| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 21 | 微型透镜阵列的制造方法和微型透镜阵列 | CN201080013593.5 | 2010-03-11 | CN102362201A | 2012-02-22 | 吉村正太; 佐佐木胜 |
| 本发明提供一种微型透镜阵列的制造方法和微型透镜阵列。该微型透镜阵列的制造方法是在一个面上具有多个突出成大致半球面状的微型透镜的微型透镜阵列的制造方法，其包括：抗蚀剂形成工序，其用于在作为微型透镜的材料层的有机膜层上形成抗蚀剂层，该抗蚀剂层用于形成微型透镜的形状；蚀刻工序，其用于使用氟混合气体对已形成的抗蚀剂层以及有机膜层进行蚀刻，该混合气体是使含有氢的分子以及含有氟素的分子混合而成的。 | ||||||
| 22 | 一种全息闪耀光栅制作方法 | CN201110318454.X | 2011-10-19 | CN102360093A | 2012-02-22 | 刘全; 吴建宏; 陈明辉 |
| 本发明是一种全息闪耀光栅的制作方法，通过先在基片上制作同质光栅，以该同质光栅为掩模，进行斜向离子束刻蚀得到所需的闪耀光栅。由于在制作同质光栅时，可以控制正向离子束刻蚀的时间，使同质光栅的槽深得到精确控制，另外在干涉光刻得到光刻胶光栅之后，可以进一步增加灰化工艺，控制光刻胶光栅的占宽比，从而控制所需的同质光栅的占宽比，因此本发明的制作方法实现了制作闪耀光栅的多参数控制，提高了制作精度。 | ||||||
| 23 | 用于制备抗蚀剂基底的方法 | CN200480005071.5 | 2004-02-24 | CN1754128B | 2011-09-28 | 威蒂克·考尔 |
| 本发明涉及一种用于制备具有成起伏结构形式的抗蚀剂层的基底的方法，该起伏结构代表衍射结构。该抗蚀剂至少在一定区域与导电层相邻，导电层在通过电子束对抗蚀剂层曝光时散射一次电子和/或产生二次电子。使用这种方法，将抗蚀剂层和导电层的材料和曝光参数彼此调节来使得抗蚀剂在与电子束相碰撞的区域之外也被曝光，从而起伏结构的侧面获得倾斜的形状。 | ||||||
| 24 | 光固化性组合物及表面具有精细图案的成形体的制造方法 | CN200980118452.7 | 2009-05-13 | CN102027026A | 2011-04-20 | 川口泰秀 |
| 本发明提供可获得兼具脱模性及高折射率的固化物的光固化性组合物，以及可制造表面具有模具的反转图案被精确地转印的精细图案的高折射率的成形体的方法。该光固化性组合物包含61～90质量％的固化前的波长589nm处的折射率在1.55以上且具有2个以上的(甲基)丙烯酰氧基的化合物(A)、2～15质量％的含氟原子且具有1个以上的碳—碳不饱和双键的化合物(B)(但化合物(A)除外)、5～35质量％的具有1个(甲基)丙烯酰氧基的化合物(C)(但化合物(B)除外)及1～12质量％的光聚合引发剂(D)((A)+(B)+(C)+(D)＝100质量％)。 | ||||||
| 25 | 半导体掩埋型光栅制造方法 | CN200980115752.X | 2009-03-27 | CN102017064A | 2011-04-13 | Y·李; K·宋; N·J·维索弗斯基; C·扎 |
| 本发明描述了一种用来在半导体激光器结构中形成光栅轮廓的方法，所述方法包括以下步骤：提供半导体晶片，该半导体晶片包括晶片基片，置于所述晶片基片上的蚀刻停止层，置于所述蚀刻停止层上的光栅层，置于所述光栅层上的蚀刻掩模层，以及置于所述蚀刻掩模层上的光刻胶层；形成光刻胶光栅图案；通过干蚀刻将所述光刻胶光栅图案转移到所述光栅层中；除去所述光刻胶层；对所述光栅层进行选择性湿蚀刻，从而在光栅层中形成光栅轮廓。通过在所述蚀刻掩模层和蚀刻停止层之间设置光栅层，对选择性湿蚀刻步骤加以控制。所述方法还包括在不改变所述光栅轮廓的前提下，通过选择性湿蚀刻除去所述蚀刻掩模层，再生长上覆层，从而制得所述半导体激光器结构。 | ||||||
| 26 | 用于形成微透镜的图案掩模、图像传感器及其制造方法 | CN200710198995.7 | 2007-12-11 | CN101201539B | 2011-03-23 | 全承镐 |
| 本发明提供一种用于形成微透镜的图案掩模、图像传感器及其制造方法。其中用于形成微透镜的图案掩模包括掩模图案部，其对应于矩阵形式的像素区域交错排列，其中所述掩模图案部的相邻角相互重叠。 | ||||||
| 27 | 制造衍射光栅元件的方法 | CN200580052106.5 | 2005-11-18 | CN101313234B | 2011-01-05 | P·拉科南; T·勒沃拉 |
| 一种光学衍射光栅(10)通过提供具有多个倾斜凹槽(58)的模具(50)来制造，所述倾斜凹槽(58)具有小隙角(γ)。模具(50)被可固化材料(M1)覆盖。所述材料随后被固化，即，被硬化，并从模具(50)分离以提供衍射光栅(10)。凹槽(58)的倾斜方向允许光栅在固化和分离步骤期间膨胀或收缩，以使模具损坏的可能性可被降低。凹槽的倾斜方向也可以便于光栅(10)从模具(50)的分离。 | ||||||
| 28 | 光学部件用树脂组合物和使用其的光学部件 | CN201010180960.2 | 2010-05-13 | CN101885899A | 2010-11-17 | 野吕弘司; 中桥明子; 伊藤久贵 |
| 本发明涉及一种光学部件用树脂组合物和使用其的光学部件，所述树脂组合物为用作光学部件用材料的可紫外线固化的透明树脂组合物，其中所述树脂成分包括作为主成分的如下成分(A)和作为光致阳离子聚合引发剂的如下成分(B)：(A)在一个分子中具有两个以上环氧基的环氧树脂；和(B)含有作为阴离子成分的六氟磷酸根离子的鎓盐。 | ||||||
| 29 | 图像传感器的微透镜掩模及其用于形成微透镜的方法 | CN200910266346.5 | 2009-12-24 | CN101762969A | 2010-06-30 | 金钟满 |
| 本发明提供一种图像传感器的微透镜掩模及其用于形成微透镜的方法。在该方法中，在包括光电二极管和晶体管的半导体衬底上形成绝缘层。在绝缘层上形成钝化层。在垂直对应于光电二极管的绝缘层上形成穿过钝化层的滤色镜层。在半导体衬底的整个表面之上形成微透镜光致抗蚀剂层。在与滤色镜层相对应的微透镜光致抗蚀剂上形成微透镜掩模。以大约450/0至550/0曝光量/焦距(dose/focus)的光强执行一次曝光工艺；使微透镜光致抗蚀剂层图案化以通过除去经过曝光工艺的光致抗蚀剂形成图案化的微透镜光致抗蚀剂层。回流该图案化的微透镜光致抗蚀剂层以形成该微透镜。 | ||||||
| 30 | 间隔片阵列及其制作方法 | CN200810304233.5 | 2008-08-27 | CN101661145A | 2010-03-03 | 庄信弘 |
| 本发明提供一种间隔片阵列，该间隔片阵列具有多个阵列排布的通孔和围绕该通孔的遮光区，该间隔片阵列的材料为黑化的聚二甲基硅氧烷。本发明还提供一种上述间隔片的制作方法。本发明采用黑化的聚二甲基硅氧烷材料制作间隔片，原材料成本低，在制作过程中，利用旋转涂布法可以有效地控制聚二甲基硅氧烷材料层的厚度，从而降低间隔片厚度。且利用灰阶光罩可避免繁琐的对准流程，从而适合大批量生产。 | ||||||
| 31 | 表面凹凸的制作方法 | CN200880008970.9 | 2008-03-19 | CN101636671A | 2010-01-27 | 饵取英树 |
| 本发明提供一种使用光掩模，可轻易且以高精度形成所希望的凹凸形状的表面凹凸的制作方法。在包含感光性树脂组合物的感光膜(10)的一侧，相对于感光膜(10)隔着间隔而配置具有光透射部与光不透射部的掩模构件(20)，在掩模构件(20)的感光膜(10)的相反侧配置光扩散构件(30)。从配置在光扩散构件(30)的掩模构件(20)的相反侧的光源照射光，通过光扩散构件(30)与掩模构件(20)的光透射部而将感光膜(10)进行曝光。利用显影来除去感光膜(10)的曝光部或未曝光部，在感光膜(10)制作取决于曝光部或未曝光部的形状的凹凸。在进行曝光时，控制光扩散构件(30)的浊度等曝光条件，控制曝光部或未曝光部的形状。 | ||||||
| 32 | 用于形成微透镜的图案掩模、图像传感器及其制造方法 | CN200710198995.7 | 2007-12-11 | CN101201539A | 2008-06-18 | 全承镐 |
| 本发明提供一种用于形成微透镜的图案掩模、图像传感器及其制造方法。其中用于形成微透镜的图案掩模包括掩模图案部，其对应于矩阵形式的像素区域交错排列，其中所述掩模图案部的相邻角相互重叠。 | ||||||
| 33 | 微型光学元件及其制造方法和光掩模 | CN200710138089.8 | 2007-08-15 | CN101153919A | 2008-04-02 | 前野仁典 |
| 本发明提供一种微型光学元件及其制造方法和光掩模，在制造工序中可防止透镜的损伤。微透镜的制造方法包括：把第1抗蚀剂图形作为蚀刻掩模使用，进行将第1抗蚀剂图形的形状转印到基板(20)上的图形化，在透镜形成区域(20X)形成收纳在凹部(13)内的最大高度比凹部的侧壁高度低的透镜主体(16)的工序；和使用第2抗蚀剂图形作为掩模，除去透镜形成区域外的基板的一部分区域，而形成外形的工序。 | ||||||
| 34 | 用于制造带阻滤波器的方法和装置 | CN200710142600.1 | 2007-09-04 | CN101140419A | 2008-03-12 | 金尚俊 |
| 本发明公开了一种用于制造带阻滤波器的方法和装置。在一种方案中，该方法使用全息光刻以生产较小尺寸的带阻滤波器而不需要掩模。 | ||||||
| 35 | 灰度掩模、微透镜及其制造方法、空间光调制装置及投影机 | CN200610162994.2 | 2006-11-30 | CN1975569A | 2007-06-06 | 水迫和久; 上岛俊司 |
| 本发明提供的灰度掩模等，用于以高精度形成微透镜等的具有三维微细结构的光学元件，特别是具备高纵横比的形状的光学元件。为了以预定的图形对抗蚀剂层进行曝光而确定了光透射率的分布的灰度掩模(20)，具备：第1区域(91)，其使得采用相应于第1抗蚀剂形状所曝光了的抗蚀剂层、形成比第1抗蚀剂形状的纵横比高的纵横比的第2抗蚀剂形状地，确定了光透射率的分布；和第2区域(92)，其对用于对抗蚀剂层进行曝光的光进行遮光。 | ||||||
| 36 | 应用高能光源制造微型构造的方法 | CN02105093.7 | 2002-02-20 | CN1291274C | 2006-12-20 | 李承燮; 李成根; 李光哲 |
| 一种应用X射线制造微型构造的方法，包括以下步骤：选择感光材料的一个部位暴露于高能光源中，该选择暴光步骤通过一个用于限定微型构造的图形的光掩模来完成，以及进行仅使感光材料暴光部分的上部熔化和变形的一个热处理步骤，当感光材料暴光部分的上部被暴露于X射线中时，它受到大约1kJ/cm3-20kJ/cm3的能级的作用。 | ||||||
| 37 | 模制的光学面板及其模具 | CN01104295.8 | 2001-03-22 | CN1175309C | 2004-11-10 | 村濑新三; 村田贤三 |
| 利用光致抗蚀剂方法，通过计算机辅助设计(CAD)的图案薄膜14使得光敏聚酰亚胺树脂(12)曝光和显影，从而在模具基底(11)上形成图案。由此形成的模制图案13构建成模具(10)。通过利用带有反光图案(3)的模具(10)形成光学面板(2)，其中的反光图案(3)包括每个几微米和高密度排列的，并且与模制的图案(13)方向相反的圆形或矩形的圆点孔或圆点突起。反光图案(3)以高亮度和高度均匀性对入射光进行光导或漫射，从而实现对不能看穿的反光图案的继发照明。 | ||||||
| 38 | 模压具有光学透明柔顺介质承载的图案的柔性基底的装置 | CN200410007348.X | 2004-03-01 | CN1541852A | 2004-11-03 | A·H·简斯 |
| 本发明披露了一种用于模压具有光学透明柔顺介质(70)的柔性基底(101)的装置(200)。该柔顺介质(70)包括其内具有压印图案(20q)的光学透明压印印模(20t)。该柔性基底(101)涂布有一种感光聚合物材料(301)。柔顺介质(70)可与一光学透明带衬(81)连接以形成模压带(100)或与一光学透明圆筒(69)连接以形成模压滚筒(90)。柔性基底(101)的涂布面(101c)被推动着与压印印模(20t)接触，压印图案(20q)被模压在感光聚合物材料(301)中，穿过柔顺介质(70)的紫外线(L)同时固化模压期间的感光聚合物材料(301)。 | ||||||
| 39 | 聚酰亚胺光学波导管的制造方法 | CN200310118839.7 | 2003-11-28 | CN1504780A | 2004-06-16 | 宗和范; 内藤龙介; 望月周 |
| 聚酰亚胺光学波导管的制造方法，包括(a)在基材上形成包层下层，(b)在该包层下层上形成光敏聚酰亚胺树脂前体组合物层，(c)用紫外线经掩模照射除了相应于芯图案区域之外的光敏聚酰亚胺树脂前体组合物层，随后在曝光后加热，(d)通过显影去掉未紫外线曝光的区域，(e)加热该层中的紫外线曝光区域，使酰亚胺化紫外线曝光区域，形成具有所需图案的包层，(f)用聚酰胺酸涂敷与芯图案对应的区域和包层的一个表面，该聚酰胺酸形成比包层的聚酰亚胺树脂有更高折射率的聚酰亚胺树脂，通过加热使该聚酰胺酸酰亚胺化以形成芯层，和(g)在该芯层上形成包层上层。 | ||||||
| 40 | 微透镜基板的制作方法和微透镜曝光光学系统 | CN200310116489.0 | 2003-11-19 | CN1503039A | 2004-06-09 | 岡田训明; 上田稔 |
| 本发明提供通过利用第1微透镜阵列而对第2微透镜阵列的透镜形状进行制作图形，而使光轴的一致简单化，并能简化制作工序的微透镜基板的制作方法。对作成圆柱形形状的第2微透镜阵列(7)的透镜形状的制作图形，通过将紫外光照射在第1微透镜阵列(4)上来进行。使从可改变位置的线光源射出的光、通过准直透镜(37)和第1微透镜(4)在微透镜焦点面上成像，对通过涂布在其面上形成的保护层(22)进行曝光。通过一边使线光源的位置变化一边进行曝光，能获得所需圆柱形状的保护层图形。然后，进行蚀刻，将保护层图形的形状复制在中间玻璃层(5)上，用高折射率的紫外线硬化树脂埋没凹部。 | ||||||
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