| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 全息记录材料的制造方法以及由其形成的物品 | CN201280004884.7 | 2012-01-06 | CN103299369B | 2016-11-09 | 苏密特·贾殷; 迈克尔·T·塔克莫里; 马克·A·谢弗顿; 维基·H·瓦特金斯; 安德鲁·A·伯恩斯; 穆瓦特耶·辛哈; 马修·弗兰克·尼梅依尔 |
| 描述了一种制造用于显示全息图像的物品的方法，包括热熔融包含分散在透明的热塑性聚合物粘合剂中的光化学活性染料的全息记录介质成为另一个层或材料；然后暴露所述全息膜于相干光的交叉光束以在其中形成通过所述光化学活性染料的光反应区域和所述光化学活性染料的未反应区域形成的全息图像。 | ||||||
| 2 | 具有可调节的机械模量Guv的光聚合物配制品 | CN201080060565.9 | 2010-10-29 | CN102792377B | 2016-06-01 | M-S·魏泽; T·罗勒; F-K·布鲁德; T·费克; D·赫内尔 |
| 本发明的主题是制造包含具有可调节的机械模量GUV的光聚合物配制品的曝光全息介质的方法。本发明的另一主题是可通过本发明的方法获得的曝光全息介质。 | ||||||
| 3 | 新型非结晶甲基丙烯酸酯、其的制备和应用 | CN201080049781.3 | 2010-11-02 | CN102666469B | 2016-03-02 | T.费克; F-K.布鲁德; M-S.韦泽; T.罗勒; D.赫内尔 |
| 本发明涉及一种新型非结晶甲基丙烯酸酯和其的制备方法。本发明进一步涉及包含本发明的甲基丙烯酸酯的光聚合物制剂以及涉及所述光聚合物制剂用于制备全息介质的应用。 | ||||||
| 4 | 具有酯基书写单体的光聚合物制剂 | CN201180008165.8 | 2011-01-28 | CN102754026B | 2015-10-07 | T.勒莱; F-K.布鲁德; T.费克; M-S.魏瑟尔; D.赫内尔 |
| 本发明涉及包含基质聚合物、书写单体和光引发剂的光聚合物配制品，其中所述书写单体包含式(I)的芳族化合物，其中残基R1、R2、R3、R4、R5、R6的至少一个是经由X键合到芳环上的式(II)的残基，其中在式（II）中，A表示直链或支链的、任选包含氧或氮的烃基链，其它残基R1、R2、R3、R4、R5、R6基团各自彼此独立地为氢或有机残基且R7是氢或甲基。本发明进一步提供所述光聚合物-配制品用于制造全息介质的用途。（I）(II)。 | ||||||
| 5 | 组合物、光学数据存储介质及使用所述光学数据存储介质的方法 | CN201010277377.3 | 2010-08-31 | CN102005220B | 2015-06-03 | A·纳塔拉延; 陈国邦; R·P·让-吉勒斯; R·J·佩里; V·P·奥斯特罗弗霍夫; E·M·金; J·L·李; E·P·博登; P·J·麦克洛斯基; B·L·劳伦斯 |
| 本发明提供了组合物、光学数据存储介质和使用所述光学数据存储介质的方法。所述组合物包含非线性敏化剂，所述非线性敏化剂包含一种或多种能吸收光化辐射而导致向反应物的上能级三线态能量传递的亚酞菁反饱和吸收体，其中所述反应物在三线态激发时将发生光化学变化。 | ||||||
| 6 | 光学数据存储介质及其使用方法 | CN201010277335.X | 2010-08-31 | CN102005213B | 2015-05-13 | A·纳塔拉延; E·P·博登; 陈国邦; P·J·麦克洛斯基; V·P·奥斯特罗弗霍夫; E·M·金; D·G·加斯科伊恩; R·J·佩里; R·P·让-吉勒斯; J·L·李; B·L·劳伦斯 |
| 本发明提供了光学数据存储介质及使用其进行光学数据存储的方法。所述光学数据存储介质包含非线性敏化剂，所述非线性敏化剂能吸收光化辐射而导致向反应物的上能级三线态能量传递，其中所述反应物在三线态激发时将发生变化。所述介质的折射率变化(Δn)至少为约0.005，或甚至至少为约0.05。 | ||||||
| 7 | 表面制备方法 | CN201380033250.9 | 2013-05-23 | CN104508556A | 2015-04-08 | C.纳瓦罗; K.艾索; C.布罗乔; S.迪尔海尔; G.弗勒里; S.格劳拜; G.哈齐奥安诺; J-M.兰普诺克斯; J.沙弗 |
| 本发明涉及通过光强度的空间分布制备促进空间有序性和相干性的具有凸纹的表面的方法，所述表面用作在表面上的覆盖物的在纳米和微米尺度上的组织的导向装置，所述覆盖物特别地由嵌段共聚物制成。 | ||||||
| 8 | 基于自显影聚合物的体全息记录用介质 | CN200980138893.3 | 2009-09-29 | CN102171267B | 2014-09-03 | R.哈根; N.施托克尔; F-K.布鲁德; F.杜贝尔; T.罗勒; T.费克; M-S.魏泽; D.赫内尔 |
| 本发明涉及用于通过曝光引入体全息图的新型自显影胶片、其的制备方法和其用途。 | ||||||
| 9 | 光学数据存储方法 | CN201010277283.6 | 2010-08-31 | CN102005222B | 2014-07-23 | A·纳塔拉延; R·P·让-吉勒斯; 陈国邦; R·J·佩里; V·P·奥斯特罗弗霍夫; E·M·金; 李林庆怀; E·P·博登; P·J·麦克罗斯基; B·L·劳伦斯 |
| 本发明提供了组合物、光学数据存储介质和使用所述光学数据存储的方法。所述组合物包含非线性敏化剂，所述非线性敏化剂包含一种或多种能吸收光化辐射而导致向反应物的上能级三线态能量传递的铂乙炔基络合物，其中所述反应物在三线态激发时将发生光化学变化。 | ||||||
| 10 | 全息记录介质 | CN201280032235.8 | 2012-06-29 | CN103619809A | 2014-03-05 | 山塔拉姆·纳拉亚恩·奈克; 迈克尔·T·塔克莫里; 苏密特·贾殷; 普拉迪普·纳德卡尔尼; 马克·A·谢弗顿; 基兰·阿伦库马尔·普哈马尼; 维诺德库马尔·瓦苏德万; 加里·戴维斯 |
| 本文公开了新型硝酮化合物、包括硝酮化合物和聚合物粘合剂的全息记录介质、制造全息记录介质的方法，其中硝酮化合物作为光致变色染料与聚合物粘合剂混合以形成全息组合物并将全息组合物成型为全息数据记录介质。本文还公开了用于通过将全息记录介质暴露于引起硝酮化合物的化学结构变化的波长下彼此相干的信号和参比光源记录全息图的方法。 | ||||||
| 11 | 用于制备全息介质的光聚合物制剂 | CN201180064451.6 | 2011-11-04 | CN103328526A | 2013-09-25 | D.赫内尔; M-S.魏泽; F-K.布鲁德; T.罗勒; T.法伊克; H.贝内特 |
| 本发明涉及一种光聚合物制剂，包含至少一种多元醇组分、多异氰酸酯组分、书写单体、光引发剂和催化剂，其特征在于所述光聚合物制剂具有≥8300K的活化温度。本发明进一步涉及制备全息介质的方法，可通过本发明方法获得的全息介质和本发明的全息介质用于制备全息图的用途。 | ||||||
| 12 | 丙烯酸苯基酯 | CN200810184243.X | 2008-11-06 | CN101429121B | 2013-09-04 | 森本顺次; 布辰巳; 玉登丰望 |
| 本发明提供了一种具有优异混浊度的光控膜，和能够制备该膜的化合物和组合物。本发明提供了如式(I)所示的丙烯酸苯基酯；一种组合物，其包含丙烯酸苯基酯和至少两种在分子中含有可聚合碳-碳键的化合物；和通过使上述组合物光固化而获得的膜。(其中R代表甲基或氢原子)。 | ||||||
| 13 | 双官能（甲基）丙烯酸酯书写单体 | CN201180049201.5 | 2011-08-10 | CN103153948A | 2013-06-12 | T·法克; 夫里德里克-卡尔·布鲁德; T·罗尔; 马克-斯蒂芬·韦泽; D·奥内尔; H·伯尔尼斯 |
| 本发明涉及式(I)化合物，其中X为CH3或氢，Z为直链或支链C2至C4烷基，R为直链或支链的，任选杂原子取代的脂族、芳族或芳脂族基团，Y各自独立地为氢、甲基、乙基、丙基、正丁基、叔丁基、氯、溴、碘、甲硫基、苯基或苯硫基，n为0至4，并且m为0至5。本发明还涉及该化合物作为光敏聚合物制剂中书写单体的用途。此外，包含至少一种多异氰酸酯组分、多元醇组分、光引发剂和作为书写单体的式(I)化合物的光敏聚合物制剂，以及所述光敏聚合物制剂用于制备全息介质的用途同样是本发明的主题。 | ||||||
| 14 | 全息照相记录材料及全息照相记录介质 | CN200610146400.9 | 2006-11-13 | CN1963668B | 2013-05-01 | 吉成次郎; 林田直树 |
| 本发明提供一种全息照相记录材料及全息照相记录介质，该全息照相记录材料实现高的折射率变化、柔软性、高灵敏度、低散射、耐环境性、耐久性、低收缩性及高多重性，适用于体积型全息照相记录。一种全息照相记录材料，其包含有机金属化合物和光聚合性化合物，其中，所述有机金属化合物至少具有至少2种金属、氧及芳香族基团、且具有2个芳香族基团直接键合在1个金属上的有机金属单元；所述光聚合性化合物至少含有分子内具有1个聚合性官能团的单官能化合物(A)。光聚合性化合物也可以含有分子内具有2个以上聚合性官能团的多官能化合物(B)。一种全息照相记录介质(11)，其具有全息照相记录材料层(21)。 | ||||||
| 15 | 一种制备高衍射效率全息光聚合物材料的可见光光引发体系 | CN201110215653.8 | 2011-07-29 | CN102344504B | 2013-03-13 | 解孝林; 彭海炎; 周兴平; 郑成赋; 葛宏伟 |
| 本发明提供了一种制备高衍射效率全息光聚合物的可见光光引发体系。本发明涉及的光引发体系由光敏剂和共引发剂组成，其原理是光敏剂吸收光子后由基态变为激发态，再与共引发剂作用发生电子和质子转移，生成一个烷基（或芳基）自由基R和一个羰自由基K；其中，自由基R引发可以进行自由基聚合的单体发生加成聚合反应，而自由基K由于位阻作用在一定程度上阻止大分子自由基的链增长反应，从而延迟光聚合反应的凝胶时间，有助于提高聚合物与功能组分之间的相分离。采用该可见光光引发体系，可制得高衍射效率全息光聚合物材料。 | ||||||
| 16 | 用于制备全息介质的基于特定聚醚的聚氨酯配制剂 | CN200910179012.4 | 2009-10-09 | CN101712744B | 2013-02-13 | M·-S·韦泽; T·罗尔; F·-K·布鲁德; T·法克; D·霍内尔; K·洛伦茨; J·霍夫曼 |
| 本发明涉及用于制备全息介质的基于特定的聚醚的聚氨酯配制剂。本发明涉及新型的聚氨酯组合物对于制备全息介质是有利的，尤其用于数据存储，但也可用于不同类型的光学应用。 | ||||||
| 17 | 具有可调节的机械模量Guv的光聚合物配制品 | CN201080060565.9 | 2010-10-29 | CN102792377A | 2012-11-21 | M-S·魏泽; T·罗勒; F-K·布鲁德; T·费克; D·赫内尔 |
| 本发明的主题是制造包含具有可调节的机械模量GUV的光聚合物配制品的曝光全息介质的方法。本发明的另一主题是可通过本发明的方法获得的曝光全息介质。 | ||||||
| 18 | 图案形成材料、图案形成设备和图案形成方法 | CN200580014721.7 | 2005-05-09 | CN1950750B | 2012-10-24 | 佐藤守正; 田代朋子; 高岛正伸; 芹泽慎一郎 |
| 本发明的目的是提供能有效地抑制光敏层的感光度下降和能形成高度精细精确图案的图案形成材料、配备该图案形成材料的图案形成设备和使用所述图案形成材料的图案形成方法。为了达到该目的，提供一种图案形成材料，包含载体和载体上的光敏层，其中光敏层包含阻聚剂、粘合剂、可聚合化合物和光聚合引发剂，光敏层利用激光束曝光，利用显影剂显影，形成图案，显影后产生厚度与曝光前的光敏层厚度基本相同的光敏层所需的最小激光束能量为0.1～10mJ/cm2。 | ||||||
| 19 | 具有不同书写共聚单体的光聚合物制剂 | CN201080060489.1 | 2010-11-02 | CN102667935A | 2012-09-12 | M-S.魏泽; F-K.布鲁德; T.罗勒; T.费克; D.赫内尔; J.霍夫曼 |
| 本发明涉及包含基质聚合物、书写单体和光引发剂的光聚合物制剂，其包含至少两种不同的书写单体的组合。本发明还涉及该光聚合物制剂用于制造光学元件，特别是用于制造全息元件和图像的用途、制造该光聚合物制剂的方法和照射由该光聚合物制剂制成的全息介质的方法。 | ||||||
| 20 | 可以记录反射全息的聚合物液晶感光材料制备方法 | CN200810040805.3 | 2008-07-21 | CN101324752B | 2012-07-25 | 徐良衡; 高芸; 游仁顺; 杨凯; 徐雪雯 |
| 本发明提供了一种可以记录反射全息的聚合物液晶感光材料及其制备方法，所述可以记录反射全息的聚合物液晶感光材料包括基膜和涂复在基膜一侧上的缓冲层、涂复在缓冲层另一侧上的全息感光涂料形成的感光聚合物涂层和覆盖在感光聚合物涂料层表面的表面保护膜。感光聚合物涂层包括如下重量百分比的组分：成膜剂20％～80％，偶氮苯液晶聚合物5％～28％，可聚合单体10％～42％，光引发剂0.5％～7％，光敏剂0.05％～2％。本发明的全息感光薄膜，有较高的灵敏度、反射效率和折射率调制值，储存寿命长，全息图稳定，所记录图像只需经过光固化和热增强处理，便可达到反射效率大于95％的反射图像或双变色图像，适宜于批量化生产。 | ||||||
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