过所述标记的第二扫描路径扫描照射束斑，所述第二扫描路径平行于所述第一扫描路径，其中，相对于所述第一扫描路径将所述第二扫描路径被移动了第一位移，所述第一位移对应于所述周期性结构的重复距离的一部分。 | ||||||
| 19 | 具有二维对准测量装置的光刻设备和二维对准测量方法 | CN200510003559.0 | 2005-12-22 | CN1794089A | 2006-06-28 | F·B·M·范比森 |
| 光刻设备具有用来移动带有标记(M3)的对象的执行器，所述标记具有多个排列成行和列的结构(19)。对准装置包括光源、光学系统和检测器。光源和光学系统产生在与列平行的第一方向延伸的第一斑点部分(24x)和在与行平行的第二方向延伸的第二斑点部分(24y)。光学系统把对准辐射束射向标记(M3)，接收从标记(M3)返回的对准辐射，并把对准辐射传送给检测器。检测器把对准信号传送给处理器，处理器根据对准信号计算标记(M3)的二维位置。 | ||||||
| 20 | SYSTEM AND METHOD FOR INTERACTIVE IMAGE ANNOTATION | EP12809334.1 | 2012-10-30 | EP2751780A1 | 2014-07-09 | BUELOW, Thomas; MEETZ, Kirsten; BERGTHOLDT, Martin |
| A system 100 for enabling interactive annotation of an image 102, comprising a user input 160 for receiving a placement command 162 from a user, the placement command being indicative of a first placement location of a marker 140 in the image 102, and a processor 180 arranged for (i) applying an image processing algorithm to a region 130 in the image, the region being based on the first placement location, and the image processing algorithm being responsive to image portions which visually correspond to the marker 140 for establishing a plurality of match degrees between, on the one hand, the marker, and, on the other hand, a plurality of image portions within the region, (ii) establishing a second placement location in dependence on the plurality of match degrees and the respective plurality of image portions for matching the marker 140 to the region in the image, and (iii) placing the marker 140 at the second placement location in the image 102. | ||||||
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