序号 专利名 申请号 申请日 公开(公告)号 公开(公告)日 发明人
201 一种化学机械抛光液以及抛光方法 CN201310727945.9 2013-12-25 CN104745087A 2015-07-01 高嫄; 荆建芬; 陈宝明
发明涉及一种化学机械抛光液,含有研磨颗粒,含的有机化合物,大于或等于0.1mol/Kg的离子强度的电解质离子,含氮化合物及其盐,化学机械抛光液的pH值在1-7之间,且含硅的有机化合物的通式为:其中,R为不能解的取代基,D是连接在R上的有机官能团,其可与有机物质反应而结合,B为相同的或不同的可水解的取代基或羟基,C是可水解基团或羟基,或者不可水解的烷基取代基。
202 一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液及其使用方法 CN201310727942.5 2013-12-25 CN104745086A 2015-07-01 荆建芬; 姚颖; 邱腾飞; 蔡鑫元; 张建
发明公开了一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液及其使用方法,该抛光液包含研磨颗粒、腐蚀抑制剂表面保护剂、络合剂、一种非离子表面活性剂化剂。本发明的化学机械抛光液可以满足阻挡层抛光过程中对各种材料的抛光速率和选择比要求,对半导体器件表面的缺陷有很强的矫正能,快速实现平坦化,且可防止金属抛光过程中产生的局部和整体腐蚀,提高工作效率,降低生产成本。
203 一种化学机械抛光液以及抛光方法 CN201310726697.6 2013-12-25 CN104745082A 2015-07-01 高嫄; 荆建芬; 陈宝明
发明涉及一种化学机械抛光液在提高/氮化硅选择比中的应用,化学机械抛光液包含研磨颗粒,含硅的有机化合物,大于或等于0.1mol/Kg的离子强度的电解质离子,以及含氮化合物,且所述含硅的有机化合物为以下通式,其中,R为不能解的取代基,D是连接在R上的有机官能团,其可与有机物质反应而结合,A,B为相同的或不同的可水解的取代基或羟基,C是可水解基团或羟基,或不可水解的烷基取代基。
204 研磨用研磨剂和使用了其的研磨方法 CN201080007580.7 2010-02-12 CN102318042B 2015-07-01 小野裕; 筱田隆; 冈田悠平
研磨用研磨剂,其含有(A)二元以上的无机酸、(B)基酸、(C)保护膜形成剂、(D)磨粒、(E)化剂和(F),(A)成分的含量为0.08摩尔/千克以上,(B)成分的含量为0.20摩尔/千克以上,(C)成分的含量为0.02摩尔/千克以上,满足下述(i)和(ii)的至少一者。(i)(A)成分的含量与(C)成分的含量的比率为2.00以上。(ii)还含有(G)选自有机酸及其酸酐中的至少一种。
205 添加剂混合物和组合物以及用于抛光玻璃基底的方法 CN201180074736.8 2011-11-09 CN104736651A 2015-06-24 Q.龚; A.黄
发明涉及一种添加剂混合物,该添加剂混合物包括聚丙烯酸盐、酸酯、以及消泡剂。还提供了一种抛光组合物以及一种用于抛光玻璃基底的抛光方法。
206 珠软磨加工液及生产方法 CN201310678349.6 2013-12-14 CN104710940A 2015-06-17 潘德顺; 吕栓锁; 卢建明
发明公开一种珠软磨加工液,所用原料及重量比如下:油酸钠皂6~9%、癸二酸6~9%、聚乙二醇6~9%、浸泡脱脂除油专用表面活性剂6~9%、磷化质调节剂6~9%及水余量。生产方法按如下步骤进行:将计算称量的水加入到反应釜中,开动搅拌器,控制转速为80转/min,再将计算称量的磷化水质调节剂依次加入到反应釜中,搅拌至溶液呈透明状,然后再将计算称量的油酸钠皂、癸二酸、聚乙二醇、浸泡脱脂除油专用表面活性剂、磷化水质调节剂依次徐徐加入到反应釜中,边加料边搅拌,使溶液呈透明液体,放料包装
207 研磨材料再生方法 CN201380038999.2 2013-07-24 CN104703759A 2015-06-10 永井佑树; 前泽明弘; 乾智惠
发明从包含使用过的研磨材料的研磨材料浆料中得到高纯度的再生研磨材料。研磨材料是选自化铈、金刚石、氮化、氧化、氧化铝-氧化锆以及氧化锆中的至少一种,且经由下述工序A~D从包含使用过的研磨材料的研磨材料浆料中再生研磨材料,即,回收包含使用过的研磨材料的研磨材料浆料的浆料回收工序A,该使用过的研磨材料是对主成分为硅的被研磨物3进行研磨得到的;调整回收得到的研磨材料浆料的pH使得pH为7~10的pH调整工序B;向调整过pH的研磨材料浆料中添加作为无机盐的含土金属元素的金属盐,使研磨材料凝聚,从母液分离研磨材料并进行浓缩的分离浓缩工序C;将分离浓缩了的研磨材料固液分离并回收的研磨材料回收工序D。
208 利用高岭石生产抛光粉的方法 CN201510072276.5 2015-02-12 CN104694016A 2015-06-10 易鉴荣; 林荔琍; 唐臻; 吴坚
发明涉及抛光粉的制备领域,具体说是利用高岭石生产抛光粉的方法,其包括将煤系高岭石矿破碎;将破碎后的高岭石磨成颗粒;将颗粒进行一次煅烧,得到高岭石粉;将高岭石粉采用湿法细磨成矿浆并分级;将分级后的矿浆脱并烘干;二次煅烧,将烘干后的矿浆粉末进行二次煅烧,得到抛光粉。本发明采用一次煅烧后可得到硬度较低的粉末,再对粉末进行湿法细磨,可减少能耗;然后对细磨后的粉末添加助白剂进行二次煅烧,提高了产品的白度。
209 金刚石刀具光催化辅助刃磨方法及装置 CN201510105126.X 2015-03-11 CN104669075A 2015-06-03 苑泽伟; 温泉; 于慎波; 杨赫然
发明属于超精密切削加工领域,公开了一种金刚石刀具光催化辅助刃磨方法及装置。其特征是采用纳米二作为主要成分,加入适量的电子捕获剂和磨粒配制抛光液。当紫外线照射抛光盘表面的抛光液时,抛光液中的二氧化钛颗粒表面生成具有强氧化性的羟基自由基,在抛光盘的机械摩擦协同作用下实现金刚石表面材料的微量去除。通过改变紫外线发生器的输入电压调节抛光液的化学氧化作用。本发明的效果和益处是可实现刀具100纳米以下的钝圆半径、纳米和亚纳米级的表面粗糙度和超低损伤的表面质量,有助于提高刀具寿命和工件加工质量。此外,由于采用二氧化钛和高为抛光液的主要成分,不会对人体和环境造成危害,在一定程度上会改善环境污染。
210 一种酸性精密抛光液的制作配方 CN201310583397.7 2013-11-20 CN104650737A 2015-05-27 李涛
发明提供了一种酸性精密抛光液的制作配方,特别是用于抛光宝石饰品的衬底的一种酸性精密抛光液的制作配方。其特征在于,主要成分:金刚石粉末65-75%,磨蚀剂1-3%,重置11-16%,3-6%,适量。本发明的特点是密度精密,摩擦离子颗粒大,其质地坚硬,对极小的地方也能清洁彻底,不留污迹,气味温和,不易留划痕。
211 一种化学机械抛光 CN201010564124.4 2010-11-26 CN102477258B 2015-05-27 王晨; 何华锋
发明公开了一种化学机械抛光液,包括研磨剂,离子、硫酸根离子、过化物以及表面活性剂。该抛光液具有非常高的钨抛光速度,同时显著降低了芯片表面缺陷
212 用于抛光多晶的化学机械抛光液 CN200780029083.5 2007-09-24 CN101558125B 2015-05-20 荆建芬; 杨春晓
发明公开了一种用于抛光多晶的化学机械抛光液,该抛光液包括研磨颗粒和,其还包括一种或多种多元醇型非离子表面活性剂。本发明的抛光液是可以在性条件下较好地抛光多晶硅薄膜的新型的化学机械抛光液。并且还可以显著降低多晶硅的去除速率,调节多晶硅与化硅的选择比,显著提高多晶硅的平坦化效率。
213 一种法兰专用复合研磨剂及其制备方法 CN201510028251.5 2015-01-20 CN104610879A 2015-05-13 夏明锁
发明公开了一种法兰专用复合研磨剂及其制备方法,涉及阀门制造技术领域,由如下质量分数的原料制成:60-65%、藻土5-8%、金刚砂3-5%、化铬3-5%、白炭黑2-3%、腻子粉2-3%、硅酸1-2%、聚乙烯醇1-2%、明胶0.5-1%、淀粉0.5-1%、油酸2-3%、乙醇5-10%、5-10%。本发明以碳化硼为主要磨料,并添加适量辅助磨料和分散剂,制得的研磨剂呈粉末,性质稳定,储存和运输方便;使用时只需加入适量水调成稠状涂覆于待研磨法兰上,能够加速研磨过程,增强研磨效果,并且对研具具有一定的保护作用。
214 高光亮性抛光膏及其制备方法和应用 CN201510011773.4 2015-01-09 CN104592901A 2015-05-06 杨趁芬; 何成龙; 何源; 佘晨
发明公开了一种高光亮性抛光膏及其制备方法和应用,其中,所述制备方法包括:将硬脂酸石蜡、棕榈蜡、蜂蜡和乙醇浴加热,得到混合物M1;向混合物M1中加入化钙,得到高光亮性抛光膏;其中,相对于100重量份的所述硬脂酸,所述石蜡的用量为5-50重量份,所述棕榈蜡的用量为5-50重量份,所述乙醇的用量为1-30重量份,所述碳酸钙的用量为50-150重量份,所述氧化钙的用量为50-150重量份,所述蜂蜡的用量为1-30重量份。本发明将硬脂酸、石蜡、棕榈蜡、乙醇、碳酸钙、氧化钙和蜂蜡混合后,使得通过该配比制得的抛光膏在实际使用时能有效提升金属表面光泽度,进而使该金属抛光效果得到有效的保证。
215 轮胎光亮剂配方 CN201310521129.2 2013-10-30 CN104592900A 2015-05-06 梁松杰
发明公开了一种轮胎光亮剂配方,其组分按质量百分比配比为:聚酯乳液4~50%,液体蜡0~30%,油0~30%,防腐剂0.01~1%,消泡剂0.001~1%,余量为水。配方各组分配置合理,生产出的轮胎光亮剂能有效防止轮胎橡胶件的老化、龟裂、变形和褪色,而且成本较低。
216 一种法兰专用复合抛光粉及其制备方法 CN201510027833.1 2015-01-20 CN104592899A 2015-05-06 夏明锁
发明公开了一种法兰专用复合抛光粉及其制备方法,涉及阀门制造技术领域,由如下质量分数的原料制成:55-60%、藻土5-8%、石英粉5-8%、滑石粉3-5%、白炭黑3-5%、母粉2-3%、羧甲基纤维素钠1-2%、纤维1-2%、纳米碳酸0.5-1%、棕榈酸0.5-1%、甲基硅油3-5%、甘油3-5%、5-10%。本发明以氧化铝为主要磨料,并添加适量辅助磨料和分散剂,制得的抛光粉性质稳定且储存和运输方便,使用时只需加入适量水调成稠状涂覆于待抛光法兰上,能够加速抛光过程,增强抛光效果,并且对抛光机械具有一定的保护作用。
217 一种溶胶的制备方法 CN201410505702.5 2014-09-26 CN104592895A 2015-05-06 顾忠华; 潘国顺; 龚桦; 邹春莉; 罗桂海; 王鑫; 陈高攀
发明涉及一种溶胶的制备方法,属于电子制造及SiO2胶体制备技术领域,该方法包括以下步骤:配置气相二氧化硅溶液,配置酸性水溶液,将酸性水溶液缓慢滴加到气相二氧化硅水溶液中,滴加完成后,将温度升高,蒸出副产品醇,并添加与加热产生的蒸发量等体积的超纯水,在上述混合液中添加表面活性剂;本发明制备的二氧化硅溶胶,主要杂质金属离子含量在1ppm以内、粒径均匀、高度分散、含量可达40%的纳米SiO2胶体。采用本发明制备的复合型硅溶胶稳定性不仅与直接采用硅醇水解法所得硅溶胶相当而且研磨更佳。
218 一种含复合磨料的化学机械抛光 CN201410852457.5 2014-12-31 CN104559799A 2015-04-29 刘卫丽; 宋志棠
发明涉及化学抛光领域,具体涉及一种含复合磨料的化学机械抛光液及其制备方法。所述化学机械抛光液,含有复合磨料,所述复合磨料由和三氧化二组成。所述复合磨料中,二氧化硅和三氧化二铝的重量比为0.1:1~3:1。本发明利用二氧化硅的化学活性和三氧化二铝的硬度之间的协同作用,可有效地提高蓝宝石的抛光效率。
219 一种基化学机械抛光 CN201410837824.4 2014-12-24 CN104559798A 2015-04-29 李沙沙; 刘卫丽; 宋志棠
一种基化学机械抛光液,以所述化学机械抛光液的总质量计,所述化学机械抛光液包括以下组分及百分含量:抛光颗粒0.1~30wt%、表面活性剂0.01~10wt%、余量为pH调节剂和性介质。本发明提供的化学机械抛光浆液对蓝宝石衬底材料的抛光速率可控制在50nm/min到200nm/min,同时表面粗糙度降低到了15?以下。利用上述抛光液可实现对蓝宝石衬底材料速率可控、表面低损伤并且无残留的抛光。
220 一种中草药皮具保养剂及其制备方法 CN201410776893.9 2014-12-17 CN104531919A 2015-04-22 林斌生
发明涉及一种中草药皮具保养剂及其制备方法,属于皮具保养剂制备领域;该保养剂由以下成分制得:10-30份板蓝根、20-40份吴茱萸、20-40份苦木、15-35份明子、25-45份鱼腥草、10-30份金花、20-45份叶、20-45份茵陈、15-35份陈皮、1-10份薄荷香精、10-20份吐温80;其制备由以下3个步骤完成:1.提取生物,2.提取挥发油,3.保养剂成型工艺;该保养剂具有清洁、抗菌的功能,并且能使皮具保持光亮和原有的色泽,可抑制部分细菌生长,保持皮具的清洁度。
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