| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 141 | 一种酸性纳米陶瓷抛光液 | CN201510991866.8 | 2015-12-23 | CN105482716A | 2016-04-13 | 张中明 |
| 本发明提供一种酸性纳米陶瓷抛光液，包括按重量份计的以下组分：30-80份胶体二氧化硅、0.1-2份阻垢分散剂和20-70份水；所述胶体二氧化硅固含量为30-50％，粒径范围为5-80nm；所述阻垢分散剂为醇胺、醚、聚胺或聚醚中的一种或两种以上；所述酸性纳米陶瓷抛光液的pH值为2-4。该酸性纳米陶瓷抛光液pH值适宜，具有较高的稳定性，耐存贮，抛光速率快。 | ||||||
| 142 | 蓝宝石研磨液、蓝宝石研磨液制备工艺及蓝宝石研磨液的使用方法 | CN201510872341.2 | 2015-12-02 | CN105482715A | 2016-04-13 | 莫宗均 |
| 本发明公开了蓝宝石研磨液，所述蓝宝石研磨液配方的重量份为：碳化硼13%，绿碳化硅12.7%，水72%，防锈研磨液1.3%，悬浮剂1.3%。蓝宝石研磨液制备工艺，其通过第一电动搅拌桶和第二电动搅拌桶共同实现制备。蓝宝石研磨液的使用方法主要是通过沙液比重值的测量来进行调节。本发明具有配方制作简单，制作简单，使用方便，制作成本低，避免蓝宝石研磨液对人体的伤害，保持悬浮力，缩短加工时间，提高加工效率，同时具有磨削力稳定的优点。 | ||||||
| 143 | 具有螯合剂官能团的涂料组合物 | CN201380011186.4 | 2013-02-22 | CN104136561B | 2016-04-13 | A·S·卡里卡里; T·泰萨科 |
| 本发明提供了地坪涂料组合物，其包含(A)水性溶剂；和(B)螯合聚合物，所述螯合聚合物包含源自于一种或多种氨基羧酸化合物或它们的盐、一种或多种其他可聚合单体、一种或多种烯键式不饱和单体和任选的一种或多种交联单体的单元。例如，所述氨基羧酸化合物或它们的盐可以是亚氨基二乙酸(IDA)、亚氨基二琥珀酸(IDS)、乙二胺三乙酸(ED3A)和乙二胺二琥珀酸(EDDS)或它们的盐的一种或多种。合适的可聚合单体可以是甲基丙烯酸缩水甘油酯(GMA)、烯丙基缩水甘油醚(AGE)、乙烯基苄基氯(VBC)、烯丙基溴和它们的衍生物的一种或多种。 | ||||||
| 144 | 一种纳米级不锈钢精密机械抛光液及其制备方法 | CN201510868500.1 | 2015-12-02 | CN105462503A | 2016-04-06 | 姚振红 |
| 本发明涉及一种纳米级不锈钢精密机械抛光液及其制备方法，所述的制备方法包括下述步骤：步骤1：按重量分别取月桂基磺化琥珀酸单酯二钠4-9份、乙二醇单硬脂酸酯2-5份、硫酸化蓖麻油2-6份、十聚甘油十油酸酯1-4份、十六烷基三甲基氯化铵2-5份、椰油酰胺基丙基氧化胺4-10份、1,2-丙二醇3-5份、去离子水120-200份，将上述的成分加热搅拌；步骤2：再向步骤1的混合液中按重量缓慢加入纳米氧化铝3-9份、纳米碳化硅2-5份、硼化钨粉末3-6份，搅拌，为纳米级不锈钢精密机械抛光液。制备得到的抛光液具有环保、无污染、抛光效率高的特点。 | ||||||
| 145 | 一种红木家具保养护理液 | CN201511003927.1 | 2015-12-29 | CN105419647A | 2016-03-23 | 赵建国 |
| 本发明公开了一种红木家具保养护理液，包括以下重量份的各原料分别为：葡萄糖30~45份、氢氧化钾溶液8~10份、醇酰胺10~15份、植物油10~15份、蜂蜡25~35份、有机溶剂20~35份，所述各原料的重量份分别为：葡萄糖30份、氢氧化钾溶液8份、醇酰胺10份、植物油10份、蜂蜡25份、有机溶剂20份。该发明提供的红木家具保养护理液，制作工艺简单，具有良好的湿化性和平整性。 | ||||||
| 146 | 包含硅烷改性金属氧化物的组合物 | CN201080012626.4 | 2010-01-19 | CN102361940B | 2016-03-02 | J.A.贝尔蒙特 |
| 本发明涉及包含硅烷改性金属氧化物的组合物，其中该硅烷改性金属氧化物包括连接有至少一个甲硅烷基的金属氧化物，且其中所述甲硅烷基包含至少一个-SO3-M+、-OSO3-M+、-SSO3-M+、-NHSO3-M+、-NR'SO3-M+、-NR'3+A-或-Q+A-基团。R′可相同或不同且其为：支化或未支化、取代或未取代的烷基、烯基或炔基；或取代或未取代的芳基、杂芳基、烷芳基、或芳烷基，M+为阳离子抗衡离子，且A-为阴离子抗衡离子。本发明进一步涉及用于所公开的化学机械抛光组合物中的硅烷改性金属氧化物。 | ||||||
| 147 | 控制臂抛光液材料组合物和控制臂抛光液的制备方法及应用 | CN201510927178.5 | 2015-12-11 | CN105349047A | 2016-02-24 | 梁俊峰; 马凯凯; 郑志军; 唐建平; 李振建; 黄守强; 骆建权 |
| 本发明公开了一种控制臂抛光液材料组合物和控制臂抛光液的制备方法及应用，其中，所述组合物包括硝酸、盐酸、乙二胺四乙酸二钠、草酸、高锰酸钾、碳酸钙和氧化锌；其中，相对于100重量份的所述硝酸，所述盐酸的含量为10-30重量份，所述乙二胺四乙酸二钠的含量为5-15重量份，所述草酸的含量为10-20重量份，所述高锰酸钾的含量为3-10重量份，所述碳酸钙的含量为1-10重量份，所述氧化锌的含量为5-15重量份。使得通过上述材料制得的抛光液在实际使用时能够在较短的时间内得到较好的抛光效果，不仅省时省力，且大大提高生产效率，进一步提高了实际生产中的使用效果，降低了使用成本。 | ||||||
| 148 | 一种地板上光蜡 | CN201510825711.7 | 2015-11-25 | CN105331292A | 2016-02-17 | 王璐 |
| 一种地板上光蜡,其由以下重量份数的原料制成：凡士林2-4份,聚乙烯蜡6-17份,四甲苯8-15份,矿物油6-10份,油酸2-4.5份,三乙醇胺1-3份,硅油7-14份,虫蜡6-18份,硬酯酸7-9份,乳化剂1-3份,硅烷偶联剂2.5-3.4份,氨水2-4份,催干剂0.2-0.4份,亚麻油12-20份,豆油8-11份。本发明的有益效果是：本发明的地板上光蜡,可形成一层保护膜，起到隔绝空气、水汽、灰尘的作用，提高了地板光亮，耐磨性能极佳。 | ||||||
| 149 | 用于清洁和涂覆硬表面的无条纹制剂 | CN201310256966.7 | 2013-06-25 | CN103509654B | 2016-02-03 | V·佩尔迪贡; T·泰萨克 |
| 本发明涉及用于清洁硬表面并在其上留下光泽、无条纹精饰的制剂，所述制剂包含一种或多种液体溶剂、一种或多种成膜聚合物、以及一种或多种聚合物表面活性剂，所述表面活性剂包含从环氧乙烷和环氧丁烷衍生的聚合单元。 | ||||||
| 150 | 合成石英玻璃基板抛光浆液及采用该抛光浆液制造合成石英玻璃基板 | CN201210599019.3 | 2012-11-16 | CN103173128B | 2016-01-27 | 松井晴信; 原田大实; 竹内正树 |
| 在合成石英玻璃基板的抛光中，采用一种抛光浆液，该抛光浆液包括(i)包括五肽的重复单元：-[缬氨酸-脯氨酸-甘氨酸-缬氨酸-甘氨酸]-、并且具有800-150,000分子量的低聚肽，或者该五肽与另-单体的共聚物，和(ii)胶体溶液。 | ||||||
| 151 | 使用可调抛光制剂的抛光方法 | CN201210418313.X | 2012-10-26 | CN103084971B | 2016-01-27 | 郭毅; K-A·K·雷迪 |
| 提供了一种使用化学机械抛光组合物浓缩物的多种稀释液以抛光基材，对包含过载地沉积在氮化硅上的多晶硅的基材进行化学机械抛光的方法，其中，用于抛光基材的所述浓缩物的第一稀释液被调节得具有第一多晶硅去除速率和第一多晶硅对氮化硅的去除速率选择性；以及，用于抛光基材的所述浓缩物的第二稀释液被调节得具有第二多晶硅去除速率和第二多晶硅对氮化硅的去除速率选择性。 | ||||||
| 152 | 硅晶圆研磨用组合物 | CN201480032514.3 | 2014-05-02 | CN105264647A | 2016-01-20 | 土屋公亮; 丹所久典; 市坪大辉; 森嘉男 |
| 本发明提供在磨粒存在下使用的硅晶圆研磨用组合物。该组合物包含硅晶圆研磨促进剂、含酰胺基聚合物和水。并且，前述含酰胺基聚合物在主链中具有构成单元A。前述构成单元A包含：构成前述含酰胺基聚合物的主链的构成碳原子；以及仲酰胺基或叔酰胺基。并且，构成前述仲酰胺基或叔酰胺基的羰基碳原子直接键合于前述主链构成碳原子上。 | ||||||
| 153 | 包含表面活性剂的化学机械抛光组合物 | CN201110150388.X | 2005-10-21 | CN102337080B | 2016-01-20 | 孙韬; 罗伯特·梅兹克 |
| 本发明涉及包含表面活性剂的化学机械抛光组合物，更具体地说，本发明提供一种抛光组合物，其包括热解法氧化铝，α-氧化铝，二氧化硅，非离子表面活性剂，金属螯合有机酸，及液体载体。本发明还提供一种化学机械抛光基板的方法，其包括将基板与抛光垫和化学机械抛光组合物接触，并磨掉至少部分基板以抛光该基板。 | ||||||
| 154 | 蓝宝石无边框触屏面板的生产方法 | CN201510339565.7 | 2015-06-18 | CN105150031A | 2015-12-16 | 苏凤坚; 刘俊; 郝正平 |
| 本发明涉及一种蓝宝石无边框触屏面板的生产方法，具体步骤包括晶体掏棒、晶体切割、激光取片、研磨、倒边、退火、双面抛光、涂油墨和热烘等工序；本发明的蓝宝石无边框触屏面板的生产方法成片质量高，废品率低，生产效率高。 | ||||||
| 155 | 合成石英玻璃基板抛光浆料和利用该抛光浆料制造合成石英玻璃基板 | CN201110286406.7 | 2011-07-26 | CN102516872B | 2015-12-16 | 松井晴信; 原田大实; 竹内正树 |
| 一种包括胶原衍生物和胶体溶液的抛光浆料，其有效抛光合成石英玻璃基板。其防止具有可被高灵敏度缺陷探测仪检测到的尺寸的缺陷的形成。 | ||||||
| 156 | 从衬底去除本体材料层的方法以及适于该方法的化学机械抛光剂 | CN201080053661.0 | 2010-11-25 | CN102640275B | 2015-12-02 | V·I·莱曼; S·艾伯特; M·布兰茨; Y·蓝; P·扎查里阿斯; I·古拜杜林; Y·李 |
| 一种通过CMP从衬底去除本体材料层并使暴露表面平面化的方法，包括：(1)提供CMP试剂，其在未添加辅助材料的情况下在化学机械抛光结束时呈现：-与其开始时相同的SER和比其开始时更低的MRR，-比初始SER更低的SER以及与初始MRR相同或基本相同的MRR，或-比其开始时更低的SER和更低的MRR；(2)使所述本体材料层的表面与所述CMP试剂接触；(3)用所述CMP试剂对所述本体材料层进行CMP；(4)继续CMP直至从暴露表面去除所有材料残留物；以及一种CMP试剂及其在电和光学器件制造中的用途。 | ||||||
| 157 | 一种氧化铈抛光液及其制备方法 | CN201510510778.1 | 2015-08-19 | CN105086836A | 2015-11-25 | 李永双 |
| 本发明公开了一种氧化铈抛光液。其主体成分及用量包括：黄原胶0.1-0.3份，三聚磷酸钠0.5-3份，二甲苯磺酸钠3-7份，EDTA-2Na0.1-0.3份，甘油3-7份，聚乙二醇400 2-5份，硅酸镁铝1-3份，硫脲0.1-0.5份，三乙醇胺1-5份，氧化铈抛光粉50-60份，水20-35份。本发明氧化铈抛光液，抛光速度快，抛光精度高，划伤减少，悬浮性能好。本发明抛光液具有较优的化学与物理性能，在工业制品抛光中获得了广泛的应用，在各种光学玻璃器件、电视机显像管、光学眼镜片、示波管、平板玻璃、半导体晶片和金属精密制品等的抛光应用。 | ||||||
| 158 | 一种用于计算机硬盘的抛光液及其制备方法 | CN201410792152.X | 2014-12-19 | CN105086834A | 2015-11-25 | 李立群 |
| 本发明公开了一种用于计算机硬盘的抛光液，其特征是包括按重量份计：离子水15～25份、氧化剂2～5份、有机络合剂3～6份和研磨剂65～80份；所述氧化剂为过氧醋酸、超氯酸盐、硝酸铁或过氧异丁酸中的至少一种，所述有机络合剂为有机胺、有机酸或有机磷中的至少一种，所述研磨剂为氧化镁溶胶。本发明组分形成中性及碱性的抛光液，采用低硬度的研磨剂的方法来提高抛光效果，大大降低了对硬盘边缘的抛光损失，且对抛光机没有任何腐蚀效应，增加了抛光机的寿命。 | ||||||
| 159 | 一种对铺设在红土地上的石材进行保洁的方法 | CN201510346099.5 | 2015-06-19 | CN105081911A | 2015-11-25 | 胡炜; 田锐; 陈杰; 邹娟; 王琦; 王义; 游娟; 张璐; 朱勇 |
| 本发明提供一种对铺设在红土地上的石材进行保洁的方法，其包括以下步骤：对石材进行打磨后，涂布凝胶状清洁剂对石材进行清洁，所述清洁剂是包括10～15g/L的草酸、1～3g/L的四丁基氢氧化铵、0.5～1g/L的季戊四醇酯及2～5g/L的黄原胶的水溶液；再对石材精细打磨，后将增光养护剂喷洒在石材表面进行磨抛处理，其中所述增光养护剂包括聚乙烯蜡1～3wt％、聚丙烯微粉蜡0.2～0.8wt％、全氟烷基乙基丙烯酸酯5～10wt％、三乙氧基硅烷2～6％、羟甲基纤维素2～5wt％及氯化钠0.2～0.4wt％。本发明对石材的清洁养护处理工艺步骤简单，对石材的防护效果持久，减少了石材后续的日常定期护理工作量。 | ||||||
| 160 | 研磨用组合物 | CN201180059395.7 | 2011-10-06 | CN103260827B | 2015-11-25 | 芦高圭史; 森永均; 安井晃仁 |
| 本发明的研磨用组合物含有表面具有多个突起的胶体二氧化硅颗粒。研磨用组合物中的胶体二氧化硅颗粒中粒径比胶体二氧化硅颗粒的体积平均粒径大的颗粒的表面具有的突起的高度分别除以同一突起的基部的宽度而得到的值的平均为0.245以上。胶体二氧化硅颗粒中粒径比胶体二氧化硅颗粒的体积平均粒径大的颗粒的平均长径比优选为1.15以上。胶体二氧化硅颗粒中粒径比胶体二氧化硅颗粒的体积平均粒径大的颗粒的表面具有的突起的平均高度优选为3.5nm以上。 | ||||||
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